一種硅片清洗設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種工業(yè)產(chǎn)品清洗設(shè)備，尤其涉及一種硅片清洗設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)在的工業(yè)產(chǎn)品生產(chǎn)過程中，例如硅片的生產(chǎn)過程中，需要對生產(chǎn)出來的硅片進行清洗?，F(xiàn)有的清洗流程是，在清洗前先將8個裝有硅片的塑料片盒裝入不銹鋼清洗籃中，放入水槽中避免接觸空氣，然后在清洗過程中，通過人工將盛滿硅片片盒的不銹鋼清洗籃放入上料臺。放置上料臺后，硅片表面的水會逐漸流失，如若員工放置過早，會造成硅片接觸空氣，產(chǎn)生氧化等化學物理作用，導致后續(xù)清洗不良。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用實施例所要解決的技術(shù)問題在于，針對現(xiàn)有工藝中不銹鋼籃在上料臺上放置過早，會導致硅片表面純水流失，接觸空氣被氧化，導致后續(xù)清洗不良的問題，提出了一種硅片清洗設(shè)備。
[0004]為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型實施例提供了一種硅片清洗設(shè)備，其包括上料臺、噴淋裝置和硅片清洗機；上料臺與硅片清洗機入口端連接，噴淋裝置至少部分位于上料臺的上方，以對上料臺上的硅片進行噴淋。
[0005]其中，硅片清洗機包括依次設(shè)置的純水清洗槽、加清洗劑清洗槽、純水漂洗槽和烘干隧道，純水清洗槽遠離加清洗劑清洗槽的一端連接上料臺。
[0006]其中，純水清洗槽包括依次設(shè)置的第一純水清洗槽和第二純水清洗槽；加清洗劑清洗槽包括依次設(shè)置的第一加清洗劑清洗槽和第二加清洗劑清洗槽；純水漂洗槽包括依次設(shè)置的第一純水漂洗槽、第二純水漂洗槽和第三純水漂洗槽；第一純水清洗槽連接上料臺，第二純水清洗槽連接第一加清洗劑清洗槽，第二加清洗劑清洗槽連接第一純水漂洗槽，第三純水漂洗槽連接烘干隧道。
[0007]其中，噴淋裝置數(shù)量是一個，位于上料臺正上方。
[0008]其中，噴淋裝置包括噴淋頭以及為與噴淋頭連接并進行供水的水管，噴淋頭設(shè)置于上料臺的正上方。
[0009]其中，噴淋裝置數(shù)量是兩個，在上料臺上方兩側(cè)對稱分布。
[0010]其中，噴淋裝置為至少三個，均勻設(shè)置于上料臺周圍，且至少每個噴淋裝置的部分設(shè)置于上料臺的上方。
[0011]實施本實用新型實施例，具有如下有益效果:本實用新型的硅片清洗設(shè)備在上料臺上安裝有噴淋裝置，不間斷的向硅片噴淋純水，避免了硅片由于在上料臺上放置時間過長導致的氧化，保證了清洗質(zhì)量。
【附圖說明】
[0012]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0013]圖1是本實用新型提供的硅片清洗設(shè)備的第一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0014]下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0015]請參見圖1，圖1是本實用新型提供的硅片清洗設(shè)備的第一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。噴淋裝置10、上料臺20、以及硅片清洗機(未標示)，硅片清洗機又包括純水清洗槽30、加清洗劑清洗槽40、純水漂洗槽50以及烘干隧道60。
[0016]噴淋裝置10連接硅片清洗機的入口端，即連接純水清洗槽30。噴淋裝置10包括噴淋頭11以及與噴淋頭11相連接用于供水的水管12，噴淋頭11位于上料臺20的上方。在本實施例中，噴淋頭11直接固定于水管12上，而在其它實施例中，噴淋頭11可固定于上料臺20上。在清洗前，裝有硅片的不銹鋼清洗籃放置在上料臺20上，噴淋頭11不斷向不銹鋼清洗籃噴出純水，來隔絕硅片與空氣的接觸，避免硅片氧化。
[0017]純水清洗槽30包括依次設(shè)置的第一純水清洗槽31以及第二純水清洗槽32 ;加清洗劑清洗槽40包括依次設(shè)置的第一加清洗劑清洗槽41以及第二加清洗劑清洗槽42 ;純水漂洗槽50包括依次設(shè)置的第一純水漂洗槽51、第二純水漂洗槽52以及第三純水漂洗槽53。所述第一純水清洗槽31連接所述上料臺，所述第二純水清洗槽32連接所述第一加清洗劑清洗槽41，所述第二加清洗劑清洗槽42連接所述第一純水漂洗槽51，所述第三純水漂洗槽53連接所述烘干隧道60。
[0018]上料臺20處放置硅片或裝有硅片的塑料片盒或裝有塑料片盒的不銹鋼清洗籃后，噴淋裝置10對上料臺20進行噴淋，以防止硅片暴漏在空氣中。當需要對硅片進行清洗時，機械臂從上料臺20上抓取不銹鋼清洗籃，使其依次通過第一純水清洗槽31、第二純水清洗槽32、第一加清洗劑清洗槽41、第二加清洗劑清洗槽42、第一純水漂洗槽51、第二純水漂洗槽52以及第三純水漂洗槽53進行清洗，最后通過烘干隧道60進行烘干。
[0019]本實施例為優(yōu)選實施例，在其它實施例中，可以根據(jù)實際情況進行修改，例如噴淋頭11的數(shù)量，可以是兩個，并且對稱設(shè)置；或者是三個或三個以上，均勻的環(huán)繞設(shè)置于所述上料臺20周圍，且至少每個所述噴淋裝置的部分設(shè)置于所述上料臺的上方；例如噴淋頭11的形狀可以為矩形、圓形或者圓環(huán)形，可根據(jù)實際情況進行改進。
[0020]實施本實用新型實施例，具有如下有益效果:本實用新型的硅片清洗設(shè)備在上料臺上安裝有噴淋裝置，不間斷的向硅片噴淋純水，避免了硅片由于在上料臺上放置時間過長導致的氧化，保證了清洗質(zhì)量。
[0021]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種硅片清洗設(shè)備，其特征在于，其包括上料臺、噴淋裝置和硅片清洗機；所述上料臺與所述硅片清洗機入口端連接，所述噴淋裝置至少部分位于所述上料臺的上方，以對所述上料臺上的硅片進行噴淋。
2.如權(quán)利要求1所述的一種硅片清洗設(shè)備，其特征在于，所述硅片清洗機包括依次設(shè)置的純水清洗槽、加清洗劑清洗槽、純水漂洗槽和烘干隧道，所述純水清洗槽遠離所述加清洗劑清洗槽的一端連接所述上料臺。
3.如權(quán)利要求2所述的一種硅片清洗設(shè)備，其特征在于，所述純水清洗槽包括依次設(shè)置的第一純水清洗槽和第二純水清洗槽；所述加清洗劑清洗槽包括依次設(shè)置的第一加清洗劑清洗槽和第二加清洗劑清洗槽；所述純水漂洗槽包括依次設(shè)置的第一純水漂洗槽、第二純水漂洗槽和第三純水漂洗槽；所述第一純水清洗槽連接所述上料臺，所述第二純水清洗槽連接所述第一加清洗劑清洗槽，所述第二加清洗劑清洗槽連接所述第一純水漂洗槽，所述第三純水漂洗槽連接所述烘干隧道。
4.如權(quán)利要求1所述的一種硅片清洗設(shè)備，其特征在于，所述噴淋裝置數(shù)量是一個，且至少部分位于上料臺正上方。
5.如權(quán)利要求4所述的一種硅片清洗設(shè)備，其特征在于，所述噴淋裝置包括噴淋頭以及為與所述噴淋頭連接并進行供水的水管，所述噴淋頭設(shè)置于所述上料臺的正上方。
6.如權(quán)利要求1所述的一種硅片清洗設(shè)備，其特征在于，所述噴淋裝置數(shù)量是兩個，在上料臺上方兩側(cè)對稱分布。
7.如權(quán)利要求1所述的一種硅片清洗設(shè)備，其特征在于，所述噴淋裝置為至少三個，均勻設(shè)置于所述上料臺周圍，且至少每個所述噴淋裝置的部分設(shè)置于所述上料臺的上方。
【專利摘要】本實用新型實施例公開了一種硅片清洗設(shè)備，該硅片清洗設(shè)備包括上料臺、噴淋裝置和硅片清洗機；所述上料臺與所述硅片清洗機入口端連接，所述噴淋裝置至少部分位于所述上料臺的上方，以對所述上料臺上的硅片進行噴淋。實施本實用新型實施例，具有如下有益效果：本實用新型的硅片清洗設(shè)備在上料臺上安裝有噴淋裝置，不間斷的向硅片噴淋純水，避免了硅片由于在上料臺上放置時間過長導致的氧化，保證了清洗質(zhì)量。
【IPC分類】B08B3-10, B08B13-00, B08B3-04
【公開號】CN204564642
【申請?zhí)枴緾N201520249710
【發(fā)明人】洪育林, 張震, 安冠宇, 李文文, 劉凱
【申請人】武漢宜田科技發(fā)展有限公司
【公開日】2015年8月19日
【申請日】2015年4月23日