一種硅片清洗系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體領(lǐng)域，涉及半導(dǎo)體擴(kuò)散片制作工藝中的一種工具，具體涉及一種硅片清洗系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]硅片，是一種半導(dǎo)體器件基礎(chǔ)材料，是由硅錠通過(guò)切割加工成具有一定厚度的片狀基底材料。通過(guò)在基底材料上進(jìn)行若干工序形成具有各種功能的半導(dǎo)體器件，是組成各種電子設(shè)備的基礎(chǔ)。在半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中，大約有20%的工序與硅片清洗有關(guān)。硅片經(jīng)過(guò)切片、倒角、研磨、表面處理、拋光、外延等不同工序加工后，表面已經(jīng)受到嚴(yán)重的污染，清洗的目的就是為了去除硅片表面顆粒、金屬離子以及有機(jī)物等污染。
[0003]目前硅片清洗主要是以化學(xué)清洗為主，化學(xué)清洗是指利用各種化學(xué)試劑和有機(jī)溶劑與吸附在被清洗物體表面上的雜質(zhì)及油污發(fā)生化學(xué)反應(yīng)或溶解作用，或伴以超聲、加熱、抽真空等物理措施，使雜質(zhì)從被清除物體的表面脫附，然后用大量高純熱、冷去離子水沖洗，從而獲得潔凈表面的過(guò)程?；瘜W(xué)清洗又可以分為濕法化學(xué)清洗和干法化學(xué)清洗，其中濕法化學(xué)清洗技術(shù)在硅片表面清洗中仍處于主導(dǎo)地位。
[0004]在濕法化學(xué)清洗中，通常采用硅片清洗機(jī)進(jìn)行清洗，采用清洗花籃來(lái)盛放硅片，再將清洗花籃放入清洗機(jī)中的清洗液中?，F(xiàn)有的條件下，一般是將硅片需經(jīng)過(guò)多級(jí)清洗，以去除附著在硅片表面的顆粒和氧化物。目前所用清洗設(shè)備為多級(jí)槽式清洗機(jī)，通常含有三級(jí)以上清洗槽，待清洗硅片從第一級(jí)清洗槽開(kāi)始逐級(jí)清洗后移出，在第一清洗槽中硅片表面附著的雜質(zhì)最多，以后將逐級(jí)減少。在現(xiàn)有的多級(jí)清洗槽結(jié)構(gòu)中，每一級(jí)清洗槽有獨(dú)立的進(jìn)水和出水系統(tǒng)，每級(jí)都有廢水排出，各級(jí)清洗槽中所排出的污水直接排放，清洗硅片所需消耗的水量很大，這樣不僅耗水量大，而且還會(huì)污染環(huán)境。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]根據(jù)以上現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供一種硅片清洗系統(tǒng)，通過(guò)對(duì)現(xiàn)有的硅片清洗系統(tǒng)進(jìn)行結(jié)構(gòu)調(diào)整，以達(dá)到清洗效果更好，且廢水能夠再次利用的目的，以節(jié)約生產(chǎn)用水。
[0006]本實(shí)用新型所述的一種硅片清洗系統(tǒng)，其特征在于：包括依次連接的噴淋組件、儲(chǔ)水池和硅片清洗機(jī)，其中，噴淋組件的出水口通過(guò)出水管路與儲(chǔ)水池的進(jìn)水口相連，硅片清洗機(jī)的進(jìn)水口通過(guò)進(jìn)水管路與儲(chǔ)水池的出水口相連；
[0007]所述的噴淋組件包括清洗槽、設(shè)于槽體上方的硅片滾筒傳輸裝置和設(shè)置在硅片滾筒傳輸裝置上方用于噴射清洗硅片的多個(gè)噴淋管，所述的噴淋組件的出水口位于清洗槽上。
[0008]其中，優(yōu)選方案如下：
[0009]噴淋組件與儲(chǔ)水池之間的出水管路上設(shè)置有袋式過(guò)濾器。袋式過(guò)濾器可以選用200 μ m規(guī)格的袋式過(guò)濾器，可以將噴淋組件清洗過(guò)后廢水中的微粒物進(jìn)行過(guò)濾。
[0010]噴淋組件的出水口水平位置高于儲(chǔ)水池的進(jìn)水口，儲(chǔ)水池的出水口水平位置高于硅片清洗機(jī)的進(jìn)水口。通過(guò)此種方案設(shè)計(jì)，可以減少了水栗的采購(gòu)開(kāi)支，水流可以直接自流至下一道工序，節(jié)約了成本。
[0011]本實(shí)用新型所具有的有益效果是：（I)噴淋組件利用自身噴淋優(yōu)勢(shì)可以替代2?3級(jí)清洗，節(jié)約了設(shè)備成本和用水電成本；（2)經(jīng)過(guò)噴淋組件清洗后的廢水可以經(jīng)過(guò)簡(jiǎn)單處理后再次使用，用作硅片清洗機(jī)的清洗用水，節(jié)水效果十分顯著，既降低了清洗成本，又減少對(duì)水資源的浪費(fèi)。
【附圖說(shuō)明】
[0012]圖I為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖中：1、清洗槽2、硅片滾筒傳輸裝置3、噴淋管4、儲(chǔ)水池5、硅片清洗機(jī)
6、袋式過(guò)濾器。
【具體實(shí)施方式】
[0014]以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步描述。
[0015]如圖I所示，一種硅片清洗系統(tǒng)，包括依次連接的噴淋組件、儲(chǔ)水池4和硅片清洗機(jī)5，其中，噴淋組件的出水口通過(guò)出水管路與儲(chǔ)水池4的進(jìn)水口相連，硅片清洗機(jī)5的進(jìn)水口通過(guò)進(jìn)水管路與儲(chǔ)水池4的出水口相連；
[0016]所述的噴淋組件包括清洗槽1、設(shè)于槽體上方的硅片滾筒傳輸裝置2和設(shè)置在硅片滾筒傳輸裝置2上方用于噴射清洗硅片的多個(gè)噴淋管3，所述的噴淋組件的出水口位于清洗槽I上。
[0017]噴淋組件與儲(chǔ)水池4之間的出水管路上設(shè)置有袋式過(guò)濾器6。袋式過(guò)濾器6可以選用200 μπι規(guī)格的袋式過(guò)濾器，可以將噴淋組件清洗過(guò)后廢水中的微粒物進(jìn)行過(guò)濾。
[0018]噴淋組件的出水口水平位置高于儲(chǔ)水池4的進(jìn)水口，儲(chǔ)水池4的出水口水平位置高于硅片清洗機(jī)5的進(jìn)水口。通過(guò)此種方案設(shè)計(jì)，可以減少了水栗的采購(gòu)開(kāi)支，水流可以直接自流至下一道工序，節(jié)約了成本。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種硅片清洗系統(tǒng)，其特征在于：包括依次連接的噴淋組件、儲(chǔ)水池和硅片清洗機(jī)，其中，噴淋組件的出水口通過(guò)出水管路與儲(chǔ)水池的進(jìn)水口相連，硅片清洗機(jī)的進(jìn)水口通過(guò)進(jìn)水管路與儲(chǔ)水池的出水口相連； 所述的噴淋組件包括清洗槽、設(shè)于槽體上方的硅片滾筒傳輸裝置和設(shè)置在硅片滾筒傳輸裝置上方用于噴射清洗硅片的多個(gè)噴淋管，所述的噴淋組件的出水口位于清洗槽上。2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種硅片清洗系統(tǒng)，其特征在于：噴淋組件與儲(chǔ)水池之間的出水管路上設(shè)置有袋式過(guò)濾器。3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種硅片清洗系統(tǒng)，其特征在于：噴淋組件的出水口水平位置高于儲(chǔ)水池的進(jìn)水口，儲(chǔ)水池的出水口水平位置高于娃片清洗機(jī)的進(jìn)水口。
【專利摘要】本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體領(lǐng)域，涉及一種硅片清洗系統(tǒng)，包括依次連接的噴淋組件、儲(chǔ)水池和硅片清洗機(jī)，其中，噴淋組件的出水口通過(guò)出水管路與儲(chǔ)水池的進(jìn)水口相連，硅片清洗機(jī)的進(jìn)水口通過(guò)進(jìn)水管路與儲(chǔ)水池的出水口相連；所述的噴淋組件包括清洗槽、設(shè)于槽體上方的硅片滾筒傳輸裝置和設(shè)置在硅片滾筒傳輸裝置上方用于噴射清洗硅片的多個(gè)噴淋管，所述的噴淋組件的出水口位于清洗槽上。本實(shí)用新型所具有的有益效果是：噴淋組件利用自身噴淋優(yōu)勢(shì)可以替代2～3級(jí)清洗，節(jié)約了設(shè)備成本和用水電成本；經(jīng)過(guò)噴淋組件清洗后的廢水可以經(jīng)過(guò)簡(jiǎn)單處理后再次使用，用作硅片清洗機(jī)的清洗用水，節(jié)水效果十分顯著，既降低了清洗成本，又減少對(duì)水資源的浪費(fèi)。
【IPC分類】H01L21/67, B08B3/02
【公開(kāi)號(hào)】CN205146761
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520820350
【發(fā)明人】徐海濤
【申請(qǐng)人】青島金匯源電子有限公司
【公開(kāi)日】2016年4月13日
【申請(qǐng)日】2015年10月21日