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一種硅片清洗裝置的制作方法

文檔序號(hào):1805950閱讀:295來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:一種硅片清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及硅片生產(chǎn)裝置,尤其設(shè)在多線切割機(jī)內(nèi)的一種硅片清洗裝置。
背景技術(shù)
隨著大規(guī)模集成電路的發(fā)展,對(duì)半導(dǎo)體的要求也越來(lái)越強(qiáng)烈,而硅片表面的潔凈度及表面態(tài)對(duì)高質(zhì)量的硅器件工藝品是至關(guān)重要的,如果硅片表面潔凈度達(dá)不到要求,那么無(wú)論其它工藝步驟控制得多么優(yōu)秀,也是不可能獲得高質(zhì)量的半導(dǎo)體器件的?,F(xiàn)有技術(shù)中硅片的清洗皆是在切割完硅片之后進(jìn)行的,而在線切割硅片時(shí),切割的線會(huì)帶有碎屑,從而使切割的線退出時(shí)會(huì)刮傷切割好的硅片。更重要的是硅塊在多線切割機(jī)內(nèi)完成切割后,再拿出在多線切割機(jī)外進(jìn)行清洗噴淋時(shí)碰到的最大問(wèn)題就是硅片之間粘結(jié)在一起,硅片粘結(jié)面之間很難清洗得到,無(wú)法徹底清洗干凈,工作效率不高,所加工出來(lái)的硅片質(zhì)量不高,導(dǎo)致所獲得的半導(dǎo)體器件質(zhì)量也不聞。

實(shí)用新型內(nèi)容根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)中所存在的不足,本實(shí)用新型的主要目的是:提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單和硅片清洗效率高效的硅片清洗裝置。為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:一種硅片清洗裝置,其設(shè)于多線切割機(jī)內(nèi),所述多線切割機(jī)包括四個(gè)排放成矩形的導(dǎo)輪、多根切割鋼線以及四組砂漿噴嘴,多根所述切割鋼線依次纏繞在四個(gè)所述導(dǎo)輪上且相應(yīng)的形成兩個(gè)用于切割的矩形切割線網(wǎng),其特征在于,所述硅片清洗裝置包括噴淋管道,兩個(gè)所述切割鋼線網(wǎng)分別包括第一切割面和第二切割面,所述第一切割面和所述第二切割面分別設(shè)有第一側(cè)和第二側(cè),所述第一側(cè)和所述第二側(cè)分別位于所述第一切割面和所述第二切割面上方,每?jī)山M所述砂漿噴嘴分別位于所述第一側(cè)和所述第二側(cè),且所述砂漿噴嘴軸線方向與所述導(dǎo)輪軸線方向平行,所述噴淋管道與所述砂漿噴嘴并行排放且置于兩組所述砂漿噴嘴之間,所述噴淋管道管壁上開(kāi)有一沿噴淋管道軸心方向的噴淋結(jié)構(gòu),所述噴淋結(jié)構(gòu)用于噴淋出液體。其中,所述一種硅片清洗裝置還包括噴淋管路系統(tǒng);所述噴淋管路系統(tǒng)包括依次連接的用于收集噴淋液的噴淋液收集室、用于將所述噴淋液收集室中的所述噴淋液回收的噴淋液回收系統(tǒng)、用于將所述噴淋液回收系統(tǒng)中的所述噴淋液收集的噴淋液收集裝置、用于使所述噴淋液收集裝置中的所述噴淋液加壓的噴淋液加壓系統(tǒng)以及將所述噴淋液加壓系統(tǒng)中的所述噴淋液保持在同一個(gè)溫度的噴淋液恒溫系統(tǒng)所述噴淋管道上接在所述噴淋液恒溫系統(tǒng)上。其中,所述噴淋管道設(shè)有八組,每四組所述噴淋管道分別位于所述第一側(cè)和所述第二側(cè),且與所述砂漿噴嘴并行排放并置于兩組所述砂漿噴嘴之間,所述噴淋管道包括有第三側(cè),每?jī)山M所述噴淋管道第三側(cè)相對(duì),所述噴淋結(jié)構(gòu)設(shè)在所述第三側(cè)。其中,所述噴淋結(jié)構(gòu)開(kāi)在所述第三側(cè)的中間位置。[0010]其中,所述噴淋結(jié)構(gòu)為密集的小孔。 其中,所述噴淋結(jié)構(gòu)為槽,所述槽的兩端為封閉端。其中,所述槽的橫截面包括有第一面和第二面,所述第一面與所述噴淋管道徑向平行,所述第二面與所述第一面呈銳角。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比較,通過(guò)將所述硅片清洗裝置設(shè)置在所述多線切割機(jī)內(nèi),使得多線切割機(jī)切割完硅片后,切割鋼線在進(jìn)行退刀時(shí)不會(huì)刮傷切割好的硅片,更重要的是,省卻了把切割好的硅片在多線切割機(jī)外進(jìn)行清洗的工序,直接變成在多線切割機(jī)內(nèi)清洗,使得加工好的硅片之間不會(huì)粘結(jié)在一起,能高效的清洗硅片,操作簡(jiǎn)便,工作效率高,降低了成本,帶來(lái)了經(jīng)濟(jì)利益。本實(shí)用新型中的其它有益效果,還將在具體實(shí)施例中進(jìn)一步說(shuō)明。

為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見(jiàn)地,下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1是本實(shí)施例一中一種硅片清洗裝置的示意圖;圖2是本實(shí)施例一中的一種噴淋管道的示意圖;圖3是圖2中一種噴淋管道的橫截面剖視圖;圖4是本實(shí)施例一中噴淋管路系統(tǒng)的示意圖;圖5是本實(shí)施例二中的一種噴淋管道的示意圖;圖6是圖5中一種噴淋管道的橫截面剖視圖。
具體實(shí)施方式
為了使本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題、技術(shù)方案及有益效果更加清楚明白,以下結(jié)合實(shí)施例及附圖,對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解,此部分所描述的具體實(shí)施例僅可用以解釋本實(shí)用新型,并不用于限定本實(shí)用新型。如圖1所示,本實(shí)施例公開(kāi)了一種硅片清洗裝置10,所述多線切割機(jī)包括四個(gè)排放成矩形的導(dǎo)輪1、多根切割鋼線2以及四組砂漿噴嘴3,多根所述切割鋼線2依次纏繞在四個(gè)所述導(dǎo)輪I上且相應(yīng)的形成矩形切割線網(wǎng),在本實(shí)施例中,所述導(dǎo)輪I為四個(gè),排列成水平放置的矩形,所述矩形每個(gè)角上各有一個(gè)導(dǎo)輪I。四個(gè)所述導(dǎo)輪I上纏繞有多根所述切割鋼線2,多根所述切割鋼線依次纏繞在四個(gè)所述導(dǎo)輪上且相應(yīng)的形成兩個(gè)用于切割的矩形切割線網(wǎng),兩個(gè)所述切割鋼線網(wǎng)分別包括第一切割面201和第二切割面202,所述第一切割面201和所述第二切割面202皆與地面平行,所述第一切割面201與所述第二切割面202分別設(shè)有第一側(cè)和第二側(cè),所述第一側(cè)與所述第二側(cè)分別位于所述第一切割面201和所述第二切割面202上方,所述切割鋼線2用于切割硅塊5,加工出硅片。所述砂漿噴嘴3 —共有四組,每?jī)山M所述砂漿噴嘴3分別位于所述第一側(cè)和所述第二側(cè),并且,所述砂漿噴嘴3軸線方向與所述導(dǎo)輪I軸線方向平行,每?jī)山M所述砂漿噴嘴3中的兩個(gè)砂漿噴嘴3分別位于所述第一側(cè)和所述第二側(cè)兩側(cè)。如圖2到圖3所示,為了在切割硅塊5后,能夠第一時(shí)間對(duì)切割好的硅片進(jìn)行清洗,所述硅片清洗裝置10設(shè)于所述多線切割機(jī)內(nèi),所述噴淋管道4與所述砂漿噴嘴3并行排放且置于兩組所述砂漿噴嘴3之間,在本實(shí)施例中,所述噴淋管道4為細(xì)小的管道,并且噴淋管道端部402為密封的,在噴淋管道管壁處403開(kāi)有噴淋結(jié)構(gòu)401,所述噴淋結(jié)構(gòu)401用于噴淋出液體。由于噴淋管道4是為了解決硅片之間的粘接問(wèn)題,在本實(shí)施例中,所述噴淋管道4位于所述硅塊5的兩側(cè),并且,因?yàn)樵诙嗑€切割機(jī)內(nèi),一次切割兩個(gè)硅塊5,所述硅塊5設(shè)有內(nèi)側(cè)502和相對(duì)設(shè)置的外側(cè)501,兩個(gè)所述娃塊內(nèi)側(cè)502相對(duì)著,兩個(gè)所述娃塊外側(cè)501背對(duì)著,故所述噴淋管道4分為八組,每組分別有一條,所述噴淋管道4 一共有八條,分別為兩個(gè)位于所述娃塊5的兩外側(cè)501和兩個(gè)位于所述娃塊5的兩內(nèi)側(cè)502,其中,兩個(gè)位于所述硅塊5的兩外側(cè)501的所述噴淋管道4,且與所述砂漿噴嘴2并列排放在一起,兩個(gè)位于所述硅塊兩內(nèi)側(cè)502的所述噴淋管道4并列排放在一起。為了保證噴淋管道4的沖擊力度,所述噴淋管道4與所述切割鋼線2和所述硅塊5的距離相當(dāng)近但不會(huì)相互接觸。為了讓水流從所述噴淋管道4中噴淋出來(lái),沖洗硅片,在所述噴淋管道4第三側(cè)即每?jī)山M所述噴淋管道4相對(duì)著的一側(cè)開(kāi)有一沿噴淋管道4軸心方向的噴淋結(jié)構(gòu)401,所述噴淋結(jié)構(gòu)401用于噴淋出液體。為了獲得更高的清洗效率,所述噴淋結(jié)構(gòu)401開(kāi)在所述噴淋管道4第三側(cè)的中間位置。為了方便加工和節(jié)約成本,在本實(shí)施例中,所述噴淋結(jié)構(gòu)401為密集的小孔401a。在所述噴淋管道4第三側(cè)加工出若干個(gè)細(xì)小的小孔401a,保證水流可以噴射而出,又有足夠的水量可以滿足清洗硅片的要求。如圖4所示,所述硅片清洗裝置10還包括噴淋管路系統(tǒng)6,在本實(shí)施例中,所述噴淋管路系統(tǒng)6包括依次連接的用于收集噴淋液的噴淋液收集室601、用于將所述噴淋液收集室601中的所述噴淋液回收的噴淋液回收系統(tǒng)602、用于將所述噴淋液回收系統(tǒng)602中的所述噴淋液收集的噴淋液收集裝置603、用于使所述噴淋液收集裝置603中的所述噴淋液加壓的噴淋液加壓系統(tǒng)604以及將所述噴淋液加壓系統(tǒng)604中的所述噴淋液保持在同一個(gè)溫度的噴淋液恒溫系統(tǒng)605,所述噴淋管道4上接在所述噴淋液恒溫系統(tǒng)605上。請(qǐng)參閱圖5至圖6,本發(fā)明第二實(shí)施例提供的硅片清洗裝置10,所述硅片清洗裝置10與第一實(shí)施方式所提供的硅片清洗裝置10基本相同,其不同之處在于所述噴淋結(jié)構(gòu)401還可以為槽402b,在本實(shí)施例中,在所述噴淋管道4第三側(cè)加工出一個(gè)槽402b,所述槽402b的縫隙非常細(xì)小,可以滿足水流噴射而出,又不會(huì)使縫隙被堵住。為了進(jìn)一步增加沖擊的水流強(qiáng)度,在本實(shí)施例中,所述槽402b的橫截面為7字形,所述槽402b的橫截面包括有第一面和第二面,所述第一面與所述噴淋管道4徑向平行,所述第二面與所述第一面呈銳角,使所述噴淋管道4里的水流傾斜的射出,更能夠給硅片上的砂漿形成沖擊,帶走硅片上的砂漿,從而將硅片沖洗干凈。本實(shí)用新型的工作過(guò)程為:四個(gè)導(dǎo)輪I旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)所述切割鋼線2繞動(dòng),砂漿噴嘴3噴出含碳化硅的切割液,其均勻的涂覆在所述切割鋼線2上。所述切割鋼線2帶著切割液切割做著上下平移運(yùn)動(dòng)的所述待切割的硅塊5,所述待切割的硅塊5切割完之后,切割好的所述硅片自下而上的退出所述切割鋼線2,同時(shí),噴淋管道4連接上噴淋管路系統(tǒng)6開(kāi)始工作,噴淋結(jié)構(gòu)401向切割好的硅片噴淋出液體,清洗硅片上的砂漿和沖走所述硅塊5切割時(shí)產(chǎn)生的碎屑。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比較,通過(guò)在多線切割機(jī)內(nèi)實(shí)現(xiàn)硅片清洗噴淋,使得多線切割機(jī)切割完硅片后,切割鋼線2在進(jìn)行退刀時(shí)不會(huì)刮傷切割好的硅片,更重要的是,省卻了把切割好的硅片在多線切割機(jī)外進(jìn)行清洗的工序,直接變成在多線切割機(jī)內(nèi)清洗,使得加工好的硅片之間不會(huì)粘結(jié)在一起,能高效的清洗硅片,操作簡(jiǎn)便,工作效率高,降低了成本,帶來(lái)了經(jīng)濟(jì)利益。以上所述是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下,還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾,這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種硅片清洗裝置,其設(shè)于多線切割機(jī)內(nèi),所述多線切割機(jī)包括四個(gè)排放成矩形的導(dǎo)輪、多根切割鋼線以及四組砂漿噴嘴,多根所述切割鋼線依次纏繞在四個(gè)所述導(dǎo)輪上且相應(yīng)的形成兩個(gè)用于切割的矩形切割線網(wǎng),其特征在于,所述硅片清洗裝置包括噴淋管道,兩個(gè)所述切割鋼線網(wǎng)分別包括第一切割面和第二切割面,所述第一切割面和所述第二切割面分別設(shè)有第一側(cè)和第二側(cè),所述第一側(cè)和所述第二側(cè)分別位于所述第一切割面和所述第二切割面上方,每?jī)山M所述砂漿噴嘴分別位于所述第一側(cè)和所述第二側(cè),且所述砂漿噴嘴軸線方向與所述導(dǎo)輪軸線方向平行,所述噴淋管道與所述砂漿噴嘴并行排放且置于兩組所述砂漿噴嘴之間,所述噴淋管道管壁上開(kāi)有一沿噴淋管道軸心方向的噴淋結(jié)構(gòu),所述噴淋結(jié)構(gòu)用于噴淋出液體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅片清洗裝置,其特征在于,所述一種硅片清洗裝置還包括噴淋管路系統(tǒng);所述噴淋管路系統(tǒng)包括依次連接的用于收集噴淋液的噴淋液收集室、用于將所述噴淋液收集室中的所述噴淋液回收的噴淋液回收系統(tǒng)、用于將所述噴淋液回收系統(tǒng)中的所述噴淋液收集的噴淋液收集裝置、用于使所述噴淋液收集裝置中的所述噴淋液加壓的噴淋液加壓系統(tǒng)以及將所述噴淋液加壓系統(tǒng)中的所述噴淋液保持在同一個(gè)溫度的噴淋液恒溫系統(tǒng),所述噴淋管道上接在所述噴淋液恒溫系統(tǒng)上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅片清洗裝置,其特征在于,所述噴淋管道設(shè)有八組,每四組所述噴淋管道分別位于所述第一側(cè)和所述第二側(cè),且與所述砂漿噴嘴并行排放并置于兩組所述砂漿噴嘴之間,所述噴淋管道包括有第三側(cè),每?jī)山M所述噴淋管道第三側(cè)相對(duì),所述噴淋結(jié)構(gòu)設(shè)在所述第三側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種硅片清洗裝置,其特征在于,所述噴淋結(jié)構(gòu)開(kāi)在所述第三側(cè)的中間位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種硅片清洗裝置,其特征在于,所述噴淋結(jié)構(gòu)為密集的小孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種硅片清洗裝置,其特征在于,所述噴淋結(jié)構(gòu)為槽,所述槽的兩端為封閉端。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種硅片清洗裝置,其特征在于,所述槽的橫截面包括有第一面和第二面,所述第一面與所述噴淋管道徑向平行,所述第二面與所述第一面呈銳角。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種硅片清洗裝置,其設(shè)于多線切割機(jī)內(nèi),所述硅片清洗裝置包括噴淋管道,所述切割鋼線相對(duì)設(shè)置有用于切割的第一切割面和第二切割面,所述第一切割面和所述第二切割面分別設(shè)有第一側(cè)和第二側(cè),所述第一側(cè)和所述第二側(cè)分別位于所述第一切割面和所述第二切割面上方,每?jī)山M所述砂漿噴嘴分別位于所述第一側(cè)和所述第二側(cè),且所述砂漿噴嘴軸線方向與所述導(dǎo)輪軸線方向平行,所述噴淋管道與所述砂漿噴嘴并行排放且置于兩組所述砂漿噴嘴之間,所述噴淋管道管壁上開(kāi)有一沿噴淋管道軸心方向的噴淋結(jié)構(gòu),所述噴淋結(jié)構(gòu)用于噴淋出液體。本實(shí)用新型主要提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單和硅片清洗效率高效的硅片清洗裝置。
文檔編號(hào)B28D7/02GK203046014SQ201220727879
公開(kāi)日2013年7月10日 申請(qǐng)日期2012年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月26日
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