動軌道121移動，該載盤125包括兩載盤孔1251以及八定位柱1252，各該載盤孔1251間隔地貫穿該載盤125，各該定位柱1252分別對稱地凸設(shè)在該載盤125且位于兩該載盤孔1251的兩側(cè)，兩該載具126是用于承載基材60并設(shè)置于該載盤125上，且分別對應(yīng)于兩該載盤孔1251的位置，該載具126的尺寸大于載盤孔1251的尺寸，使該載具126可被承載于該載盤125上，各載具126各包括八定位部1261，其中四個(gè)定位部1261分別與該載盤125上相對應(yīng)的定位柱1252相互凹凸匹配定位，使各該載具126可被定位于相對該載盤125的固定位置，各該載具126的尺寸亦大于該取放開口 111的尺寸，使各該載具126可封蓋該取放開口 111，讓該真空腔體11內(nèi)的空間與該取放開口 111相隔離。
[0064]該升降單元13設(shè)置于該真空腔體11且包括一中間升降機(jī)構(gòu)131、兩側(cè)升降機(jī)構(gòu)132以及三頂盤133，其中，該中間升降機(jī)構(gòu)131設(shè)置于該真空腔體11的底部中間處，各該側(cè)升降機(jī)構(gòu)132設(shè)置于該真空腔體11的底部，且分別位于該中間升降機(jī)構(gòu)131的兩側(cè)，各該頂盤133分別連接于該中間升降機(jī)構(gòu)131以及各該側(cè)升降機(jī)構(gòu)132，各頂盤133皆包括四定位點(diǎn)1331，各定位點(diǎn)1331凸設(shè)形成于該頂盤133的頂面，各定位點(diǎn)1331與該載具126的另外四個(gè)定位部1261相互凹凸匹配定位，各該工藝單元14設(shè)置于該真空腔體11的頂部，且連通于該真空腔體11內(nèi)的空間，各該工藝單元14為進(jìn)行蝕刻、濺鍍等表面處理的加工處。
[0065]該入料傳送機(jī)構(gòu)20與該出料傳輸機(jī)構(gòu)30分別設(shè)置在該工藝裝置10的相對兩側(cè)，該入料傳送機(jī)構(gòu)20包括一傳送座21,該出料傳送機(jī)構(gòu)30包括一傳送座31,該入料傳送機(jī)構(gòu)20的傳送座21可朝向該真空腔體11的方向運(yùn)送基材60，該出料傳送機(jī)構(gòu)30的傳送座31可向遠(yuǎn)離該真空腔體11的方向運(yùn)送基材60。
[0066]該取放機(jī)構(gòu)40設(shè)置于該真空腔體11的上方，且包括一支撐架41、一移動軌道42以及一取放臂43，其中，該支撐架41設(shè)至于該真空腔體11的上方，該移動軌道42設(shè)置于該支撐架41下方，該取放臂43可移動地設(shè)置于該移動軌道42，該取放臂43包括兩升降吸盤431，兩該升降吸盤431分別設(shè)置于該取放臂43的兩端，各該升降吸盤431根據(jù)該取放臂43的移動位置分別對應(yīng)其中一傳送座21、31與該取放開口 111，各該升降吸盤431的尺寸大于該取放開口 111的尺寸，故當(dāng)各該升降吸盤431對應(yīng)于該取放開口 111時(shí)可封閉該取放開口 111，該獨(dú)立腔體50選擇性地被其中一升降吸盤431、其中一載具126以及該取放開口 111封閉形成，該獨(dú)立腔體50與該真空腔體11相互隔離。
[0067]使用時(shí)請參閱圖3至圖6所示，該同步快速真空工藝的設(shè)備的操作過程大致為:
[0068]1.該真空腔體11保持恒定真空狀態(tài)，其中一載具(下稱第一載具126A)與該取放臂43的其中一升降吸盤(下稱第一升降吸盤431A)各自封閉該取放開口 111的上下兩偵牝使該第一載具126A、該第一升降吸盤431A之間形成該密閉的獨(dú)立腔體50，該獨(dú)立腔體50與該真空腔體11內(nèi)相互隔離，此時(shí)對該獨(dú)立腔體50進(jìn)行破真空，使該獨(dú)立腔體50內(nèi)的氣壓回復(fù)至大氣壓力，并且該入料傳送機(jī)構(gòu)20將未加工的素材送至該取放臂43的另一升降吸盤(下稱第二升降吸盤431B)下方，該第二升降吸盤432B抓取素材上升，同時(shí)該第一升降吸盤431A將該獨(dú)立腔體50內(nèi)加工完畢的素材抓取上升。
[0069]2.該取放臂43沿該移動軌道42移動，使該第一升降吸盤431A移動并下降，將加工完畢的素材放置于該到該出料傳輸機(jī)構(gòu)30上，該第二升降吸盤431B移動到該取放開口111處并下降，以封閉該取放開口 111，使該第二升降吸盤431B與該第一載具126A再度形成獨(dú)立腔體50，并且對該獨(dú)立腔體50再進(jìn)行抽真空，使該獨(dú)立腔體50內(nèi)的真空度同于該真空腔體11內(nèi)的真空度。
[0070]3.待該獨(dú)立腔體50抽完真空后，該第一載具126A會被該中間升降機(jī)構(gòu)131帶動下降，使該第一載具126A被承載于該載盤125上，而該頂盤133則穿過該載盤孔1251而移動至該載盤125的下方，于所述步驟I與步驟2作動時(shí)，另一載具(下稱第二載具126B)位于其中一工藝單元(下稱第一工藝單元14A)處進(jìn)行表面加工，而當(dāng)該第一載具126A被承載于該載盤125上后,該第二載具126B上的基材60被加工完畢,而對應(yīng)該第二載具126B的側(cè)升降機(jī)構(gòu)132將該第二載具126B降下，使該第二載具126B脫離該第一工藝單元14A并且被承載于該載盤125上。
[0071]4.該載盤125被該驅(qū)動件帶動，使該載盤125沿各該導(dǎo)引軌道123移動，讓該第二載具126B移動到該取放開口 111的下方，而該第一載具126A移動到另一工藝單元(下稱第二工藝單元14B)的下方，此時(shí)該中間升降機(jī)構(gòu)131以該頂盤133將該第二載具126B上升，使該第二載具126B封閉該取放開口 111，該第二載具126B與該第二升降吸盤431B再度形成該獨(dú)立腔體50，并且對該獨(dú)立腔體50進(jìn)行破真空，另一側(cè)升降機(jī)構(gòu)以該頂盤133將該第一載具126A上升，使該第一載具126A進(jìn)入該第二工藝單元14B的加工范圍內(nèi)，并且被該第二工藝單元14B進(jìn)行表面處理。
[0072]5.當(dāng)該獨(dú)立腔體50破真空完畢后，該第二載具126B上的基材60會被該第二升降吸盤431B抓取上升，并被該第二升降吸盤431B送到該出料傳送機(jī)構(gòu)30處，同時(shí)該第一升降吸盤431A會將該入料傳送機(jī)構(gòu)20處尚未進(jìn)行加工的基材60抓取上升，并再度進(jìn)行步驟2至4，該獨(dú)立腔體50視作動行程不同而為不同的載具126與升降吸盤431所形成，而在本發(fā)明提出的同步快速真空工藝的設(shè)備中，由于抽真空與破真空皆只在該獨(dú)立腔體50內(nèi)進(jìn)行，不必再另外設(shè)立閥門，故可達(dá)到占地空間小、降低機(jī)臺維修成本、保養(yǎng)時(shí)間短以及減少生產(chǎn)成本等優(yōu)點(diǎn)。
[0073]當(dāng)然，本發(fā)明還可有其他多種實(shí)施例，在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種同步快速真空工藝的設(shè)備，其特征在于，包括有: 一工藝裝置，包括一真空腔體、一傳動單元、一升降單元以及兩工藝單元，其中，該真空腔體為中空狀且保持恒定真空狀態(tài)，該真空腔體包括一取放開口，該取放開口貫穿該真空腔體的一側(cè)，該傳動單元設(shè)置于該真空腔體內(nèi)且包括一載盤、一驅(qū)動件以及兩載具，該載盤設(shè)置于該真空腔體內(nèi)且包括兩間隔設(shè)置貫穿該載盤的載盤孔，各該載盤孔擇一地對合該取放開口，該驅(qū)動件連動于該載盤，各該載具選擇性地被承載于該載盤，且各該載具的尺寸大于各該載盤孔的尺寸，該升降單元設(shè)置于該真空腔體且包括一中間升降機(jī)構(gòu)，該中間升降機(jī)構(gòu)設(shè)置于該真空腔體且對應(yīng)該取放開口處，該中間升降機(jī)構(gòu)選擇性地頂撐各載具穿過各該載盤孔，各該工藝單元設(shè)置且連通于該真空腔體； 一入料傳送機(jī)構(gòu)，其設(shè)置于該真空腔體的一側(cè)； 一出料傳送機(jī)構(gòu)，其設(shè)置于該真空腔體遠(yuǎn)離該入料傳送機(jī)構(gòu)的一側(cè)； 一取放機(jī)構(gòu)，其設(shè)置于該真空腔體且包括一移動軌道以及一取放臂，該移動軌道架設(shè)于該真空腔體，該取放臂能夠移動地設(shè)置于該移動軌道且包括兩升降吸盤，各該升降吸盤分別設(shè)置于該取放臂的兩端，各該升降吸盤根據(jù)該取放臂的移動位置分別擇一地對應(yīng)該入料傳送機(jī)構(gòu)與該出料傳送機(jī)構(gòu)其中之一，以及該取放開口，各該升降吸盤的尺寸大于該取放開口的尺寸，各該升降吸盤選擇性地封閉該取放開口；以及 一獨(dú)立腔體，其選擇性地形成于其中一升降吸盤、其中一載具封閉以及該取放開口之間，該獨(dú)立腔體與該真空腔體相互隔離。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同步快速真空工藝的設(shè)備，其特征在于，該升降單元進(jìn)一步包括兩側(cè)升降機(jī)構(gòu)，各側(cè)升降機(jī)構(gòu)設(shè)置于該真空腔體且分別對應(yīng)于各該工藝單元處，各側(cè)升降機(jī)構(gòu)選擇性地穿過各載盤孔并頂撐相對應(yīng)的載具。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的同步快速真空工藝的設(shè)備，其特征在于，各側(cè)升降機(jī)構(gòu)進(jìn)一步包括一頂盤，各頂盤設(shè)置于各側(cè)升降機(jī)構(gòu)的頂部，該中間升降機(jī)構(gòu)亦進(jìn)一步包括一設(shè)置于該中間升降機(jī)構(gòu)頂部的頂盤，各側(cè)升降機(jī)構(gòu)與該中間升降機(jī)構(gòu)是以各頂盤頂撐各載具。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的同步快速真空工藝的設(shè)備，其特征在于，各頂盤與各載具之間設(shè)有一個(gè)以上相對應(yīng)凹凸匹配的定位點(diǎn)與定位部。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的同步快速真空工藝的設(shè)備，其特征在于，該載盤與各該載具之間設(shè)有一個(gè)以上相對應(yīng)凹凸匹配定位部與定位柱。6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任意一項(xiàng)所述的同步快速真空工藝的設(shè)備，其特征在于，該傳動單元設(shè)有一個(gè)以上的導(dǎo)引軌道，該載盤被承載于該一個(gè)以上的導(dǎo)引軌道，且被該驅(qū)動軌道沿著該一個(gè)以上的導(dǎo)引軌道的軸向移動。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的同步快速真空工藝的設(shè)備,其特征在于,該傳動單元進(jìn)一步包括一個(gè)以上的導(dǎo)引塊，該一個(gè)以上的導(dǎo)引塊滑動地設(shè)置于該導(dǎo)盤與該一個(gè)以上的導(dǎo)引軌道之間。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種同步快速真空工藝的設(shè)備，包括一工藝裝置、一取放機(jī)構(gòu)以及一獨(dú)立腔體，其中，該工藝裝置一真空腔體、一傳動單元、一升降單元以及兩工藝單元，該真空腔體包括一取放開口，該傳動單元可移動地設(shè)置于該真空腔體且包括兩載具，該升降單元設(shè)置于該真空腔體且可頂撐各該載具至該取放開口，該取放開口可被各載具封閉，各工藝單元設(shè)置于該真空腔體且可被各載具對應(yīng)，該取放機(jī)構(gòu)設(shè)置于該真空腔體且包括兩升降吸盤，各升降吸盤可分別對應(yīng)封閉該取放開口，該獨(dú)立腔體可被各升降吸盤與各載具封閉形成，且與該真空腔體相互隔離。
【IPC分類】C23C14/56, C23F1/08
【公開號】CN105002473
【申請?zhí)枴緾N201410160485
【發(fā)明人】邱敬凱, 余端仁
【申請人】友威科技股份有限公司
【公開日】2015年10月28日
【申請日】2014年4月21日