同步快速真空工藝的設備的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種真空設備，尤其涉及一種同步快速真空工藝的設備。
【背景技術】
[0002]一般真空設備是用于鍍膜、蝕刻、表面處理等加工，其應用的領域有半導體、光電、電機、電子、民生用品等產(chǎn)業(yè)，過程中都需經(jīng)過多道工藝處理以便形成不同材質(zhì)的膜層結(jié)構(gòu)。為了達到高品質(zhì)、高產(chǎn)能且低成本的作業(yè)目標，現(xiàn)有真空設備多為連續(xù)式真空設備。
[0003]現(xiàn)有的連續(xù)式真空設備請參閱圖7所示，包括依序連接的一前外部傳輸機構(gòu)81、一第一腔體82、一第二真空腔體83、一第三真空腔體84、一第四真空腔體85、一第五腔體86以及一后外部傳輸機構(gòu)87,并且在該前外部傳輸機構(gòu)81、該第一腔體82、該第二真空腔體83、該第四真空腔體85、該第五腔體86與該后外部傳輸機構(gòu)87之間依序設有一第一閥門91、一第二閥門92、一第三閥門93以及一第四閥門94，使用流程如下:
[0004]1.將基材放置于該前外部傳輸機構(gòu)81的載具上,并將該第一閥門91打開,讓載具將基材送入該第一腔體82內(nèi)，待基材送入后，便關閉該第一閥門91并對該第一腔體82抽真空(此時該第二真空腔體83至該第五腔體86維持真空狀態(tài))。
[0005]2.待該第一腔體82抽完真空后，該第二閥門92開啟，基材被送入該第二真空腔體83內(nèi)，接著，該第二閥門92關閉，基材被送入經(jīng)過該該第三真空腔體84進行加工，該第三真空腔體84的加工源可為進行濺鍍、蝕刻等表面處理的加工處，之后再被送到該第四真空腔體85內(nèi)。
[0006]3.該第三閥門93開啟，該基材由該第四真空腔體85被送入該第五腔體86后，將該第三閥門93關閉、且對該第五腔體86進行破真空，使該第五腔體86內(nèi)的氣壓與大氣壓力相同，接著將該第四閥門94開啟，并將該基材送至該后外部傳輸機構(gòu)87，并且將該基材由該后外部傳輸機構(gòu)87的載具取出。
[0007]雖然利用現(xiàn)有的連續(xù)式真空設備可進行連續(xù)性的加工，然而現(xiàn)有的連續(xù)式真空設備卻具有如下缺點:
[0008]由于必須設置各該閥門于在各腔體之間，才可形成密閉空間，以便進行抽真空及破真空等作業(yè)，故導致現(xiàn)有的連續(xù)式真空設備腔體數(shù)量多、占地空間大，使機臺維修成本高，且保養(yǎng)時間長，另外，由于需持續(xù)的對該第一腔體82與該第五腔體86進行抽真空與破真空，較為耗能而增加生產(chǎn)成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]為解決現(xiàn)有的連續(xù)式真空設備占地空間大、成本高等缺點，本發(fā)明的目的在于提供一種可解決現(xiàn)有技術問題的同步快速真空工藝的設備。
[0010]本發(fā)明提供一種同步快速真空工藝的設備，包括有:
[0011]—工藝裝置，包括一真空腔體、一傳動單元、一升降單元以及兩工藝單元，其中，該真空腔體為中空狀且保持恒定真空狀態(tài)，該真空腔體包括一取放開口，該取放開口貫穿該真空腔體的一側(cè)，該傳動單元設置于該真空腔體內(nèi)且包括一載盤、一驅(qū)動件以及兩載具，該載盤設置于該真空腔體內(nèi)且包括兩間隔設置貫穿該載盤的載盤孔，各該載盤孔擇一地對合該取放開口，該驅(qū)動件連動于該載盤，各該載具選擇性地被承載于該載盤，且各該載具的尺寸大于各該載盤孔的尺寸，該升降單元設置于該真空腔體且包括一中間升降機構(gòu)，該中間升降機構(gòu)設置于該真空腔體且對應該取放開口處，該中間升降機構(gòu)選擇性地頂撐各載具穿過各該載盤孔，各該工藝單元設置且連通于該真空腔體；
[0012]一入料傳送機構(gòu)，其設置于該真空腔體的一側(cè)；
[0013]—出料傳送機構(gòu)，其設置于該真空腔體遠離該入料傳送機構(gòu)的一側(cè)；
[0014]一取放機構(gòu)，其設置于該真空腔體且包括一移動軌道以及一取放臂，該移動軌道架設于該真空腔體，該取放臂可移動地設置于該移動軌道且包括兩升降吸盤，各該升降吸盤分別設置于該取放臂的兩端，各該升降吸盤根據(jù)該取放臂的移動位置分別擇一地對應該入料傳送機構(gòu)與該出料傳送機構(gòu)其中之一，以及該取放開口，各該升降吸盤的尺寸大于該取放開口的尺寸，各該升降吸盤選擇性地封閉該取放開口 ；以及
[0015]一獨立腔體，其選擇性地形成于其中一升降吸盤、其中一載具封閉以及該取放開口之間，該獨立腔體與該真空腔體相互隔離。
[0016]所述的同步快速真空工藝的設備，其中該升降單元進一步包括兩側(cè)升降機構(gòu)，各側(cè)升降機構(gòu)設置于該真空腔體且分別對應于各該工藝單元處，各側(cè)升降機構(gòu)選擇性地穿過各載盤孔并頂撐相對應的載具。
[0017]所述的同步快速真空工藝的設備，其中各側(cè)升降機構(gòu)進一步包括一頂盤，各頂盤設置于各側(cè)升降機構(gòu)的頂部，該中間升降機構(gòu)亦進一步包括一設置于該中間升降機構(gòu)頂部的頂盤，各側(cè)升降機構(gòu)與該中間升降機構(gòu)是以各頂盤頂撐各載具。
[0018]所述的同步快速真空工藝的設備，其中各頂盤與各載具之間設有一個以上相對應凹凸匹配的定位點與定位部。
[0019]所述的同步快速真空工藝的設備，其中該載盤與各該載具之間設有一個以上相對應凹凸匹配定位部與定位柱。
[0020]所述的同步快速真空工藝的設備，其中該傳動單元設有一個以上的導引軌道，該載盤被承載于該一個以上的導引軌道，且被該驅(qū)動軌道沿著該一個以上的導引軌道的軸向移動。
[0021]所述的同步快速真空工藝的設備，其中該傳動單元進一步包括一個以上的導引塊，該一個以上的導引塊滑動地設置于該導盤與該一個以上的導引軌道之間。
[0022]藉由上述的技術特征，本發(fā)明可達到的功效有:
[0023]1.占地空間小:該獨立腔體在作動行程中被不同的載具與載盤封閉形成，使該獨立腔體可與該真空腔體相互隔離，讓加工完成或是尚未加工的基材可在該獨立腔體內(nèi)進行破真空或是抽真空的動作，不需另外設置閥門，故本發(fā)明所需的腔體數(shù)量可減少，因此占地空間可縮小。
[0024]2.降低整體成本:由于利用不同的載具與載盤便可形成該獨立腔體，不必再以另外的元件形成獨立腔體，故使用元件數(shù)量可減少，使本發(fā)明保養(yǎng)時間可被縮短，有效增加機臺稼動率，且只需對該獨立腔體進行抽真空與破真空，故操作上相當節(jié)能，使本發(fā)明的維修成本、投資成本與運作成本皆可被降低。
[0025]以下結(jié)合附圖和具體實施例對本發(fā)明進行詳細描述，但不作為對本發(fā)明的限定。
【附圖說明】
[0026]圖1為本發(fā)明較佳實施例的立體外觀圖。
[0027]圖2為本發(fā)明較佳實施例工藝裝置的立體外觀圖。
[0028]圖3為本發(fā)明較佳實施例工藝裝置的局部立體分解圖。
[0029]圖4A為本發(fā)明較佳實施例局部側(cè)視動作示意圖，其中局部為剖視。
[0030]圖4B為圖4A的局部放大圖。
[0031]圖5為本發(fā)明較佳實施例局部前視動作示意圖，其中局部為剖視。
[0032]圖6為本發(fā)明較佳實施例局部前視動作示意圖，其中局部為剖視。
[0033]圖7為現(xiàn)有連續(xù)式真空設備的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0034]其中，附圖標記
[0035]10工藝裝置11真空腔體
[0036]111取放開口12傳動單元
[0037]121驅(qū)動軌道122驅(qū)動件
[0038]1221驅(qū)動塊123導引軌道
[0039]124導引塊125載盤
[0040]1251載盤孔1252定位柱
[0041]126載具1261定位部
[0042]126A第一載具 126B第二載具
[0043]13升降單元131中間升降機構(gòu)
[0044]132側(cè)升降機構(gòu) 133頂盤
[0045]1331定位點14工藝單元
[0046]14A第一工藝單元14B第二工藝單元
[0047]20入料傳送機構(gòu) 21傳送座
[0048]30出料傳輸機構(gòu) 31傳送座
[0049]40取放機構(gòu)41支撐架
[0050]42移動軌道43取放臂
[0051]431升降吸盤 431A第一升降吸盤
[0052]43IB第二升降吸盤
[0053]50獨立腔體
[0054]60 基材
[0055]81前外部傳輸機構(gòu)82第一腔體
[0056]83第二真空腔體84第三真空腔體
[0057]85第四真空腔體86第五腔體
[0058]87后外部傳輸機構(gòu)
[0059]91第一閥門92第二閥門
[0060]93第三閥門 94第四閥門
【具體實施方式】
[0061]為能詳細了解本發(fā)明的技術特征及實用功效，并可依照說明書的內(nèi)容來實現(xiàn)，茲進一步以如附圖所示的較佳實施例，詳細說明如后:
[0062]請參閱圖1至圖4所示，本發(fā)明提供的同步快速真空工藝的設備的較佳實施例包括有一工藝裝置10、一入料傳送機構(gòu)20、一出料傳送機構(gòu)30、一取放機構(gòu)40以及一獨立腔體50。
[0063]該工藝裝置10包括一真空腔體11、一傳動單元12、一升降單元13、兩工藝單元14，其中，該真空腔體11為一中空狀腔體，其內(nèi)保持恒定真空狀態(tài)，該真空腔體11包括一取放開口 111，該取放開口 111貫穿于該真空腔體11的頂側(cè)，該傳動單元12設置于該真空腔體11且包括一驅(qū)動軌道121、一驅(qū)動件122、兩導引軌道123、四導引塊124、一載盤125以及兩載具126，其中，該驅(qū)動軌道121固設于該真空腔體11內(nèi)，該驅(qū)動件122設置于該驅(qū)動軌道121的一端且包括一驅(qū)動塊1221，該驅(qū)動塊1221可沿該驅(qū)動軌道121移動，該驅(qū)動件122為一壓缸，兩該導引軌道123間隔地固設在該真空腔體11內(nèi)且分別位于該驅(qū)動軌道121的兩側(cè)，四該導引塊124分別兩兩滑動地設置于兩該導引軌道123，該載盤125結(jié)合于各該導引塊124以及該驅(qū)動塊1221，當該驅(qū)動塊1221被該驅(qū)動件122驅(qū)動時，該載盤125可沿著各該導引軌道123以及該驅(qū)