一種單面電鍍裝置及其電鍍工藝的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及電化學鍍銀技術(shù)領(lǐng)域，更具體的說是涉及一種單面電鍍裝置及其電鍍工藝。
【背景技術(shù)】
[0002]鍍銀層是一種貴金屬鍍層，它作為功能性鍍層起到潤滑、減小摩擦、防粘接、增強導電性等作用，已在航空、航天、電子等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。在某些特定的工作環(huán)境下，還要求鍍銀層能夠承受較高的工作溫度和較大的動態(tài)負載。如部份航空器零件均需要鍍覆銀層，除設(shè)計的銀鍍層厚度較厚外，更重量的是保證銀層的工作可靠性，具有可靠的工作壽命。
[0003]申請?zhí)枮?01310303717.9的中國發(fā)明專利文件公開了可用于高速電鍍的無氰電鍍銀鍍液及電鍍工藝，參照本專利的權(quán)利要求6所述，包括有以下工藝步驟:一、基體的前處理:基體依次進行除油、酸洗及水洗；二、預(yù)鍍中間鍍銀層:將基體置于含有高配位劑、低主鹽的鍍銀液中，在小電流條件下短時間預(yù)鍍中間鍍銀層，其中:預(yù)鍍銀采用恒電流電鍍方式，電流密度為0.2到22A/dm2，陰極與陽極的距離為2到15cm，溫度為35到75°C，電鍍時間為I到5min ;三、快速電鍍銀:預(yù)鍍銀之后基體進行超純水洗，然后直接進入含有權(quán)利要求1所述的無氰電鍍銀鍍液的鍍槽中，進行快速電鍍銀，完成電鍍后，從電鍍液中取出試樣，用蒸餾水清洗表面，冷風干燥，其中:快速電鍍時采用恒電流電鍍的方式，電流密度為0.5到8A/dm2,陰極與陽極的距離為2到25cm，溫度為25到85°C，電鍍時間為I到90min。
[0004]申請?zhí)枮?01310376014.9的中國發(fā)明申請專利公開了一種雙向脈沖鍍銀層法，旨在提供一種鍍層結(jié)晶細致、硬度高、孔隙率低、結(jié)合力好、抗變色性能優(yōu)良、耐磨性好雙向脈沖鍍銀技術(shù)，本發(fā)明通過下述技術(shù)方案予以實現(xiàn):在普通脈沖鍍銀溶液配方的基礎(chǔ)上，采用硝酸鉀含量為60g/L?100g/L、氯化銀含量為70g/L?80g/L、氰化鉀含量為180g/L?190g/L ;在雙向脈沖鍍銀工序中，將單個脈沖周期設(shè)定為0.5ms?1.50ms，頻率設(shè)定為700?1200Hz ;氰化鍍銀槽液正向脈沖峰值電流密度設(shè)定在10?40A/dm2，正向設(shè)定在10?40A/dm2 ;正向脈沖工作比值設(shè)定為0.1?O。25，負向設(shè)定為0.05?0.2 ;正負脈沖波數(shù)比設(shè)定在4:1到8:1之間；正向脈沖導通時間為0.2?0.4ms，負向為0.1?0.2ms，平均電流密度為0.5?1.5A/dm2 ;在常溫15°C?25°C下進行電鍍。
[0005]但是在參照上述兩個發(fā)明的專利文件可知，預(yù)鍍基體經(jīng)過自動進料機構(gòu)、鍍前處理、鍍銀處理后，會在基體的雙面上均電鍍有銀層，從而完成電鍍工藝后的鍍銀基體就可以正常使用；但是日前大部份的鍍銀基體在使用的過程中，只利用了鍍銀基體的單面來工作，也就是說，鍍銀基體處于工作狀態(tài)的使用過程中，只是鍍銀基體的一面是處于工作狀態(tài)，而鍍銀基體的另一面上電鍍有銀層也是起不到有任何的作用，因此雙面鍍層的設(shè)計無疑會造成電鍍液的浪費，并額外增加了制造成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種單面電鍍裝置及其電鍍工藝，通過單面電鍍裝置及其電鍍工藝，能夠有效的對預(yù)鍍基體只進行單面鍍銀工藝，避免了對基體進行雙面鍍銀而造成電鍍液的浪費，節(jié)省了制造成本。
[0007]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了如下技術(shù)方案:一種單面電鍍工藝，包括有以下工藝步驟。
[0008]a、通過自動進料機構(gòu)，完成對預(yù)鍍基體的自動進料；
b、鍍前處理:將預(yù)鍍基體依次進行以下步驟，(I)對預(yù)鍍基體的表面進行化學除油；
(2)用含氫氟酸溶液對預(yù)鍍基體的表面進行浸蝕；(3)用含濃硫酸和濃鹽酸的溶液對預(yù)鍍基體的表面進行活化處理；(4)用鍍鎳溶液對預(yù)鍍基體進行預(yù)鍍鎳處理；
C、單面鍍銀處理:將預(yù)鍍基體進入電流密度為0.2到5 A/dm2, PH值為5到6、溫度范圍在25到30°C，浸入時間為5到1S的單面鍍銀裝置內(nèi)進行單面鍍銀；
d、鍍后處理:將鍍銀基體進行水洗和浸洗，并最終經(jīng)過烘干槽烘干處理；
e、通過自動收料機構(gòu)，完成對鍍銀基體的自動收料；
基本的工藝步驟按生產(chǎn)線排列順序如下:自動進料機構(gòu)一電解槽一解后浸洗槽一解后噴洗槽一酸活化槽一酸后浸洗槽一酸后噴洗槽一鍍鹽酸鎳槽一浸洗槽一噴洗槽一單面鍍銀槽一銀后水洗槽一鍍銀后浸洗槽一鍍銀后噴洗槽一銀后保護槽一銀后浸洗槽一烘干槽—自動收料機構(gòu)；
通過自動反應(yīng)液供給系統(tǒng)實現(xiàn)對整條生產(chǎn)線自動補充反應(yīng)液；
通過加熱、循環(huán)、過濾系統(tǒng)實現(xiàn)對整條流線水上的反應(yīng)液溫度、反應(yīng)液的循環(huán)供量和反應(yīng)液內(nèi)的雜質(zhì)進行有效的控制。
[0009]通過采用上述技術(shù)方案，預(yù)鍍基體首先通過自動進料機構(gòu)進入鍍銀生產(chǎn)線中進行電鍍工藝；并通過鍍前處理能夠有效的對預(yù)鍍基體進行除油、浸蝕、活化和鍍鎳處理，為下一步的基體鍍銀做好準備；經(jīng)過鍍前處理后的預(yù)鍍基體進行下一步的單面鍍銀處理，預(yù)鍍基體進入單面鍍銀裝置內(nèi)，從而完成發(fā)進行單面鍍銀的工序；并最終通過鍍后處理和自動收料機構(gòu)，從而完成單面鍍銀的整個工序；在這個生產(chǎn)過程中，通過在單面鍍銀裝置內(nèi)對基體上只進行單面鍍有銀層，使生產(chǎn)線下來的基體只為單面鍍有層銀，避免了對基體進行雙面鍍銀而造成電鍍液的浪費，節(jié)省了制造成本。
[0010]并且在這一整個生產(chǎn)的過程中，通過自動反應(yīng)液供給系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)對整條生產(chǎn)線的各個槽進行自動補充反應(yīng)液，另外通過加熱、循環(huán)、過濾系統(tǒng)實現(xiàn)對整條流線水上的反應(yīng)液溫度、反應(yīng)液的循環(huán)供量和反應(yīng)液內(nèi)的雜質(zhì)進行有效的控制，使得生產(chǎn)線能夠時時的有效進行鍍銀工序。
[0011]本發(fā)明進一步設(shè)置為:一種應(yīng)用于單面電鍍工藝的生產(chǎn)線，包括有單面鍍銀裝置，所述單面電鍍裝置包括用于容納電鍍液的電鍍槽；
所述單面電鍍裝置還包括有用于隔離無需被電鍍面的轉(zhuǎn)軸、第一導向軸、第二導向軸和固定架；
所述電鍍槽固定設(shè)置于固定架上，轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動連接電鍍槽的槽口處；
第一導向軸轉(zhuǎn)動固定于固定架上且位于轉(zhuǎn)軸左側(cè)，第二導向軸轉(zhuǎn)動固定于固定架上且位于轉(zhuǎn)軸右側(cè)，所述第一導向軸、第二導向軸以及轉(zhuǎn)軸平行設(shè)置。
[0012]本發(fā)明進一步設(shè)置為:一種應(yīng)用于單面電鍍工藝的單面電鍍裝置，所述轉(zhuǎn)軸與預(yù)鍍基體接觸的圓周面上加設(shè)有一層密合層。
[0013]本發(fā)明進一步設(shè)置為:所述的第一導向軸和第二導向軸分別位于轉(zhuǎn)軸的左上方和右上方，且以轉(zhuǎn)軸為中心呈對稱設(shè)置。
[0014]本發(fā)明進一步設(shè)置為:所述電鍍槽的槽口位置設(shè)置有防護蓋。
[0015]本發(fā)明進一步設(shè)置為:還包括有烘干槽，所述烘干槽為中空狀的筒體；
所述筒體的一端設(shè)置有進料口，另一端設(shè)置有出料口 ；
所述筒體內(nèi)沿其筒體的長度方向安裝有若干個滾輪；
所述筒體還包括有用于吹干基體上水漬的吹風裝置和用于對基體進行烘干的加熱裝置。
[0016]本發(fā)明進一步設(shè)置為:所述吹風裝置包括有鼓風機、第一管道和排濕箱；
所述鼓風機、第一管道和排濕箱均設(shè)置在筒體外；
所述筒體在靠近進料口位置設(shè)有出風通孔，所述筒體在靠近出料口位置上設(shè)置有進風通孔，所述進風通孔與鼓風機的出風口通過第一管道相密封導通；
所述出風通孔與排濕箱的進風口通過第一管道相密封導通，且所述鼓風機的進風口通過第一管道與排濕箱的出風口通過第一管道相密封導通；
所述加熱裝置為電熱元件，并設(shè)置在靠近出風通孔位置處。
[0017]本發(fā)明進一步設(shè)置為:還包括有自動收料機構(gòu)，所述自動收料機構(gòu)包括有收卷盤、用于驅(qū)動收卷盤的電機；
所述收卷盤的一側(cè)固設(shè)有用于調(diào)節(jié)收卷盤其收卷量的控制裝置；
所述收卷盤包括用于與鍍銀基體接觸的收卷軸心和與收卷軸心鉸接的固定支撐架，所述控制裝置與軸心可間隔設(shè)置，且其間隔距離可調(diào)節(jié)設(shè)置。
[0018]本發(fā)明進一步設(shè)置為:所述控制裝置包括有固定機構(gòu)和鉸接于固定機構(gòu)上的活動機構(gòu)；
所述活動機構(gòu)包括限位轉(zhuǎn)動$昆和連接桿；
所述連接桿的兩端分別與限位轉(zhuǎn)動輥和活動機構(gòu)鉸接；