本發(fā)明涉及組合物及由該組合物形成的偏振膜等。進一步詳細地說，本發(fā)明涉及作為二向色性色素而有用的組合物及由該組合物形成的偏振膜等。

背景技術：
用于液晶顯示裝置等中的偏振膜中，已知由含有二向色性色素和溶劑的偏振膜形成用組合物形成的偏振膜。作為這樣的二向色性色素，例如，專利文獻1中記載著以下所示的化合物。[現(xiàn)有技術文獻][專利文獻][專利文獻1]日本專利特開昭64-70585號公報

技術實現(xiàn)要素：
發(fā)明要解決的問題然而，本發(fā)明者經(jīng)過研究，結果表明，該偏振膜形成用組合物制備后保存規(guī)定時間之后，若想要使用該偏振膜形成用組合物來形成偏振膜，則制得的偏振膜中產(chǎn)生缺陷，有著上述偏振膜形成用組合物變得不能制得高品質的偏振膜的情況。因此，本發(fā)明的目的在于提供即使在保存了規(guī)定時間的情況下，也能形成高品質的偏振膜的組合物（偏振膜形成用組合物）及作為該偏振膜形成用組合物而有用的組合物。解決問題的手段本發(fā)明包括以下發(fā)明。[1]一種組合物，其含有式（A）所表示的偶氮化合物（A）和式（B）所表示的所表示的偶氮化合物（B），[式（A）中，na及ma分別獨立地為0～3的整數(shù)，滿足na+ma≥1的關系。Ar1a、Ar2a及Ar3a分別獨立地為具有或不具有甲基的2價芳基。R1a表示具有或不具有氟原子的碳原子數(shù)1～20的烷基、碳原子數(shù)1～20的烷氧基、乙?；?、碳原子數(shù)1～20的二烷基氨基、硝基、氰基或氫原子。R2a及R3a分別獨立地為碳原子數(shù)1～3的烷基，R2a及R3a的總碳原子數(shù)為2～4；或R2a及R3a相互鍵合形成碳原子數(shù)2～4的亞烷基。][式（B）中，nb及mb分別獨立地為0～3的整數(shù)，滿足nb+mb≥1的關系。Ar1b、Ar2b及Ar3b分別獨立地具有或不具有甲基的2價芳基。R1b表示具有或不具有氟原子的碳原子數(shù)1～20的烷基、碳原子數(shù)1～20的烷氧基、乙?；⑻荚訑?shù)1～20的二烷基氨基、硝基、氰基或氫原子。R2b及R3b分別獨立地為碳原子數(shù)1～12的烷基，R2b及R3b的總碳原子數(shù)為6以上或R2b及R3b相互鍵合形成碳原子數(shù)6以上的亞烷基。]。[2]根據(jù)[1]記載的組合物，其中，Ar2a及Ar2b分別獨立地為亞并二噻吩基、亞噻吩并噻唑基或亞噻吩并惡唑基。[3]根據(jù)[1]或[2]記載的組合物，其中，上述偶氮化合物（A）的含量相對于上述偶氮化合物（B）的含量的比為50～90質量%的范圍。[4]權利要求1～3的任意一項中記載的組合物，其中，式（B）所表示的偶氮化合物（B）為式（B’）所表示的偶氮化合物（B’）。[式（B’）中，R1a、Ar1a、Ar2a、Ar3a、na及ma與上述式（A）同義。R2b及R3b與上述式（B）同義。][5]根據(jù)[4]記載的組合物，其中，Ar2a為亞并二噻吩基、亞噻吩并噻唑基或亞噻吩并惡唑基。[6]根據(jù)[4]或[5]記載的組合物，其中，上述偶氮化合物（A）的含量相對于上述偶氮化合物（B’）的含量的比為50～90質量%的范圍。[7]根據(jù)[1]～[6]的任意一項記載的組合物，其進一步含有聚合性液晶化合物。[8]根據(jù)[7]記載的組合物，其中，上述聚合性液晶化合物是顯示近晶型液晶相的化合物。[9]一種偏振膜，由[7]或[8]記載的組合物形成。[10]根據(jù)[9]記載的偏振膜，其在X射線衍射測定中得到布拉格峰。[11]根據(jù)[10]記載的偏振膜，其中，上述布拉格峰是來源于分子取向的面周期結構的峰，其周期間隔為[12]一種顯示裝置，具備[9]～[11]的任意一項記載的偏振膜。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，可提供即使在制備偏振膜形成用組合物后保存規(guī)定時間，也可防止缺陷等的發(fā)生，可形成高品質的偏振膜的組合物及由該組合物形成的偏振膜等。附圖說明[圖1]是顯示本發(fā)明的偏振膜的連續(xù)制造方法的主要部分的示意圖。[圖2]是表示光取向膜的取向方向D2和薄膜的輸送方向D1的關系的示意圖。[圖3]是表示使用了包含本發(fā)明的偏振膜的起偏器的液晶顯示裝置的構成的截面示意圖。[圖4]是顯示在圖3的液晶顯示裝置上設置的起偏器的層序的示意圖。[圖5]是顯示在圖3的液晶顯示裝置上設置的起偏器的層序的示意圖。[圖6]是表示使用了包含本發(fā)明的偏振膜的起偏器的液晶顯示裝置（內(nèi)設（Incell）式）的構成的截面示意圖。[圖7]是表示使用了包含本發(fā)明的偏振膜的起偏器的EL顯示裝置的構成的截面示意圖。[圖8]是包含本發(fā)明的偏振膜的圓偏振板的截面示意圖。[圖9]是顯示包含本發(fā)明的偏振膜的圓偏振板的連續(xù)制造方法的一個例子的截面示意圖。[圖10]是表示設置了包含本發(fā)明的偏振膜的起偏器的EL顯示裝置的構成的截面示意圖。[圖11]是顯示設置了包含本發(fā)明的偏振膜的起偏器的投射型液晶顯示裝置的構成的概略圖。符號說明1基材2光取向膜3本偏振膜4相位差層100本起偏器110本圓偏振板210第1輥210A卷芯220第2輥220A卷芯211A、211B涂布裝置212A、212B干燥爐213A偏振光UV照射裝置213B光照射裝置300輔助輥10液晶顯示裝置12a、12b起偏器13a、13b相位差膜14a、14b基板15濾色器16透明電極17液晶層18層間絕緣膜19背光模組20黑色矩陣21薄膜晶體管22像素電極23墊片24液晶顯示裝置30EL顯示裝置31偏振膜32相位差膜33基板34層間絕緣膜35像素電極36發(fā)光層37陰極電極38干燥劑39密封蓋40薄膜晶體管41肋（Rib）42薄膜密封膜44EL顯示裝置111光源112第1透鏡陣列112a透鏡113第2透鏡陣列114偏振光轉換元件115復合透鏡121、123、132分色鏡122反射鏡140R、140G、140B液晶面板142、143起偏器150十字分色棱鏡（Crossdichroicprism）170投射透鏡180投影屏具體實施方式<本發(fā)明的組合物（以下，根據(jù)情況稱之為“本組合物”。）>本組合物的特征在于含有上述式（A）所表示的偶氮化合物（A）和上述式（B）所表示的偶氮化合物（B）。本組合物可以含有多種偶氮化合物（A），也可以含有多種偶氮化合物（B）。上述式（A）的R1a及式（B）的R1b中，具有或不具有氟原子的碳原子數(shù)1～20的烷基是指，甲基、乙基、丙基、丁基、己基、辛基、癸基、十二烷基、十七烷基、十八烷基及二十烷基等的烷基及此處所示的烷基中包含的一部分或全部的氫原子被氟原子取代而成的氟化烷基。具有或不具有氟原子的碳原子數(shù)1～20的烷基可以是直鏈或含支鏈。上述式（A）的R1a及式（B）的R1b中的碳原子數(shù)1～20的烷氧基的具體例有甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、己氧基、辛氧基、癸氧基、十二烷氧基、十七烷氧基、十八烷氧基及二十烷氧基等。雖然碳原子數(shù)1～20的烷氧基可以是直鏈或含支鏈，但優(yōu)選該烷氧基為直鏈。上述式（A）的R1a及上述式（B）的R1b中的碳原子數(shù)1～20的二烷基氨基是指具有2個烷基的氨基，該2個烷基的總碳原子數(shù)在2～20的范圍。而且，雖然也有著該二烷基氨基中的2個烷基相互鍵合與氮原子共同形成環(huán)的情況，但此時所述環(huán)的碳原子數(shù)在2～20的范圍。優(yōu)選上述式（A）的R1a及上述式（B）的R1b分別獨立地為碳原子數(shù)1～12的烷基、乙酰基、三氟甲基、氰基或硝基。上述式（A）的A1a及A3a以及上述式（B）的A1b及A3b為具有或不具有甲基的2價芳基，這些芳基為例如碳原子數(shù)6～12的芳烴基、含有雜原子的碳原子數(shù)4～6的芳雜環(huán)基。此處所述的芳雜環(huán)基典型地為從芳雜環(huán)化合物去掉2個氫原子后的基團。此外，該芳烴基及芳雜環(huán)基的碳原子數(shù)是指，這些基團具有甲基作為取代基的情況下，包括作為取代基的甲基的碳原子數(shù)的總碳原子數(shù)。優(yōu)選式（A）的A1a及A3a以及式（B）的A1b及A3b為芳烴基，更優(yōu)選為苯基及萘基，特別優(yōu)選為苯基。特別優(yōu)選上述式（A）的A2a及上述式（B）的A2b為芳雜環(huán)基。A2a及A2b的芳雜環(huán)基包括任意取代的甲基的碳原子數(shù)，優(yōu)選其總碳原子數(shù)為4～12的范圍，更優(yōu)選為5～6的范圍。優(yōu)選A2a及A2b為未取代（不具有甲基）的多環(huán)式芳雜環(huán)基，此外，優(yōu)選為二環(huán)式的多環(huán)式芳雜環(huán)基。二環(huán)式的多環(huán)式芳雜環(huán)基是指，從由2個單環(huán)的芳雜環(huán)縮合而成的芳雜環(huán)化合物或由1個單環(huán)的芳雜環(huán)與1個單環(huán)的芳香環(huán)縮合而成的芳雜環(huán)化合物除去2個氫原子后的基團。其中，優(yōu)選的A2a及A2b像亞并二噻吩基（Thienothiophenediyl）、亞噻吩并噻唑基（Thienothiazolediyl）及亞噻吩并惡唑基（Thienooxazolediyl）這樣，含有硫原子作為構成環(huán)的原子。這些基團，例如，從上述任意一個芳雜環(huán)化合物除去2個氫原子后的基團，典型地為以下所示的基團（而且，基團中的2個*表示鍵合位置）。這些之中，特別優(yōu)選將由式（AR1-2）及式（AR1-4）分別表示的基團作為A2a及A2b。上述式（A）的R2a及R3a分別獨立地為碳原子數(shù)1～3的烷基，R2a及R3a的總碳原子數(shù)在2～4的范圍。若將這樣的R2a及R3a的組合以[R2a：R3a]的形式表示，可列舉出[甲基：甲基]、[甲基：乙基]、[甲基：丙基]及[乙基：乙基]等。該組合中，像丙基這樣可取直鏈狀或支鏈狀的基團，雖然其為直鏈狀或支鏈狀皆可，但優(yōu)選為直鏈狀。在更簡便地制備偶氮化合物（A）方面，在這些組合之中優(yōu)選R2a與R3a為同一基團，若用[R2a：R3a]表示，則優(yōu)選為[甲基：甲基]或[乙基：乙基]。此外，R2a及R3a有著相互鍵合形成碳原子數(shù)2～4的亞烷基的情況。作為這樣的亞烷基，可列舉出亞乙基、亞丙基及亞丁基等。上述式（B）的R2b及R3b分別獨立地為碳原子數(shù)1～12的烷基，R2b及R3b的總碳原子數(shù)在6以上的范圍。優(yōu)選該R2b及R3b的總碳原子數(shù)在6～24的范圍，更優(yōu)選在6～12的范圍。若用[R2b：R3b]的形式表示這樣的R2b及Rba的組合，可列舉出[丙基：丙基]、[丙基：丁基]、[丙基：戊基]、[丙基：己基]、[丁基：丁基]、[丁基：戊基]、[丁基：己基]、[戊基：戊基]、[戊基：己基]、[己基：己基]等。該組合中，雖然可取直鏈或支鏈的基團可以為直鏈或支鏈的任意一種，但優(yōu)選為直鏈。在可更簡便地制備偶氮化合物（B）方面，在這些組合之中，優(yōu)選R2b與R3b為同一基團，若用[R2a：R3a]表示，則優(yōu)選為[丙基：丙基]或[丁基：丁基]或[戊基：戊基]或[己基：己基]。此外，R2b及R3b有著相互鍵合形成碳原子數(shù)6以上的亞烷基的情況。作為這樣的亞烷基，有亞己基、亞庚基、亞癸基及亞十二烷基等。優(yōu)選該亞烷基的碳原子數(shù)的上限例如為20以下，特別優(yōu)選為12以下。上述式（A）的na及ma分別獨立地為0～3的整數(shù)，滿足na+ma≥1的關系。優(yōu)選這些na及ma分別獨立地為0～2的整數(shù)，進一步優(yōu)選na及ma皆為1。上述式（B）的nb及mb分別獨立地為0～3的整數(shù)，滿足nb+mb≥1的關系。優(yōu)選這些nb及mb分別獨立地為0～2的整數(shù)，進一步優(yōu)選nb及mb皆為1。此處，顯示偶氮化合物（A）的優(yōu)選例。此外，偶氮化合物（B）的優(yōu)選例如下。本組合物中包含的偶氮化合物（A）及偶氮化合物（B）的優(yōu)選的組合為式（A）的R1a與式（B）的R1b相同、式（A）的Ar1a、Ar2a及Ar3a與式（B）的Ar1b、Ar2b及Ar3b分別相同、式（A）的na及ma與式（B）的nb及mb分別相同的組合。即，優(yōu)選的組合是，含有偶氮化合物（A）和式（B’）所示的偶氮化合物（B’）的本組合物。[式（B’）中，R1a、Ar1a、Ar2a、Ar3a、na及ma與上述式（A）同義。R2b及R3b與上述式（B）同義。]因原料的獲取更容易故特別優(yōu)選這樣的組合。這樣的含有偶氮化合物（A）和偶氮化合物（B’）的本組合物有著可由同一原料制備的優(yōu)點。若舉出具體例進行說明，例如，通過根據(jù)日本專利特開平1-146960號公報中公開的方法，可制備ma=1的偶氮化合物（A）及偶氮化合物（B’）。例如，通過適當?shù)姆椒▽⑹剑–1）所表示的化合物（C1）偶氮化，通過使該偶氮化了的化合物（C1）與式（C2）所表示的化合物（C2）進行偶聯(lián)反應可制備偶氮化合物（A），通過使偶氮化了的化合物（C1）與式（C3）所表示的化合物（C2）進行偶聯(lián)反應可制備偶氮化合物（B’）。（式中的各符號皆與上述同義。）（式中的各符號皆與上述同義。）（式中的各符號皆與上述同義。）雖然可像這樣通過預先分別制備偶氮化合物（A）及偶氮化合物（B’），然后混合它們來制備本組合物，但若例如使偶氮化了的化合物（C1）與化合物（C2）及化合物（C3）同時反應，則可通過一次反應制得本組合物。用偶氮化合物（A）的含量相對于偶氮化合物（B）的含量的比來表示本組合物中的偶氮化合物（A）與偶氮化合物（B）的混合比例，優(yōu)選其在50～90質量%的范圍，進一步優(yōu)選在60～80質量%的范圍。用偶氮化合物（A）的含量相對于偶氮化合物（B’）的含量的比來表示本組合物中的偶氮化合物（A）與偶氮化合物（B’）的混合比例，優(yōu)選其在50～90質量%的范圍，進一步優(yōu)選在60～80質量%的范圍。如上所述，通過一次反應制得含有偶氮化合物（A）及偶氮化合物（B’）的本組合物的情況下，調整化合物（C1）、化合物（C2）及化合物（C3）的用量以使偶氮化合物（A）及偶氮化合物（B’）的含有比率落在上述范圍內(nèi)。雖然說明了通過一次反應制備含有偶氮化合物（A）及偶氮化合物（B’）的本組合物，但還可以通過其他公知的方法制備偶氮化合物（A）及偶氮化合物（B）[或偶氮化合物（B’）]。例如，若根據(jù)上述專利文獻1中記載的二向色性色素的制造方法，本領域的技術人員可以容易地制得偶氮化合物（A）及偶氮化合物（B）。此外，若根據(jù)日本專利特開平1-146960號公報中公開的方法，可高純度地制備偶氮化合物（A）及偶氮化合物（B）。以上說明的本組合物作為偏振膜形成用二向色性色素，尤其是用于后述偏振膜形成用組合物的二向色性色素而有用。以下，對使用了作為二向色性色素的本組合物的偏振膜形成用組合物及使用所述偏振膜形成用組合物的偏振膜的制造加以說明。<偏振膜形成用組合物>通過含有本組合物的偏振膜形成用組合物，在后述的偏振膜制造中，可充分防止缺陷的發(fā)生、形成高品質的偏振膜。除了含有本組合物（二向色性色素）以外，優(yōu)選該偏振膜形成用組合物含有聚合性液晶化合物及溶劑。而且，用相對于后述的聚合性液晶化合物100質量份的含量表示，優(yōu)選該偏振膜形成用組合物中的本組合物的含量為10質量份以下，更優(yōu)選為0.1質量份以上、5質量份以下，進一步優(yōu)選為0.1質量份以上、3質量份以下。若在上述范圍內(nèi)，則在形成偏振膜時，使聚合性液晶化合物聚合時，其取向沒有混亂的情況，進一步，也不存在本組合物在偏振膜形成用組合物中結晶化而產(chǎn)生缺陷的情況。此處，對偏振膜形成用組合物中包含的本組合物以外的構成成分進行說明。<聚合性液晶化合物>上述偏振膜形成用組合物中含有的聚合性液晶化合物是指，具有聚合性基團、在特定溫度條件下顯示液晶狀態(tài)，優(yōu)選為顯示近晶型液晶相的液晶狀態(tài)的化合物。聚合性基團是指參與聚合反應的基團。優(yōu)選聚合性液晶化合物所顯示的優(yōu)選近晶型液晶相的液晶狀態(tài)為高度近晶型液晶相。此處所述的高度近晶型液晶相為近晶B相、近晶D相、近晶E相、近晶F相、近晶G相、近晶H相、近晶I相、近晶J相、近晶K相及近晶L相，其中，更優(yōu)選為近晶B相、近晶F相及近晶I相。根據(jù)聚合性液晶化合物所顯示的液晶狀態(tài)，可制得取向有序度高的偏振膜。此外，像這樣取向有序度高的偏振膜在X射線反射測定中得到布拉格峰。根據(jù)使用了后述偏振膜形成用組合物的偏振膜，所述布拉格峰是來源于分子取向的面周期結構的峰，可制得其周期間隔為的偏振膜。作為優(yōu)選的聚合性近晶型液晶組合物，可列舉如式（2）所表示的化合物（以下，根據(jù)情況稱之為“化合物（2）”）。U1-V1-W1-X1-Y10-X2-Y11-X3-W2-V2-U2（2）[式（2）中，X1、X2及X3相互獨立地表示具有或不具有取代基的1,4-亞苯基或具有或不具有取代基的1,4-亞環(huán)己基。但是，X1、X2及X3之中至少1個為具有或不具有取代基的1,4-亞苯基。構成具有或不具有取代基的1,4-亞環(huán)己基的-CH2-可以被-O-、-S-或-NR-取代。R為碳原子數(shù)1～6的烷基或苯基。Y10及Y11相互獨立地表示-CH2CH2-、-CH2O-、-COO-、-OCOO-、單鍵、-N=N-、-CRa=CRb-、-C≡C-或-CRa=N-。Ra及Rb相互獨立地表示氫原子或碳原子數(shù)1～4的烷基。U1表示氫原子或聚合性基團。U2表示聚合性基團。W1及W2相互獨立地表示單鍵、-O-、-S-、-COO-或-OCOO-。V1及V2相互獨立地表示具有或不具有取代基的碳原子數(shù)1～20的亞烷基，構成該亞烷基的-CH2-可以被-O-、-S-或-NH-取代。]化合物（2）中，如上所述，X1、X2及X3之中，優(yōu)選至少2個為具有或不具有取代基的1,4-亞苯基。優(yōu)選具有或不具有取代基的1,4-亞苯基未取代。優(yōu)選具有或不具有取代基的1,4-環(huán)亞己基為具有或不具有取代基的反式-1,4-環(huán)亞己基，更優(yōu)選具有或不具有取代基的反式-1,4-環(huán)亞己基未取代。作為具有或不具有取代基的1,4-亞苯基或具有或不具有取代基的1,4-環(huán)亞己基任意具有的取代基，可列舉出甲基、乙基及丁基等碳原子數(shù)1～4的烷基；氰基；鹵原子等。優(yōu)選化合物（2）的Y10為-CH2CH2-、-COO-或單鍵，優(yōu)選Y11為-CH2CH2-或-CH2O-。U2為聚合性基團。U1為氫原子或聚合性基團，優(yōu)選為聚合性基團。優(yōu)選U1及U2皆為聚合性基團，更優(yōu)選皆為光致聚合性基團。光致聚合性基團是指通過由后述光致聚合引發(fā)劑產(chǎn)生的活性自由基或酸等可參與聚合反應的基團。具有光致聚合性基團的聚合性液晶化合物在可在更低溫條件下聚合的方面有利?；衔铮?）中，U1及U2的聚合性基團可以相互不同，但優(yōu)選為相同種類的基團。作為聚合性基團，可列舉出乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、環(huán)氧乙基、氧雜環(huán)丁基等。其中，優(yōu)選為丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯氧基、環(huán)氧乙基及氧雜環(huán)丁基，更優(yōu)選為丙烯酰氧基。作為V1及V2所表示的具有或不具有取代基的碳原子數(shù)1～20的亞烷基中的碳原子數(shù)1～20的亞烷基，可列舉出亞甲基、亞乙基、1,3-亞丙基、1,3-亞丁基、1,4-亞丁基、1,5-亞戊基、1,6-亞己基、1,7-亞庚基、1,8-亞辛基、1,10-亞癸基、1,14-亞十四烷基及1,20-亞二十烷基等。優(yōu)選V1及V2為碳原子數(shù)2～12的亞烷基，更優(yōu)選為碳原子數(shù)6～12的亞烷基。作為具有或不具有取代基的碳原子數(shù)1～20的亞烷基任意具有的取代基，雖然可列舉出氰基及鹵原子等，但優(yōu)選該亞烷基未取代，更優(yōu)選未取代且直鏈狀的亞烷基。W1及W2相互獨立地優(yōu)選為單鍵或-O-。作為化合物（2），可列舉出由式（2-1）～式（2-43）分別表示的化合物等[以下，根據(jù)情況，對應于其化學式的編號將這些聚合性液晶化合物稱為“化合物（2-6）”等。]。這樣的化合物（2）的具體例具有1,4-環(huán)亞己基時，優(yōu)選該1,4-環(huán)亞己基為反式體。聚合性液晶化合物可以單獨或2種以上混合用于偏振膜形成用組合物中。此外，混合2種以上時，優(yōu)選至少1種為化合物（2），更優(yōu)選至少2種為化合物（2）。作為混合2種聚合性液晶化合物時的混合比，通常為1:99～50:50，優(yōu)選為5:95～50:50，更優(yōu)選為10:90～50:50。預先求出聚合性液晶化合物的相轉變溫度，在低于該相轉變溫度的溫度條件下，調整聚合性液晶化合物以外的成分以使該聚合性液晶化合物聚合從而實施偏振膜形成用組合物的聚合。作為可控制這樣的聚合溫度的成分，可列舉出后述光致聚合引發(fā)劑、光敏化劑及阻聚劑等。通過適當調節(jié)它們的種類及量，可控制聚合性液晶化合物的聚合溫度。而且，即使在偏振膜形成用組合物中使用2種以上聚合性液晶化合物的混合物的情況下，也可在求出所述2種以上聚合性液晶化合物的混合物的相轉變溫度之后同樣地實施。舉例示出的化合物（2）之中，優(yōu)選為分別由式（2-5）、式（2-6）、式（2-7）、式（2-8）、式（2-9）、式（2-10）、式（2-11）、式（2-12）、式（2-13）、式（2-14）、式（2-15）、式（2-22）、式（2-24）、式（2-25）、式（2-26）、式（2-27）、式（2-28）及式（2-29）所表示的化合物。這些化合物通過與其他聚合性液晶化合物或光致聚合引發(fā)劑的相互作用，在低于相轉變溫度的溫度條件下，即在充分保持高度近晶相的液晶狀態(tài)的狀態(tài)下，可容易地聚合。更具體地，通過與光致聚合引發(fā)劑的相互作用，這些化合物在70℃以下，優(yōu)選為60℃以下的溫度條件下，在充分保持高度近晶相的液晶狀態(tài)的狀態(tài)下可進行聚合。相對于偏振膜形成用組合物的固態(tài)成分，優(yōu)選偏振膜形成用組合物中的聚合性液晶化合物的含有比例為70～99.9質量%，更優(yōu)選為90～99.9質量%。若聚合性液晶化合物的含有比例在所述范圍內(nèi)，則有聚合性液晶化合物的取向性變高的傾向從而優(yōu)選。此處，固態(tài)成分是指，從偏振膜形成用組合物除去溶劑等揮發(fā)性成分后的成分的總量。聚合性液晶化合物可以根據(jù)例如Lubetal.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas，115，321-328（1996）或日本專利第4719156號等中記載的公知方法來制備。<聚合性非液晶化合物>優(yōu)選偏振膜形成用組合物含有聚合性非液晶化合物。聚合性非液晶化合物是指，具有聚合性基團、并且即使隨著溫度變化，在固體與液體之間也不具有液晶狀態(tài)的化合物。優(yōu)選聚合性非液晶化合物為（i）其本身沒有著色（對可見光的吸收）、（ii）具有與聚合性液晶化合物均勻混合的程度的相溶性、并且（iii）不阻礙聚合性液晶化合物所顯示的液晶狀態(tài)的形成。此外，優(yōu)選在聚合性液晶化合物與聚合性非液晶化合物的聚合中不會出現(xiàn)像相分離那樣的情況的化合物。作為這樣的聚合性非液晶化合物，可列舉出單官能度丙烯酸酯及多官能度丙烯酸酯。單官能度是指具有1個聚合性基團，多官能度是指具有多個聚合性基團。在聚合性液晶化合物與聚合性非液晶化合物的聚合反應連續(xù)進行方面，優(yōu)選多官能度丙烯酸酯。優(yōu)選聚合性非液晶化合物所具有的自由基聚合性基團的個數(shù)為1個到6個，進一步優(yōu)選為2個到6個，更優(yōu)選為3個到6個。優(yōu)選聚合性非液晶化合物所具有的聚合性基團與聚合性液晶化合物所具有的聚合性基團相同。而且，從聚合性液晶化合物及聚合性非液晶化合物選出的至少一種化合物具有多種聚合性基團時，優(yōu)選聚合性液晶化合物所具有的至少1個聚合性基團與聚合性非液晶化合物所具有的至少1個聚合性基團相同。作為更優(yōu)選的聚合性非液晶化合物，可列舉出具有上述（i）、（ii）及（iii）的特征的、在分子內(nèi)具有1個到6個，優(yōu)選為2個到6個聚合性基團的單官能度丙烯酸酯及多官能度丙烯酸酯。而且，從這樣的單官能度丙烯酸酯及多官能度丙烯酸酯為非液晶性方面考慮，優(yōu)選其為不具有介晶結構的物質。這樣的聚合性非液晶化合物可以使用市售品。作為這樣的市售品，可列舉如：A-DOD-N、A-HD-N、A-NOD-N、APG-100、APG-200、APG-400、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM-3、A-TMPT、AD-TMP、ATM-35E、A-TMMT、A-9550、A-DPH、HD-N、NOD-N、NPG、TMPT（新中村化學株式會社制）、“ARONIXM-220”、ARONIX“M-325”、ARONIX“M-240”、ARONIX“M-270”、ARONIX“M-309”、ARONIX“M-310”、ARONIX“M-321”、ARONIX“M-350”、ARONIX“M-360”、ARONIX“M-305”、ARONIX“M-306”、ARONIX“M-450”、ARONIX“M-451”、ARONIX“M-408”、ARONIX“M-400”、ARONIX“M-402”、ARONIX“M-403”、ARONIX“M-404”、ARONIX“M-405”、ARONIX“M-406”（東亞合成株式會社制）、“EBECRYL11”、EBECRYL“145”、EBECRYL“150”、EBECRYL“40”、EBECRYL“140”、EBECRYL“180”、DPGDA、HDDA、TPGDA、HPNDA、PETIA、PETRA、TMPTA、TMPEOTA、DPHA（大賽璐·氰特株式會社制）。相對于偏振膜形成用組合物的總質量，聚合性非液晶化合物的含量為0.1～20質量%，優(yōu)選為1～10質量%，更優(yōu)選為3～7質量%。相對于本組合物的固態(tài)成分100質量份，更優(yōu)選為0.1～19質量份，進一步優(yōu)選為1～15質量份，特別優(yōu)選為4～10質量份。進一步，相對于聚合性液晶化合物100質量份，特別優(yōu)選為3質量份以上、10質量份以下。若聚合性非液晶化合物的含量在上述范圍內(nèi)，則偏振膜形成用組合物的取向性沒有混亂的情況，可以使偏振膜形成組合物中的聚合性成分（聚合性液晶化合物及聚合性非液晶化合物）共聚。雖然也根據(jù)聚合性液晶化合物及聚合性非液晶化合物各自的種類的不同而不同，但若聚合性非液晶化合物的含量比上述范圍多，則有易制得聚合性液晶化合物發(fā)生相分離、不均勻處多、透明性低的偏振膜的傾向。<溶劑>優(yōu)選偏振膜形成用組合物含有溶劑。作為溶劑，優(yōu)選為可充分溶解本混合物及聚合性液晶化合物的溶劑。此外，作為溶劑，優(yōu)選為對偏振膜形成用組合物中包含的聚合性液晶化合物的聚合反應呈惰性的溶劑。作為溶劑，可列舉出甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚及丙二醇單甲醚等醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內(nèi)酯或丙二醇甲醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環(huán)戊酮、環(huán)己酮、2-庚酮及甲基異丁基酮等酮溶劑；戊烷、己烷及庚烷等脂肪烴溶劑；甲苯及二甲苯等芳烴溶劑；乙腈等腈溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等醚溶劑；氯仿及氯苯等含氯溶劑；等。這些溶劑可以單獨使用，也可以多種組合使用。相對于所述偏振膜形成用組合物的總量，優(yōu)選溶劑的含量為50～98質量%。換言之，優(yōu)選偏振膜形成用組合物中的固態(tài)成分為2～50質量%。若固態(tài)成分為2質量%以上，則有易制得更薄型的偏振膜的傾向。此外，若該固態(tài)成分為50質量%以下，則因偏振膜形成用組合物的粘度變低，通過偏振膜的厚度變得大致均一，有變得在所述偏振膜中不易產(chǎn)生不均勻的傾向從而優(yōu)選。此外，可以考慮偏振膜的厚度來確定這樣的固態(tài)成分。接著，對偏振膜形成用組合物有著任意含有的情況的構成成分進行說明。<聚合反應助劑>優(yōu)選偏振膜形成用組合物含有聚合引發(fā)劑。所述聚合引發(fā)劑是可以引發(fā)聚合性液晶化合物的聚合反應的化合物。作為聚合引發(fā)劑，在低溫條件下可引發(fā)聚合反應方面，優(yōu)選為光致聚合引發(fā)劑。具體地，通過光的作用產(chǎn)生活性自由基或酸的化合物可用作光致聚合引發(fā)劑。所述光致聚合引發(fā)劑之中，更優(yōu)選為通過光的作用產(chǎn)生活性自由基的物質。作為聚合引發(fā)劑，可列舉如：安息香化合物、二苯甲酮化合物、烷基苯基酮化合物、?；趸⒒衔铩⑷夯衔?、碘鎓鹽及硫鎓鹽等。作為安息香化合物，可列舉如：安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚及安息香異丁醚等。作為二苯甲酮化合物，可列舉如：二苯甲酮、鄰苯甲酰苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲?；?4’-甲基二苯基硫化物、3,3’,4,4’-四（叔丁基過氧羰基）二苯甲酮及2,4,6-三甲基二苯甲酮等。作為烷基苯酮化合物，可列舉如：二乙氧基苯乙酮、2-甲基-2-嗎啉基-1-（4-甲基硫代苯基）-1-丙酮、2-芐基-2-二甲基氨基-1-（4-嗎啉基苯基）-1-丁酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、1,2-二苯基-2,2-二甲氧基-1-乙酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-（2-羥基乙氧基）苯基]-1-丙酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮及2-羥基-2-甲基-1-[4-（1-甲基乙烯基）苯基]-1-丙酮的低聚物等。作為酰基氧化膦化合物，可列舉出2,4,6-三甲基苯甲?；交趸⒓半p（2,4,6-三甲基苯甲?；┍交趸⒌?。作為三嗪化合物，可列舉如：2,4-雙（三氯甲基）-6-（4-甲氧基苯基）-1,3,5-三嗪、2,4-雙（三氯甲基）-6-（4-甲氧基萘基）-1,3,5-三嗪、2,4-雙（三氯甲基）-6-（4-甲氧基苯乙烯基）-1,3,5-三嗪、2,4-雙（三氯甲基）-6-[2-（5-甲基呋喃-2-基）乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-雙（三氯甲基）-6-[2-（呋喃-2-基）乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-雙（三氯甲基）-6-[2-（4-二乙基氨基-2-甲基苯基）乙烯基]-1,3,5-三嗪及2,4-雙（三氯甲基）-6-[2-（3,4-二甲氧基苯基）乙烯基]-1,3,5-三嗪等。聚合引發(fā)劑還可以使用市售的聚合引發(fā)劑。作為市售的聚合引發(fā)劑，可列舉出“艷佳固（Irgacure）907”、“艷佳固184”、“艷佳固651”、“艷佳固819”、“艷佳固250”、“艷佳固369”（汽巴·日本（株））；“Seikuol（セイクオール）BZ”、“SeikuolZ”、“SeikuolBEE”（精工化學（株））；“kayacure（カヤキュアー）BP100”（日本化藥（株））；“kayacureUVI-6992”（陶氏公司制）；“AdekaOptomer（アデカオプトマー）SP-152”，“AdekaOptomerSP-170”（（株）艾迪科）；“TAZ-A”、“TAZ-PP”（日本大昌華嘉社）；及“TAZ-104”（三和化學社）等。偏振膜形成用組合物含有聚合引發(fā)劑時，其含量可以根據(jù)偏振膜形成用組合物中含有的聚合性液晶化合物的種類及其量做適當調整，通常，相對于聚合性液晶化合物總計100質量份，聚合引發(fā)劑的含量為0.1～30質量份，優(yōu)選為0.5～10質量份，更優(yōu)選為0.5～8質量份。若聚合性引發(fā)劑的含量在此范圍內(nèi)，則因可在聚合性液晶化合物的取向沒有混亂的情況下使其聚合故而優(yōu)選。偏振膜形成用組合物含有光致聚合引發(fā)劑時，該偏振膜形成用組合物可以含有光敏化劑。作為光敏化劑，可列舉如：氧雜蒽酮及硫雜蒽酮等氧雜蒽酮化合物（例如，2,4-二乙基硫雜蒽酮、2-異丙基硫雜蒽酮等）；蒽及含烷氧基的蒽（例如，二丁氧基蒽等）等蒽化合物；吩噻嗪及紅熒烯等。偏振膜形成用組合物含有光致聚合引發(fā)劑及光敏化劑時，所述偏振膜形成用組合物中含有的聚合性液晶化合物的聚合反應被進一步促進。這樣的光敏化劑的含量可以根據(jù)并用的光致聚合引發(fā)劑及聚合性液晶化合物的種類及其量做適當調整，通常，相對于聚合性液晶化合物的含量100質量份，其為0.1～30質量份，優(yōu)選為0.5～10質量份，更優(yōu)選為0.5～8質量份。為了使聚合性液晶化合物及聚合性非液晶化合物的聚合反應穩(wěn)定地進行，偏振膜形成用組合物可以含有阻聚劑。通過阻聚劑，可控制聚合性液晶化合物的聚合反應進行的程度。作為阻聚劑，可列舉如：對苯二酚、含烷氧基的對苯二酚、含烷氧基的鄰苯二酚（例如，丁基鄰苯二酚等）、鄰苯三酚、2,2,6,6-四甲基-1-哌啶氧基自由基等自由基捕獲劑；苯硫酚類；β-萘胺類及β-萘酚類等。偏振膜形成用組合物含有阻聚劑時，其含量可以根據(jù)使用的聚合性液晶化合物的種類及其量以及光敏化劑的含量等做適當調整，通常，相對于聚合性液晶化合物100質量份，其為0.1～30質量份，優(yōu)選為0.5～10質量份，更優(yōu)選為0.5～8質量份。若阻聚劑的含量在上述范圍內(nèi)，則因可在偏振膜形成用組合物中含有的聚合性液晶化合物的取向沒有混亂的情況下使其聚合故而優(yōu)選。<流平劑>優(yōu)選偏振膜形成用組合物含有流平劑。流平劑是指具有調節(jié)偏振膜形成用組合物的流動性、使涂布偏振膜形成用組合物而制得的涂布膜更加平坦的功能的物質，可列舉出表面活性劑等。作為優(yōu)選的流平劑，可列舉出以聚丙烯酸酯化合物為主成分的流平劑及以含氟原子的化合物為主成分的流平劑等。作為以聚丙烯酸酯化合物為主成分的流平劑，可列舉出“BYK-350”、“BYK-352”、“BYK-353”、“BYK-354”、“BYK-355”、“BYK-358N”、“BYK-361N”、“BYK-380”、“BYK-381”及“BYK-392”[畢克化學公司]等。作為以含氟原子的化合物為主成分的流平劑，可列舉出“Megafac（メガファック）R-08”、Megafac“R-30”、Megafac“R-90”、Megafac“F-410”、Megafac“F-411”、Megafac“F-443”、Megafac“F-445”、Megafac“F-470”、Megafac“F-471”、Megafac“F-477”、Megafac“F-479”、Megafac“F-482”及Megafac“F-483”[大日本油墨化學（株）]；“Surflon（サーフロン）S-381”、Surflon“S-382”、Surflon“S-383”、Surflon“S-393”、Surflon“SC-101”、Surflon“SC-105”、“KH-40”及“SA-100”[AGCSeimiChemical（AGCセイミケミカル）（株）]；“E1830”、“E5844”[（株）大金精細化學研究所]；“EFTOP（エフトップ）EF301”、EFTOP“EF303”、EFTOP“EF351”及EFTOP“EF352”[三菱材料電子化成（株）]等。偏振膜形成用組合物含有流平劑時，相對于聚合性液晶化合物的含量100質量份，其含量通常為0.3質量份以上、5質量份以下，優(yōu)選為0.5質量份以上、3質量份以下。若流平劑的含量在上述范圍內(nèi)，則因易使聚合性液晶化合物進行水平取向并且有制得的偏振膜變得更平滑的傾向故而優(yōu)選。若相對于聚合性液晶化合物的流平劑的含量超過上述范圍，則有在制得的本偏振膜中易產(chǎn)生不均勻的傾向。而且，該偏振膜形成用組合物可以含有2種以上流平劑。<偏振膜的形成方法>接著，對由含有本組合物的偏振膜形成用組合物形成偏振膜（以下，根據(jù)情況稱之為“本偏振膜”。）的方法進行說明。在這樣的方法中，通過將該偏振膜形成用組合物涂布在基材上形成本偏振膜。含有本組合物的偏振膜形成用組合物可以形成缺陷少的本偏振膜或充分抑制了涂布不均勻的發(fā)生的高品質的本偏振膜。<基材>作為基材，優(yōu)選為透明基材。透明基材是指具有可透過光、特別是可透過可見光的程度的透明性的基材。該透明性是指，在波長380～780nm的范圍內(nèi)對光線的透光率在80%以上的特性。具體地，作為透明基材，可列舉出玻璃基材及塑料基材等，優(yōu)選為塑料基材。作為構成塑料基材的塑料，可列舉如：聚乙烯、聚丙烯、降冰片烯系聚合物等聚烯烴；環(huán)狀烯烴系樹脂；聚乙烯醇；聚對苯二甲酸乙二醇酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙酰纖維素、二乙酰纖維素及纖維素乙酸酯丙酸酯等纖維素酯；聚萘二甲酸乙二醇酯；聚碳酸酯；聚砜；聚醚砜；聚醚酮；聚苯硫醚及聚苯醚等塑料。其中，從可以從市場容易地獲取、透明性優(yōu)異方面考慮，尤其優(yōu)選為纖維素酯、環(huán)狀烯烴系樹脂、聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚甲基丙烯酸酯。使用這樣的透明基材制造本偏振膜時，從可在輸送、保管所述透明基材時不會引起破壞等破損的情況下容易地進行操作的方面考慮，還可在該透明基材上貼上支撐基材等。此外，如下所述，由本偏振膜制造圓偏振板時，有賦予塑料基材以相位差性的情況。此情況下，只要通過對塑料基材進行拉伸處理等來賦予相位差性即可。對塑料基材賦予相位差性時，從易控制其相位差值方面考慮，優(yōu)選由纖維素酯或環(huán)狀烯烴系樹脂構成的塑料基材。纖維素酯是纖維素中包含的羥基的至少一部分被乙酸酯化的物質。由這樣的纖維素酯構成的纖維素酯薄膜可從市場容易地獲取。作為市售的三乙酰纖維素薄膜，有例如“fujitac（フジタック）薄膜”（富士膠片（株））；“KC8UX2M”、“KC8UY”及“KC4UY”（柯尼卡美能達精密光學（株））等。這樣的市售三乙酰纖維素薄膜可以直接或根據(jù)需要賦予相位差性然后用作透明基材。此外，還可在透明基材的表面上實施防眩光處理、硬質涂層處理、防靜電處理或防反射處理等表面處理，然后用作透明基材。作為賦予塑料基材以相位差性的方法，如上所述，可列舉出拉伸塑料基材等的方法等。由熱塑性樹脂構成的塑料基材皆可進行拉伸處理，但從易控制相位差性方面考慮，更優(yōu)選為由環(huán)狀烯烴系樹脂構成的塑料基材。環(huán)狀烯烴系樹脂是指例如由降冰片烯或多環(huán)降冰片烯系單體等環(huán)狀烯烴的聚合物或共聚物構成的物質，所述環(huán)狀烯烴系樹脂可以局部含有開環(huán)部位。此外，也可以是對含有開環(huán)部位的環(huán)狀烯烴系樹脂進行氫化后的物質。此外，從不會顯著損害透明性方面或不會顯著增大吸濕性方面考慮，所述環(huán)狀烯烴系樹脂例如可以是環(huán)狀烯烴、鏈狀烯烴或具有乙烯基的芳香族化合物（苯乙烯等）等的共聚物。此外，所述環(huán)狀烯烴系樹脂可以在其分子內(nèi)導入極性基團。環(huán)狀烯烴系樹脂為環(huán)狀烯烴、鏈狀烯烴或具有乙烯基的芳香族化合物的共聚物時，作為所述鏈狀烯烴，可列舉出乙烯及丙烯等，作為具有乙烯基的芳香族化合物，可列舉出苯乙烯、α-甲基苯乙烯及烷基取代苯乙烯等。在這樣的共聚物中，相對于環(huán)狀烯烴系樹脂的全部結構單元，來源于環(huán)狀烯烴的結構單元的含有比例為50摩爾%以下，例如，15～50摩爾%的程度的范圍。環(huán)狀烯烴系樹脂為由環(huán)狀烯烴、鏈狀烯烴和具有乙烯基的芳香族化合物制得的三元共聚物時，例如，相對于該環(huán)狀烯烴系樹脂的全部結構單元，來源于鏈狀烯烴的結構單元的含有比例通常為5～80摩爾%的程度，來源于具有乙烯基的芳香族化合物的結構單元的含有比例為5～80摩爾%的程度。制造該環(huán)狀烯烴系樹脂時，這樣的三元共聚物的環(huán)狀烯烴系樹脂有著可以使高價的環(huán)狀烯烴的用量相對減少的優(yōu)點。環(huán)狀烯烴系樹脂可以從市場容易地獲取。作為市售的環(huán)狀烯烴系樹脂，可列舉出“Topas”[泰科納社（德）]；“Arton（アートン）”[日本合成橡膠（株）]；“ZEONOR（ゼオノア）”及“ZEONEX（ゼオネックス）”[日本瑞翁（株）]；“apel（アペル）”[三井化學（株）制]等。這樣的環(huán)狀烯烴系樹脂可以例如通過溶劑流延法或熔融擠出法等公知的制膜方法制膜，然后制成薄膜（環(huán)狀烯烴系樹脂薄膜）。此外，還可使用已經(jīng)以薄膜的形式市售著的環(huán)狀烯烴系樹脂薄膜。作為這樣的市售的環(huán)狀烯烴系樹脂薄膜可列舉如：“エスシーナ”及“SCA40”[積水化學工業(yè)（株）]；“ZEONOR薄膜”[Optes（オプテス）（株）]；“Arton薄膜”[日本合成橡膠（株）]等。接著，對賦予塑料基材以相位差性的方法進行說明。塑料基材可以通過公知的拉伸方法賦予相位差性。例如，預備將塑料基材卷繞在輥上的輥（卷繞體），從這樣的卷繞體連續(xù)地將塑料基材退卷，將退卷的塑料基材輸送至加熱爐。加熱爐的設定溫度為塑料基材的玻璃轉變溫度附近（℃）～[玻璃轉變溫度+100]（℃）的范圍，優(yōu)選為玻璃轉變溫度附近（℃）～[玻璃轉變溫度+50]（℃）的范圍。在所述加熱爐中，朝塑料基材的行進方向或朝與行進方向正交的方向進行拉伸時，調節(jié)輸送方向和張力，朝任意角度傾斜，進行單軸向或二軸向熱拉伸處理。拉伸的倍率通常為1.1～6倍的程度的范圍，優(yōu)選為1.1～3.5倍的程度的范圍。此外，作為朝傾斜方向拉伸的方法，只要是可連續(xù)地使取向軸傾斜至所希望的角度的方法就沒有特別限制，可以采用公知的拉伸方法。這樣的拉伸方法可列舉如：日本專利特開昭50-83482號公報或日本專利特開平2-113920號公報中記載的方法。從可進行實用性地操作的程度的重量方面及可確保充分的透明性方面考慮，優(yōu)選透明基材的厚度薄，但若太薄則有強度降低，加工性變差的傾向。玻璃基材的適當?shù)暮穸葹槔?00～3000μm的程度，優(yōu)選為100～1000μm的程度。塑料基材的適當?shù)暮穸葹槔?～300μm的程度，優(yōu)選為20～200μm的程度。將偏振膜用作后述的圓偏振板時，特別是用作移動設備用途的圓偏振板時的透明基材的厚度優(yōu)選為20～100μm的程度。而且，通過拉伸對薄膜賦予相位差性時，拉伸后的厚度由拉伸前的厚度和拉伸倍率決定。<取向膜>優(yōu)選在用于本偏振膜的制造的基材上形成取向膜。該情況下，將偏振膜形成用組合物涂布在取向膜上。因此，優(yōu)選該取向膜具有不會出現(xiàn)由偏振膜形成用組合物的涂布等引起的溶解的程度的耐溶劑性。此外，優(yōu)選在除去溶劑和液晶取向用的加熱處理中具有耐熱性。這樣的取向膜可以由取向性聚合物形成。作為取向性聚合物，可列舉如：分子內(nèi)具有酰胺鍵的聚酰胺或明膠類、分子內(nèi)具有酰亞胺鍵的聚酰亞胺及其水解產(chǎn)物的聚酰胺酸、聚乙烯醇、烷基改性聚乙烯醇、聚丙烯酰胺、聚惡唑、聚乙烯亞胺、聚苯乙烯、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯酸或聚丙烯酸酯類等聚合物。這些之中，優(yōu)選聚乙烯醇。形成取向膜的這些取向性聚合物可以單獨使用或2種以上混合使用。取向性聚合物以溶解于溶劑中的取向性聚合物組合物（含有取向性聚合物的溶液）的形式涂布在基材上，可以在該基材上形成取向膜。作為該溶劑，可列舉出水；甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、甲基溶纖劑、丁基溶纖劑及丙二醇單甲醚等醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內(nèi)酯、丙二醇甲醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環(huán)戊酮、環(huán)己酮、甲基戊基酮及甲基異丁基酮等酮溶劑；戊烷、己烷及庚烷等脂肪烴溶劑；甲苯及二甲苯等芳烴溶劑，乙腈等腈溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等醚溶劑；氯仿及氯苯等氯取代烴溶劑；等。這些有機溶劑可以單獨使用或多種組合使用。此外，作為用于形成取向膜的取向性聚合物組合物，還可以直接使用市售的取向膜材料。作為市售的取向膜材料，可列舉出Sunever（サンエバー）（注冊商標，日產(chǎn)化學工業(yè)（株）制）或Optomer（オプトマー）（注冊商標，日本合成橡膠（株）制）等。作為在基材上形成取向膜的方法，可列舉如在基材上涂布上述取向性聚合物組合物或市售的取向膜材料，然后退火的方法。如此制得的取向膜的厚度在例如10nm～10000nm的范圍，優(yōu)選在10nm～1000nm的范圍。為了對上述取向膜賦予取向錨定力，根據(jù)需要還可進行摩擦（摩擦法）。通過賦予取向錨定力可以使聚合性液晶化合物向所希望的方向取向。作為通過摩擦法賦予取向錨定力的方法，可列舉如：準備卷繞了摩擦布、旋轉著的摩擦輥，將在基材上形成了取向膜形成用涂布膜的積層體置于運輸臺（Stage）上，通過將其朝旋轉著的摩擦輥輸送，使該涂布膜與旋轉著的摩擦輥接觸的方法。此外，還可以利用所謂的光取向膜。光取向膜是指，將含有具有光反應性基團的聚合物或單體和溶劑的組合物（以下，根據(jù)情況稱之為“光取向膜形成用組合物”）涂布在基材上，通過照射偏振光（優(yōu)選為偏振光UV）而賦予了取向錨定力的取向膜。光反應性基團是指，通過照射光（光照射）產(chǎn)生液晶取向能的基團。具體地，其是通過照射光而產(chǎn)生像分子的取向誘導或異構化反應、二聚化反應、光交聯(lián)反應或光分解反應這樣的產(chǎn)生成為液晶取向能的起源的光反應的物質。所述光反應性基團之中，從取向性優(yōu)異、保持偏振膜形成時的近晶型液晶狀態(tài)方面考慮，優(yōu)選引發(fā)二聚化反應或光交聯(lián)反應的物質。作為可發(fā)生如上反應的光反應性基團，優(yōu)選為具有不飽和鍵，特別是具有雙鍵的基團，特別優(yōu)選為具有從由碳-碳雙鍵（C=C鍵）、碳-氮雙鍵（C=N鍵）、氮-氮雙鍵（N=N鍵）及碳-氧雙鍵（C=O鍵）構成的群組中選出的至少一個的基團。作為具有C=C鍵的光反應性基團，可列舉如：乙烯基、多烯基、芪基、芪唑基、苯乙烯基吡啶鹽基、查爾酮基及肉桂?；?。作為具有C=N鍵的光反應性基團，可列舉出具有芳香族席夫堿及芳香族腙等結構的基團。作為具有N=N鍵的光反應性基團，可列舉出偶氮苯基、偶氮萘基、芳雜環(huán)偶氮基、雙偶氮基及甲臜基等或以氧化偶氮苯為基本結構的基團。作為具有C=O鍵的光反應性基團，可列舉出二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基及馬來酰亞胺基等。這些基團可以具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙氧基、氰基、烷氧羰基、羥基、磺酸基及鹵化烷基等取代基。其中，優(yōu)選可引起光致二聚化反應的光反應性基團，因易制得光取向所需的偏振光照射量相對較少并且熱穩(wěn)定性和經(jīng)時穩(wěn)定性優(yōu)異的光取向膜，故優(yōu)選肉桂?；安闋柾?。若進一步說，作為具有光反應性基團的聚合物，特別優(yōu)選具有聚合物側鏈的末端部位成為肉桂酸結構那樣的肉桂?；奈镔|。作為光取向膜形成用組合物的溶劑，優(yōu)選溶解具有光反應性基團的聚合物及單體的溶劑，作為該溶劑，可列舉如在上述取向性聚合物組合物中使用的溶劑。相對于光取向膜形成用組合物，具有光反應性基團的聚合物或單體的濃度可以根據(jù)具有所述光反應性基團的聚合物或單體的種類和想要制造的光取向膜的厚度做適當調整，用固態(tài)成分濃度表示，優(yōu)選其至少為0.2質量%，特別優(yōu)選為0.3～10質量%的范圍。此外，在不顯著損害光取向膜的特性的范圍內(nèi)，該光取向膜形成用組合物中可以包含聚乙烯醇或聚酰亞胺等高分子材料、光敏化劑。作為在基材上涂布取向性聚合物組合物或光取向膜形成用組合物的方法，可以采用旋涂法、擠壓法、凹版涂布法、模具式涂布法、棒式涂布（Barcoating）法及涂布器法等涂布法或柔版印刷法等印刷法等的公知的方法。而且，通過后述卷對卷（rolltoroll）形式的連續(xù)的制造方法來實施本偏振膜制造時，所述涂布方法通常采用凹版涂布法、模具式涂布法或柔版印刷法等印刷法。而且，進行摩擦或偏振光照射時，若進行掩蔽，則還可形成取向方向不同的多個區(qū)域（圖案）。<本偏振膜的制造方法>在基材或基材上形成的取向膜上，涂布偏振膜形成用組合物制得涂布膜（以下，有稱之為偏振膜形成用涂布膜的情況。）。作為在該取向膜上涂布偏振膜形成用組合物的方法（涂布方法），可列舉如與作為在基材上涂布取向性聚合物或光反應膜形成用組合物的方法而舉例示出的方法相同的方法。此處，對偏振膜形成用組合物中包含的聚合性液晶化合物為顯示近晶型液晶相的液晶狀態(tài)的化合物的情況予以說明。通過在偏振膜形成用涂布膜中包含的聚合性液晶化合物不聚合的條件下使溶劑干燥除去，形成干燥覆膜。作為干燥方法，可列舉如：自然干燥法、通風干燥法、加熱干燥及減壓干燥法等。接著，優(yōu)選暫且使所述干燥覆膜中包含的聚合性液晶組合物的液晶狀態(tài)轉變?yōu)橄蛄邢啵ㄏ蛄行鸵壕顟B(tài)）后，再使所述向列相轉變?yōu)榻唷Ｏ襁@樣為了經(jīng)由向列相形成近晶相，可以采用例如將干燥覆膜中包含的聚合性液晶化合物加熱至相轉變?yōu)橄蛄邢嗟囊壕顟B(tài)的溫度以上，接著將該聚合性液晶化合物冷卻至顯示近晶相的液晶狀態(tài)的溫度為止的方法。使上述干燥覆膜中的聚合性液晶化合物轉變?yōu)榻鸵壕嗟囊壕顟B(tài)，優(yōu)選為高度近晶型液晶狀態(tài)，或使該聚合性液晶化合物經(jīng)由向列型液晶狀態(tài)轉變?yōu)榻鸵壕顟B(tài)時，通過測定使用的聚合性液晶化合物的相轉變溫度，可容易地求出控制液晶狀態(tài)的條件（加熱條件）。這樣的相轉變溫度測定的測定條件在本申請的實施例中予以說明。使上述聚合性液晶化合物聚合時，尤其是為了良好地保持近晶相的液晶狀態(tài)，作為所述聚合性液晶化合物，優(yōu)選使用含有2種以上聚合性近晶型液晶化合物的偏振膜形成用組合物。若使用將所述2種以上聚合性液晶化合物的含量比調整過的偏振膜形成用組合物，則經(jīng)由向列相形成近晶相的液晶狀態(tài)后，可能暫時形成過冷狀態(tài)，有著易保持高度近晶相的液晶狀態(tài)的優(yōu)點。接著，對聚合性液晶化合物的聚合工序進行說明。此處，對使偏光膜形成用組合物中含有光致聚合引發(fā)劑，使干燥覆膜中的聚合性液晶化合物的液晶狀態(tài)轉變?yōu)榻嗪?，在保持此近晶相的液晶狀態(tài)的狀態(tài)下，使該聚合性液晶化合物進行光聚合的方法進行詳細說明。光聚合中，作為對干燥覆膜照射的光，可以通過根據(jù)所述干燥覆膜中包含的光致聚合引發(fā)劑的種類或聚合性液晶化合物的種類（特別是該聚合性液晶化合物所具有的光聚合性基團的種類）及其量適當?shù)貜挠煽梢姽?、紫外光及激光構成的群組中選出的光或活性電子束來進行。它們之中，在易控制聚合反應的進行方面和可使用在本領域中被廣泛使用著的裝置來作為涉及光聚合的裝置的方面，優(yōu)選紫外光。因此，通過紫外光，為了能夠進行光聚合，優(yōu)選預先選擇在上述偏振膜形成用組合物中包含的聚合性液晶化合物和光致聚合引發(fā)劑的種類。此外，聚合時，在紫外光照射的同時，還可通過適當?shù)睦鋮s裝置，通過將干燥覆膜冷卻來控制聚合溫度。通過采用這樣的冷卻裝置，若可在更低溫度下實施聚合性液晶化合物的聚合，則即使使用耐熱性相對較低的上述基材，也有著可妥當?shù)匦纬杀酒衲さ膬?yōu)點。而且，光聚合時，通過進行掩蔽和顯影等，還可制得形成了圖案的本偏振膜。通過進行如上的光聚合，上述聚合性液晶化合物在保持近晶相、優(yōu)選為已經(jīng)舉例示出的那樣的高度近晶相的液晶狀態(tài)下聚合，形成本偏振膜。聚合性液晶化合物在保持近晶相的液晶狀態(tài)的狀態(tài)下聚合制得的本偏振膜，由本組合物構成的二向色性色素分散在由聚合性液晶化合物構成的液晶相之中。優(yōu)選這樣形成的本偏振膜的厚度在0.5μm以上、5μm以下的范圍，進一步優(yōu)選為1μm以上、5μm以下。因此，偏振膜形成用涂布膜的厚度可以考慮制得的本偏振膜的厚度來確定。而且，本偏振膜的厚度通過干涉式膜厚計、激光顯微鏡或觸針式膜厚計的測定求出。此外，這樣形成的本偏振膜如上所述，特別優(yōu)選為在X射線反射測定中可獲得布拉格峰的本偏振膜。作為可獲得這樣的布拉格峰的偏振膜，可列舉如：顯示來源于六角相或結晶相的衍射峰的偏振膜。以上說明的本偏振膜的制造中，成為具備以本偏振膜/取向膜/基材的順序構成的構件。這樣的構件可直接變成用于液晶顯示裝置的起偏器。起偏器的制造方法包括例如以下（1）～（5）。（1）準備在基材上具備取向膜的積層體的工序；（2）上述積層體的取向膜上涂布偏振膜形成用組合物制得偏振膜形成用涂布膜的工序；（3）從上述偏振膜形成用涂布膜除去溶劑制得干燥覆膜的工序；（4）將上述干燥覆膜中包含的聚合性液晶化合物轉變成近晶型液晶狀態(tài)的工序；（5）上述聚合性液晶化合物在保持近晶型液晶狀態(tài)的狀態(tài)下，通過使上述聚合性液晶化合物聚合，在上述取向膜上形成偏振膜的工序<本偏振膜的連續(xù)制造方法>以上，對本偏振膜的制造方法的概要進行了說明，但在商業(yè)上制造本偏振膜時，追求可連續(xù)地制造本偏振膜的方法。這樣的連續(xù)的制造方法是通過卷對卷形式的方法，根據(jù)情況，稱之為“本制造方法”。本制造方法例如具有：預備基材卷繞在第1卷芯上的第1輥的工序、從該第1輥連續(xù)地將該基材退卷的工序、在該基材上連續(xù)地涂布光取向膜形成用組合物的工序、從涂布的光取向膜形成用組合物干燥除去該溶劑，在該基材上形成第1干燥覆膜的工序、通過對該第1干燥覆膜照射偏振光UV，形成光取向膜，連續(xù)地制得積層體的工序、在該光取向膜上涂布含有聚合性液晶化合物、二向色性色素及溶劑的偏振膜形成用組合物，在該光取向膜上連續(xù)地形成偏振膜形成用涂布膜的工序、通過在偏振膜形成用涂布膜中包含的聚合性液晶化合物不聚合的條件下使該偏振膜形成用涂布膜干燥，在該光取向膜上形成第2干燥覆膜的工序、使該第2干燥覆膜中包含的該聚合性液晶化合物成為近晶型液晶狀態(tài)后，在保持該液晶狀態(tài)的狀態(tài)下，通過使該聚合性液晶化合物聚合，連續(xù)地形成偏振膜作為起偏器的工序、將連續(xù)地制得的起偏器卷繞在第2卷芯上，制得第2輥的工序。此處參照圖1，對本制造方法進行說明。基材卷繞在第1卷芯210A上的第1輥210例如可以從市場容易地獲取。作為可以以這樣的輥的形態(tài)從市場獲取的基材，可列舉出在已經(jīng)舉例示出的基材之中，由纖維素酯、環(huán)狀烯烴系樹脂、聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚甲基丙烯酸酯構成的薄膜等。此外，將本偏振膜用作圓偏振板時，預先賦予了相位差性的透明基材也可以從市場容易地獲取，可列舉如由纖維素酯或環(huán)狀烯烴系樹脂構成的相位差膜等。接著，從上述第1輥210將基材退卷。將基材退卷的方法是通過在該第1輥210的卷芯210A上設置適當?shù)男D裝置，通過籍由所述旋轉裝置使第1輥210旋轉來進行的。此外，也可以是在第1輥210輸送基材的方向上設置適當?shù)妮o助輥300，通過所述輔助輥300的旋轉裝置將基材退卷的形式。進一步，還可以是通過在第1卷芯210A及輔助輥300中都設置旋轉裝置，一邊賦予基材以適度的張力，一邊將基材退卷的形式。從上述第1輥210退卷的基材在通過涂布裝置211A時，籍由所述涂布裝置211A在其表面上涂布光取向膜形成用組合物。為了像這樣連續(xù)地涂布光取向膜形成用組合物，如上所述，通過所述涂布裝置211A，實施凹版涂布法、模具式涂布法、柔版印刷法等印刷法。經(jīng)過涂布裝置211A的基材被輸送至干燥爐212A，籍由此干燥爐212A加熱，在透明基材上連續(xù)地形成第1干燥覆膜。作為干燥爐212A，可以使用例如熱風式干燥爐等。干燥爐212A的設定溫度可以根據(jù)通過涂布裝置211A涂布的上述光取向膜形成用組合物中包含的溶劑的種類等來確定。此外，可以是干燥爐212A劃分為多個區(qū)域，劃分的多個區(qū)域的設定溫度分別不同的形式，還可以是將多個干燥爐串聯(lián)配置，各干燥爐的設定溫度分別不同的形式的干燥爐。籍由從加熱爐212A通過而連續(xù)地形成的第1干燥覆膜，接著，籍由偏振光UV照射裝置213A，在第1干燥覆膜側的表面或透明基材側的表面上照射偏振光UV，該第1干燥覆膜形成光取向膜。此時，使基材的輸送方向D1與形成的光取向膜的取向方向D2所成的角度約為45°。圖2是表示偏振光UV照射后形成的光取向膜的取向方向D2與基材的輸送方向D1的關系的示意圖。即，圖2顯示著在通過偏振光UV照射裝置213A后，基材的輸送方向D1與光取向膜的取向方向D2所成的角度約為45°。這樣連續(xù)地形成了光取向膜的基材籍由繼續(xù)通過涂布裝置211B，在該光取向膜上涂布偏振膜形成用組合物后，通過干燥爐212B。籍由通過干燥爐212B，偏振膜形成用組合物中包含的聚合性液晶化合物形成近晶相的液晶狀態(tài)，形成第2干燥覆膜。干燥爐212B起著從上述偏振膜形成用組合物干燥除去溶劑的作用的同時，還負擔著給予熱能以使上述第2干燥覆膜中包含的聚合性液晶化合物變成近晶相的液晶狀態(tài)的作用。此外，為了在聚合性液晶化合物呈近晶相的液晶狀態(tài)之前，使該聚合性液晶化合物暫時成為向列相的液晶狀態(tài)，必須通過不同的加熱條件進行多階段的加熱處理。因此，干燥爐212B與干燥爐212A同樣地可以是劃分為多個區(qū)域，劃分的多個區(qū)域的設定溫度分別不同的形式，還可以是多個干燥爐串聯(lián)配置，干燥爐的設定溫度分別不同的形式的干燥爐。經(jīng)過上述干燥爐212B的基材，在偏振膜形成用組合物中包含的溶劑被充分除去、第2干燥覆膜中的聚合性液晶化合物保持近晶相的液晶狀態(tài)的狀態(tài)下，被輸送至光照射裝置213B。通過用光照射裝置213B進行的光照射，該聚合性液晶化合物在保持上述液晶狀態(tài)的狀態(tài)下進行光聚合，在取向膜上連續(xù)地形成本偏振膜。這樣連續(xù)地形成的本偏振膜可以以包含透明基材及取向膜的積層體的形態(tài)卷繞在第2卷芯220A上，制得第2輥220的形態(tài)。將形成的本偏振膜卷繞制得第2輥時，可以使用適當?shù)膲|片一同卷繞。如此，通過使基材以第1輥/涂布裝置211A/干燥爐212A/偏振光UV照射裝置213A/涂布裝置211B/干燥爐212B/光照射裝置213B的順序通過，在基材上的光取向膜上連續(xù)地形成本偏振膜，制造本起偏器。此外，圖1中顯示的本制造方法中，雖然顯示了從基材到本偏振膜的連續(xù)制造方法，但是，例如，也可以是通過使基材以第1輥/涂布裝置211A/干燥爐212A/偏振光UV照射裝置213A的順序通過，將連續(xù)地形成的積層體卷繞在卷芯上，以輥的形態(tài)制造積層體，從該輥將該積層體退卷，使退卷的該積層體以涂布裝置211B/干燥爐212B/光照射裝置213B的順序通過，制造本偏振膜。通過本制造方法制得的本偏振膜，其是形狀為薄膜狀且長條狀的物品。在該本偏振膜用于后述的液晶顯示裝置等的情況下，可以根據(jù)所述液晶顯示裝置的大小等裁剪成所需尺寸然后使用。以上，雖然以基材/光取向膜/本偏振膜的積層體的形態(tài)的情況為中心對包含本偏振膜的起偏器的構成及制造方法進行了說明，但如上所述，還可以從包含本偏振膜的起偏器剝離光取向膜和基材，也可以形成在該起偏器上積層有基材/光取向膜/本偏振膜以外的層或膜的形態(tài)。作為這些層及膜，如已經(jīng)敘述那樣，可以進一步具備相位差膜、也可以進一步具備防反射層或增亮膜。此外，通過使基材本身為相位差膜，還可形成相位差膜/取向膜/本偏振膜的形態(tài)的圓偏振板或橢圓偏振板。例如，使用單軸向拉伸過的1/4波長板作為相位差膜時，通過設定偏振光UV的照射方向為相對于透明基材的輸送方向略成45°，可通過卷對卷的方法制作圓偏振板。優(yōu)選在如此制造圓偏振板時使用的1/4波長板具有對可見光的面內(nèi)相位差值隨著波長變短而變小的特性。此外，使用1/2波長板作為相位差膜，制作將其慢軸與偏振膜的吸收軸的角度設定為錯開的那樣的直線偏振板輥，在與形成了該偏振膜的面的相反側上進一步形成1/4波長板，還可制成寬波段的圓偏振板。<本偏振膜的用途>本偏振膜可用于各種顯示裝置。顯示裝置是指具有顯示元件的裝置，包括作為發(fā)光源的發(fā)光元件或發(fā)光裝置。作為顯示裝置，可列舉如：液晶顯示裝置、有機電致發(fā)光（EL）顯示裝置、無機電致發(fā)光（EL）顯示裝置、電子發(fā)射顯示裝置（例如場發(fā)射顯示裝置（FED）、表面?zhèn)鲗щ娮影l(fā)射顯示裝置（SED））、電子紙（使用了電子墨水或電泳元件的顯示裝置、等離子顯示裝置、投射型顯示裝置（例如光柵光閥（GLV）顯示裝置、具有數(shù)字微反射鏡器件（DMD）的顯示裝置）及壓電陶瓷顯示裝置等。液晶顯示裝置包括透過型液晶顯示裝置、半透過型液晶顯示裝置、反射型液晶顯示裝置、直視型液晶顯示裝置及投射型液晶顯示裝置等的任意一種。這些顯示裝置可以是顯示2維圖像的顯示裝置，也可以是顯示3維圖像的立體顯示裝置。圖3及圖6是表示使用了本偏振膜的液晶顯示裝置（以下，根據(jù)情況稱之為“本液晶顯示裝置”。）10及24的截面構成的示意圖。液晶層17被夾在2張基板14a及基板14b中。圖7及圖10是表示使用了本偏振膜的EL顯示裝置（以下，根據(jù)情況稱之為“本EL顯示裝置”。）的截面構成的示意圖。圖11是示意性地顯示使用了本偏振膜的投射型液晶顯示裝置的構成的概略圖。首先對在圖3中顯示的本液晶顯示裝置10進行說明?；?4a的液晶層17側配置著濾色器15。濾色器15夾著液晶層17，被配置于與像素電極22相向的位置，黑色矩陣20被配置于與像素電極間的邊界相向的位置。透明電極16以覆蓋濾色器15及黑色矩陣20的方式被配置在液晶層17側。而且，濾色器15和透明電極16之間可以具有保護（overcoat）層（未圖示）?；?4b的液晶層17側有規(guī)律性地配置著薄膜晶體管21和像素電極22。像素電極22夾著液晶層17被配置在與濾色器15相向的位置。薄膜晶體管21和像素電極22之間配置著具有連接孔（未圖示）的層間絕緣膜18。作為基板14a及基板14b，使用玻璃基板及塑料基板。這樣的玻璃基板和塑料基板可以采用與作為用于本偏振膜制造中的透明基材而舉例示出的基材相同材質的基材。此外，本偏振膜的透明基板1可以兼作基板14a及基板14b。制造在基板上形成的濾色器15和薄膜晶體管21時，需要高溫加熱工序時，優(yōu)選玻璃基板或石英基板。可以根據(jù)基板14b的材質采用最合適的薄膜晶體管。作為薄膜晶體管21，可列舉出在石英基板上形成的高溫多晶硅晶體管、在玻璃基板上形成的低溫多晶硅晶體管、在玻璃基板或塑料基板上形成的無定型硅晶體管。為了使本液晶顯示裝置更加小型化，可以在基板14b上形成驅動IC。在透明電極16和像素電極22之間配置著液晶層17。為了保持基板14a及基板14b間的距離一定，在液晶層17中配置著墊片23。而且，圖2中圖示了柱狀的墊片，但所述墊片不限于柱狀，只要能使基板14a及基板14b間的距離保持一定，其形狀就任意。在基板14a及基板14b上形成的層之中與液晶層17接觸的面上，可以分別配置使液晶向所希望的方向取向用的取向層。而且，在液晶盒內(nèi)部配置本偏振膜，即，還可以在與液晶層17接觸的面?zhèn)扰渲帽酒衲?。在以下將這樣的形式稱為“內(nèi)設式”。而且，在下面敘述內(nèi)設式的優(yōu)選的液晶顯示裝置的概要。各構件以基板14a、濾色器15及黑色矩陣20、透明電極16、液晶層17、像素電極22、層間絕緣膜18及薄膜晶體管21以及基板14b的順序積層著。夾著這樣的液晶層17的基板14a及基板14b之中，在基板14b的外側設置著起偏器12a及12b，它們之中，至少在1個起偏器中使用了本偏振膜。進一步，優(yōu)選相位差層（例如，1/4波長板或光學補償薄膜）13a及13b積層著。起偏器12a及12b之中，通過在起偏器12b上配置本偏振膜，可以將使入射光轉變?yōu)橹本€偏振光的功能賦予給本液晶顯示裝置10。而且，根據(jù)液晶顯示裝置的結構和液晶層17中包含的液晶化合物的種類，也可以不配置相位差膜13a及13b，使用透明基板為相位差膜、包含本偏振膜的圓偏振板時，因可將該相位差膜制成相位差層，故也可省略圖3的相位差層13a及/或13b。在包含本偏振膜的起偏器的光出射側（外側）上可以進一步設置偏振膜。此外，在包含本偏振膜的起偏器的外側（在本偏振膜上進一步設置偏振膜時，在其外側）可以配置防止外光反射用的防反射膜。如上所述，在圖3的本液晶顯示裝置10的起偏器12a或12b中可以使用本偏振膜。通過將本偏振膜設置在起偏器12a及/或12b中，有著可實現(xiàn)本液晶顯示裝置10的薄型化的效果。將本偏振膜用在起偏器12a或12b中時，其積層順序沒有特別限制。參照圖3的虛線包圍的A及B的局部放大圖對此進行說明。圖4是圖3的A部分的放大截面示意圖。圖4的（A1）顯示了將包含本偏振膜的起偏器（以下，有稱之為本起偏器的情況。）100用作起偏器12a時，從相位差層13a側以本偏振膜3、光取向膜2及基材1的順序配置的配設情況。此外，圖4的（A2）顯示了從相位差層13a側以基材1、光取向膜2及本偏振膜3的順序配置的配設情況。圖5是圖3的B部分的放大示意圖。將本起偏器100用作起偏器12b時，圖5的（B1）中，從相位差膜13b側以基材1、光取向膜2及本偏振膜3的順序配置著。將本起偏器100用作起偏器12b時，圖5的（B2）中，從相位差膜13b側以本偏振膜3、光取向膜2及基材1的順序配置著。在起偏器12b的外側配置著作為發(fā)光源的背光模組19。背光模組19包含光源、導光體、反射板、擴散片及視場角調節(jié)片。作為光源，可列舉出電致發(fā)光、冷陰極管、熱陰極管、發(fā)光二極管（LED）、激光光源及汞燈等。此外，可以根據(jù)這樣的光源的特性來選擇本偏振膜的種類。本液晶顯示裝置10為透過型液晶顯示裝置時，從背光模組19中的光源發(fā)出的白色光射入導光體，通過反射板改變光路在擴散片中擴散。擴散光通過視場角調節(jié)片調整為具有所希望的方向性后從背光模組19射入起偏器12b。作為非偏振光的入射光之中，僅某一方向的直線偏振光透過液晶面板的起偏器12b。該直線偏振光籍由相位差層13b轉變?yōu)閳A偏振光或橢圓偏振光，依次透過基板14b、像素電極22等到達液晶層17。根據(jù)此處像素電極22和與其相向的透明電極16之間有無電位差，液晶層17中包含的液晶分子的取向狀態(tài)變化，可控制從本液晶顯示裝置10發(fā)射的光的亮度。液晶層17處于使偏振光轉換然后透過的取向狀態(tài)時，該偏振光透過液晶層17、透明電極16，某一特定波長范圍的光透過濾色器15到達起偏器12a，液晶顯示裝置最明亮地顯示由濾色器決定的顏色。反過來，液晶層17處于使偏振光直接透過的取向狀態(tài)時，透過液晶層17、透明電極16及濾色器15的光被起偏器12a吸收。由此，此像素顯示黑色。在這2個狀態(tài)的中間的取向狀態(tài)時，從本液晶顯示裝置10發(fā)射的光的亮度也變成介于上述兩者的中間，此像素顯示中間色。本液晶顯示裝置10為半透過型液晶顯示裝置時，優(yōu)選使用在本起偏器的本偏振膜側進一步使1/4波長板積層而成的物品（圓偏振板）。此時，像素電極22具有由透明材料形成的透過部和由反射光的材料形成的反射部，透過部中，與上述透過型液晶顯示裝置同樣地顯示圖像。另一方面，反射部中，外光射入液晶顯示裝置，通過本偏振膜中進一步具備的1/4波長板的作用，透過本偏振膜的圓偏振光從液晶層17通過，被像素電極22反射而用于顯示。接著，對使用了本偏振膜、內(nèi)設式的優(yōu)選的液晶顯示裝置（本液晶顯示裝置24）參照圖6進行說明。本液晶顯示裝置24中，以基板14a、起偏器12a、相位差膜13a、濾色器15及黑色矩陣20、透明電極16、液晶層17、像素電極22、層間絕緣膜18及薄膜晶體管21、相位差膜13b、起偏器12b、基板14b以及背光模組19的順序積層，此構成中，優(yōu)選將起偏器12a用作本起偏器。此構成中，可以以起偏器中的基材兼作基板14a的方式，按照基材1、光取向膜2及本偏振膜3的順序配置本偏振膜。通過這樣的構成，具備本偏振膜的本液晶顯示裝置24被賦予了將入射光轉換為直線偏振光的功能。而且，與本液晶顯示裝置10同樣地，根據(jù)液晶層17中包含的液晶化合物的種類，可以不配置相位差層13a及13b。接著，對使用了本偏振膜的本EL顯示裝置30參照圖7進行說明。在本EL顯示裝置中使用本偏振膜時，優(yōu)選將本偏振膜制成圓偏振板（以下，根據(jù)情況稱之為“本圓偏振板”。）然后使用。本圓偏振板有2個實施方式。因此，在說明本EL顯示裝置30的構成等之前，對本圓偏振板的2個實施方式參照圖7進行說明。圖8的（A）是示意性地顯示本圓偏振板110的第1實施方式的截面圖。該第1實施方式是在本起偏器100中的本偏振膜3上進一步設置相位差層4而成的本圓偏振板110。圖8的（B）是示意性地顯示本圓偏振板110的第2實施方式的截面圖。該第2實施方式是通過將預先賦予了相位差性的基材1（相位差層4）用作制造本起偏器100時使用的基材1，得到基材1本身兼具作為相位差層4的功能的本圓偏振板110。此處，預先對關于本圓偏振板110的制造方法進行說明。與已經(jīng)說明的圓偏振板110的第2實施方式一樣，在制造本起偏器100的本制造方法中，可通過使用預先賦予了相位差性的基材1，即相位差膜作為基材1進行制造。本圓偏振板110的第1實施方式只要是通過在由本制造方法制造的本偏振膜3上貼合相位差膜來形成相位差層4即可。而且，根據(jù)本制造方法B，以第2輥220的方式制造本起偏器100時，可以是從該第2輥220將本起偏器100退卷，裁剪成規(guī)定尺寸，然后在裁剪的本起偏器100上貼合相位差膜的方式，但通過準備將相位差膜卷繞在卷芯上的第3輥，也可連續(xù)地制造形狀為薄膜狀且長條狀的本圓偏振板110。關于連續(xù)地制造本圓偏振板110的第1實施方式的方法，參照圖9進行說明。這樣的制造方法由以下工序構成：從上述第2輥220連續(xù)地將本起偏器100退卷的同時，從卷繞了相位差膜的第3輥230連續(xù)地將上述相位差膜退卷的工序、將在從上述第2輥220退卷的本起偏器100上設置的偏振膜和從上述第3輥退卷的上述相位差膜連續(xù)地貼合形成本圓偏振板110的工序、將形成的本圓偏振板110卷繞在第4卷芯240A上，制得第4輥240的工序。本圓偏振板的優(yōu)選的實施方式可列舉如以下<X1>及<X2>等。<X1>具有本偏振膜與λ/4層，滿足以下要件（A1）及（A2）的本圓偏振板（A1）本偏振膜的吸收軸與上述λ/4層的慢軸所成的角度約為45°；（A2）通過波長550nm的光測定的上述λ/4層的正面延遲值在100～150nm的范圍<X2>依次具有本偏振膜、λ/2層和λ/4層，完全滿足以下要件（B1）～（B4）的圓偏振板（B1）上述偏振膜的吸收軸與上述λ/2層的慢軸所成的角度約為15°；（B2）上述λ/2層的慢軸與上述λ/4層的慢軸所成的角度約為60°；（B3）上述λ/2層通過波長550nm的光測定的上述λ/2層的正面延遲值在200～300nm的范圍；（B4）上述λ/4層通過波長550nm的光測定的上述λ/4層的正面延遲值在100～150nm的范圍以上，雖然對本圓偏振板110的第1實施方式的制造方法進行了說明，但將起偏器100中的本偏振膜3與相位差膜貼合時，也可以使用適當?shù)恼澈蟿?，介由以該粘合劑形成的粘合層，將本偏振?與相位差膜貼合。對具備本圓偏振板110的本EL顯示裝置再次參照圖7進行說明。本EL顯示裝置30是在形成了像素電極35的基板33上積層了作為發(fā)光源的有機功能層36及陰極電極37而成的顯示裝置。在與有機功能層36的相反側上，配置了圓偏振板31，中間夾著基板33，使用本圓偏振板110作為這樣的圓偏振板31。通過在像素電極35上施加正電壓、在陰極電極37上施加負電壓、在像素電極35及陰極電極37之間施加直流電流，有機功能層36發(fā)光。作為發(fā)光源的有機功能層36由電子傳輸層、發(fā)光層及空穴傳輸層等構成。從有機功能層36發(fā)射的光通過像素電極35、層間絕緣膜34、基板33、圓偏振板31（本圓偏振板110）。雖然對具有有機功能層36的有機EL顯示裝置進行說明，但具有無機功能層的無機EL顯示裝置也可同樣適用。為了制造本EL顯示裝置30，首先，在基板33上以所希望的形狀形成薄膜晶體管40。然后層間絕緣膜34成膜，接著像素電極35通過濺射法成膜，形成圖案。之后，積層有機功能層36。接著，在基板33的設置著薄膜晶體管40的面相反的面上，設置圓偏振板31（本圓偏振板110）。將本圓偏振板110用作圓偏振板31時，其積層順序參照圖7的虛線圍成的C的局部放大圖進行說明。將本圓偏振板110用作圓偏振板31時，該本圓偏振板110中的相位差層4被配置在基板33側。圖9的（C1）是將本圓偏振板110的第1實施方式用作圓偏振板31的放大圖，圖9的（C2）是將本圓偏振板110的第2實施方式用作圓偏振板31的放大圖。接著，對本EL顯示裝置30的本偏振膜31（圓偏振板110）以外的構件進行說明。作為基板33，可列舉出藍寶石玻璃基板、石英玻璃基板、鈉玻璃基板及氧化鋁等陶瓷基板；銅等金屬基板；塑料基板等。雖然未圖示，但可以在基板33上形成熱傳導性膜。作為熱傳導性膜，可列舉出金剛石薄膜（DLC等）等。將像素電極35制成反射型時，向基板33的相反方向發(fā)射光。因此，不僅可以使用透明材料，還可使用不銹鋼等非透過材料?；蹇梢詥为毿纬?，也可以使多個基板通過粘接劑貼合而形成為積層基板。此外，這些基板不限于板狀，還可以是薄膜。作為薄膜晶體管40，可使用如多晶硅晶體管等。薄膜晶體管40被設置于像素電極35的端部，其大小為10～30μm的程度。而且，像素電極35的大小為20μm×20μm～300μm×300μm左右。在基板33上設置著薄膜晶體管40的配線電極。配線電極電阻低，有著與像素電極35電連接而將電阻值抑制得較低的功能，通常此配線電極使用含有Al、Al及過渡金屬（但是除去Ti）、Ti或氮化鈦（TiN）的任意1種或2種以上的配線電極。在薄膜晶體管40與像素電極35之間設置了層間絕緣膜34。層間絕緣膜34只要是SiO2等氧化硅、氮化硅等無機系材料通過濺射或真空蒸鍍而成膜的物品、通過SOG（旋涂玻璃）形成的氧化硅層、光致抗蝕劑、聚酰亞胺及丙烯酸樹脂等樹脂系材料的涂膜等具有絕緣性的物質，任意一種均可。在層間絕緣膜34上形成肋41。肋41被配置在像素電極35的周邊部（在相鄰像素之間）。作為肋41的材料，可列舉出丙烯酸樹脂及聚酰亞胺樹脂等。優(yōu)選肋41的厚度為1.0μm以上、3.5μm以下，更優(yōu)選為1.5μm以上、2.5μm以下。接著，對由作為透明電極的像素電極35、作為發(fā)光源的有機功能層36和陰極電極37構成的EL元件進行說明。有機功能層36具有分別至少1層的空穴傳輸層及發(fā)光層，例如，依次具有電子注入傳輸層、發(fā)光層、空穴傳輸層及空穴注入層。作為像素電極35，可列舉如：ITO（摻錫氧化銦）、IZO（摻鋅氧化銦）、IGZO、ZnO、SnO2及In2O3等，但特別優(yōu)選ITO和IZO。像素電極35的厚度只要是具有可充分進行空穴注入的一定以上的厚度即可，優(yōu)選為10～500nm的程度。像素電極35可以通過蒸鍍法（優(yōu)選為濺射法）形成。作為濺射氣體，沒有特別限制，可以使用Ar、He、Ne、Kr及Xe等惰性氣體或它們的混合氣體。作為陰極電極37的構成材料，雖然使用如K、Li、Na、Mg、La、Ce、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Zn及Zr等金屬元素即可，但為了使電極的工作穩(wěn)定性提高，優(yōu)選使用從舉例示出的金屬元素中選出的2種成分或3種成分的合金系。作為合金系，優(yōu)選如Ag·Mg（Ag：1～20at%）、Al·Li（Li：0.3～14at%）、In·Mg（Mg：50～80at%）及Al·Ca（Ca：5～20at%）等。陰極電極37通過蒸鍍法及濺射法等形成。陰極電極37的厚度為0.1nm以上，優(yōu)選為1～500nm?？昭ㄗ⑷雽泳哂惺箯南袼仉姌O35注入空穴變得容易的功能，空穴傳輸層具有傳輸空穴的功能及阻礙電子的功能，也稱作電荷注入層和電荷傳輸層。發(fā)光層的厚度、空穴注入層和空穴傳輸層的總厚度及電子注入傳輸層的厚度沒有特別限制，雖然也根據(jù)形成方法的不同而不同，但優(yōu)選為5～100nm左右?？昭ㄗ⑷雽雍涂昭▊鬏攲又锌梢允褂酶鞣N有機化合物。在空穴注入傳輸層、發(fā)光層及電子注入傳輸層的形成中，從可形成均質薄膜方面考慮可以使用真空蒸鍍法。作為發(fā)光源的有機功能層36可以使用利用單線態(tài)激子的發(fā)光（熒光）的有機功能層、利用三線態(tài)激子的發(fā)光（磷光）的有機功能層、包含利用單線態(tài)激子的發(fā)光（熒光）的有機功能層和利用三線態(tài)激子的發(fā)光（磷光）的有機功能層的有機功能層，由有機物形成的有機功能層、包含由有機物形成的有機功能層和由無機物形成的功能層的有機功能層，高分子材料、低分子材料、包含高分子材料和低分子材料的有機功能層等。但是，不限于此，在本EL顯示裝置30中可以使用使用了作為EL元件用的公知的各種材料的有機功能層36。在陰極電極37和密封蓋39的空間內(nèi)配置干燥劑38。這是因為有機功能層36對濕度敏感。通過干燥劑38吸收水分，防止有機功能層36的劣化。圖10是表示本EL顯示裝置30的其他形態(tài)的截面構成的概略圖。此本EL顯示裝置30具有使用了薄膜密封膜42的密封結構，甚至從陣列基板的相反面都可獲得發(fā)射光。作為薄膜密封膜42，優(yōu)選使用在電解電容的薄膜上蒸鍍了DLC（類金剛石碳）的DLC膜。DLC膜有透濕性極差的特性，防濕性能高。此外，DLC膜等可以在陰極電極37的表面上直接蒸鍍形成。此外，可以將樹脂薄膜和金屬薄膜積層為多層，形成薄膜密封膜42。如上，提供具備涉及本發(fā)明的新型偏振膜（本偏振膜）及本偏振膜的新型顯示裝置（本液晶顯示裝置及本EL顯示裝置）。最后，對使用了本偏振膜的投射型液晶顯示裝置進行說明。圖11是顯示使用了本偏振膜的投射型液晶顯示裝置的概略圖。本偏振膜被用作該投射型液晶顯示裝置的起偏器142及/或起偏器143。從作為發(fā)光源的光源（例如，高壓汞燈）111發(fā)射的光束籍由首先通過第1透鏡陣列112、第2透鏡陣列113、偏振光轉換元件114、復合透鏡115，進行反射光束截面上的亮度的均一化和偏光化。具體地，從光源111發(fā)射的光束籍由微小透鏡112a形成為矩陣狀而成的第1透鏡陣列112被分割為多條微小光束。具備第2透鏡陣列113及復合透鏡115，使得被分割成的光束分別照射作為照明對象的3個液晶面板140R、140G、140B全體，因此，各液晶面板入射側表面整體變得照度大致均一。偏振光轉換元件114由偏振光分束器陣列構成，被配置于第2透鏡陣列113和復合透鏡115之間。由此從光源發(fā)射的隨機偏振光預先轉換為具有特定偏光方向的偏振光，減少在后述入射側起偏器中的光損耗，起著使畫面的亮度提高的作用。如上進行了亮度均一化及偏光化的光經(jīng)由反射鏡122，籍由分離RGB3原色用的分色鏡121、123、132依次分離為紅色通道、綠色通道、藍色通道，分別射入液晶面板140R、140G、140B。液晶面板140R、140G、140B中，在其入射側配置著起偏器142，在發(fā)射側分別配置著起偏器143。在此起偏器142、起偏器143中可以使用本偏振膜。將在RGB各光路中配置的起偏器142及起偏器143配置成各自的吸收軸垂直相交。在各光路中配置的各液晶面板140R、140G、140B具有將通過圖像信號控制的每個像素的偏振光狀態(tài)轉換成光量的功能。通過選擇適于對應的通道的二向色性色素的種類，本起偏器100即使在藍色通道、綠色通道及紅色通道等光路中也作為耐久性優(yōu)異的偏振膜而有用。根據(jù)液晶面板140R、140G、140B的圖像數(shù)據(jù)，通過使入射光對各像素以不同的透光率透過而制成的光學圖像，被十字分色棱鏡150合成，通過投射透鏡170在投影屏180上放大投影。作為電子紙，可列舉出通過光學各向異性、染料分子取向、電泳、粒子運動、粒子旋轉、相變化等來進行顯示的電子紙、通過薄膜的一端移動來進行顯示的電子紙、通過分子的發(fā)色/相變化來進行顯示的電子紙、通過分子的光吸收來進行顯示的電子紙、通過電子和空穴結合而產(chǎn)生自發(fā)光來進行顯示的電子紙等。更具體地，可列舉出微膠囊型電泳、水平移動型電泳、垂直移動型電泳、球狀扭轉球、磁性扭轉球、圓柱扭轉球方式、帶電碳粉、電子粉流體、磁泳型、磁性熱感式、電濕潤、光散射（透明/白色渾濁變化），膽甾型液晶/光導電層、膽甾型液晶、雙穩(wěn)定性向列型液晶、強介電性液晶、2向色性色素·液晶分散法、可動薄膜、通過隱色染料的發(fā)色消色、光致變色、電致變色，電沉積及柔性有機EL等。電子紙不僅用于文本和圖像的個人用途，還可用于廣告顯示（標牌）等。通過本偏振膜，可使電子紙的厚度變薄。作為立體顯示裝置，提出了例如像微偏振膜（μPol）方式這樣的使不同的相位差膜交替排列的方法（日本專利特開2002-185983號公報），但若使用本偏振膜，則因通過印刷、噴墨打印、光刻等容易形成圖案，可使顯示裝置的制造工序縮短，且變得不需要相位差膜。[實施例]以下，根據(jù)實施例進一步詳細說明本發(fā)明。只要無另行說明，例中的“%”及“份”為質量%及質量份。實施例1[偏振膜形成用組合物（1）的制備]按照以下的比率混合本組合物和其他成分，通過在80℃下攪拌1小時，制得偏振膜形成用組合物（1）。[本組合物]偶氮化合物（A）；化合物（A-4）1.5份偶氮化合物（B）[偶氮化合物（B’）]；化合物（B-2）1.0份[其他成分]聚合性液晶化合物；化合物（2-6）75份化合物（2-8）25份聚合性非液晶化合物；二季戊四醇六丙烯酸酯5份（大賽璐氰特株式會社制）聚合引發(fā)劑；2-二甲基氨基-2-芐基-1-（4-嗎啉苯基）-1-丁酮（艷佳固369；汽巴精化社制）6份流平劑；聚丙烯酸酯化合物（BYK-361N；畢克化學社制）1.2部溶劑；甲苯250部[相轉變溫度的測定]在形成有取向膜的玻璃基材上，涂布偏振膜形成用組合物（1），除去溶劑形成膜，加熱后邊冷卻邊通過偏振光顯微鏡（BX-51，奧林巴斯社制）進行織構觀察來確認相轉變溫度。將由偏振膜形成用組合物（1）制得的膜升溫至140℃后，在降溫時，在107℃處相轉變?yōu)橄蛄邢?，?9℃處相轉變?yōu)榻相，在74℃處相轉變?yōu)榻相。[本偏振膜的制造及評價]1.取向膜的形成將玻璃基材用作基材。在該玻璃基材上，通過旋涂法涂布聚乙烯醇（聚乙烯醇1000完全皂化型，和光純藥工業(yè)株式會社制）的2質量%水溶液（取向膜聚合物組合物），干燥后，形成厚度100nm的膜。接著，通過對制得的膜的表面實施摩擦處理形成取向層。使用半自動摩擦裝置（商品名：LQ-008型，常陽工學株式會社制），通過布（商品名：YA-20-RW，吉川化工株式會社制）、在壓痕深度0.15mm、轉數(shù)500rpm、16.7mm/s的條件下進行摩擦處理。通過這樣的摩擦處理，制得在玻璃基材上形成了取向膜的積層體（1）。2.偏振膜的形成在積層體（1）的取向膜上，通過旋涂法涂布上述偏振膜形成用組合物（1），在120℃的加熱板上加熱干燥1分鐘后，迅速冷卻至室溫，在上述取向層上形成干燥覆膜。接著，使用UV照射裝置（SPOTCURESP-7；優(yōu)志旺電機株式會社制），通過照射曝光量2000mJ/cm2（313nm基準）的紫外線，使該干燥覆膜中包含的聚合性液晶化合物聚合，由該干燥覆膜形成偏振膜，制得積層體（2）。通過激光顯微鏡（奧林巴斯株式會社制OLS3000）測定此時的偏振膜的厚度，結果為1.8μm。3.X射線衍射測定對制得的積層體2的偏振膜使用X射線衍射裝置X’PertPROMPD（思百吉株式會社制）進行X射線衍射測定。使用Cu作為靶標，使在X射線管電流40mA、X射線管電壓45kV的條件下發(fā)出的X射線介由固定發(fā)散狹縫1/2°從取向方向入射，在掃描范圍2θ=4.0～40.0°的范圍下以2θ=0.01671°的步寬掃描，進行測定，結果，在2θ=20.2°附近得到半峰全寬（FWHM）=約0.31°的尖銳的布拉格峰。此外，從取向垂直方向入射也得到同樣的結果。從峰位置求出的秩序周期（d）為約可知形成了反映高度近晶相的結構。4.二色性比的測定為了確認這樣制得的偏振膜的有用性，如下測定積層體（2）的二色性比。使用在分光光度計（島津制作所株式會社制UV-3150）上設置了帶有起偏器的折疊器（Folder）的裝置，通過雙光束法測定在最大吸收波長下的透光軸方向的吸光度（A1）及吸收軸方向的吸光度（A2）。所述折疊器在參比側設置了將光量截斷50%的網(wǎng)篩。由測定的透光軸方向的吸光度（A1）及吸收軸方向的吸光度（A2）的值算出比（A2/A1），作為二色性比。結果顯示于表中?？梢哉f二色性比越高，越是作為偏振膜而有用。吸收軸方向的吸光度（A2）的最大吸收波長以及在該波長下的二色性比的測定結果顯示于表1中。5.偏振膜的外觀評價在室溫下靜置偏振膜形成用組合物（1）1天后以及靜置3天后，同樣地制作偏振膜，通過目視以及顯微鏡觀察評價由結晶析出引起的取向缺陷的有無。評價結果顯示于表1中。評價結果分為2個檔次，將產(chǎn)生取向缺陷的偏振膜評價為“×”，將無取向缺陷、保持了良好的取向性的偏振膜評價為“○”，作為其判定（綜合判定），將偏振膜形成用組合物靜置3天而無取向缺陷的偏振膜評價為“◎”，將靜置1天而無取向缺陷的偏振膜評價為“○”，將靜置1天后產(chǎn)生取向缺陷的偏振膜評價為“×”。參考例1～2，實施例2除了以表1中顯示的比率改變化合物（A-4）及化合物（B-2）的組成比以外，與實施例1同樣地制作偏振膜。將這些偏振膜的評價結果與實施例1的結果合并顯示于表1。[表1]而且，偶氮化合物（A）及偶氮化合物（B）欄中附加的“組成比”是顯示用于偏振膜形成用組合物的本組合物中的偶氮化合物（A）及偶氮化合物（B）分別的組成比，下同。參考例3，實施例3～4除了使用化合物（B-3）代替化合物（B-2）來作為偶氮化合物（B）并且以表2中顯示的比率改變化合物（A-4）及化合物（B-3）的組成比以外，與實施例1同樣地制作偏振膜。將這些偏振膜的評價結果與參考例1的結果合并顯示于表2。偶氮化合物（B）；化合物（B-3）[表2]實施例5～8除了使用化合物（B-5）代替化合物（B-2）來作為偶氮化合物（B）并且以表3中顯示的比率改變化合物（A-4）及化合物（B-5）的組成比以外，與實施例1同樣地制作偏振膜。這些偏振膜的評價結果顯示于表3。[表3]實施例9～12[偏振膜形成用組合物（2）的制備]按照以下的比率混合本組合物和其他成分，通過在80℃下攪拌1小時，制得偏振膜形成用組合物（2）。[本組合物]（本組合物中的偶氮化合物（A）及偶氮化合物（B）的組成比顯示于表4）偶氮化合物（A）；化合物（A-4）偶氮化合物（B）[偶氮化合物（B’）]；化合物（B-5）[其他成分]聚合性液晶化合物；化合物（2-22）75份化合物（2-25）25份聚合性非液晶化合物；二季戊四醇六丙烯酸酯（大賽璐氰特株式會社制）5份[本偏振膜的制造及評價]使用這樣制備的偏振膜形成用組合物（2），進行與實施例1同樣的實驗，形成偏振膜，對其進行評價。結果顯示于表4。[表4]從上述結果可知，含有混合偶氮化合物（A）和偶氮化合物（B）而成的本組合物的偏振膜形成用組合物可形成具有高二向色性的偏振膜的同時，即使在制備偏振膜形成用組合物后使其經(jīng)過規(guī)定時間，也可形成無取向缺陷的高品質的偏振膜。因此，本組合物實現(xiàn)了具備良好的保存穩(wěn)定性的偏振膜形成用組合物。產(chǎn)業(yè)上的可利用性本組合物在用于液晶顯示裝置或（有機）EL顯示裝置及投射型液晶顯示裝置的偏振膜制造用組合物（偏振膜形成用組合物）中有用，產(chǎn)業(yè)上的價值高。