光罩及彩色濾光片基板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光罩及彩色濾光片基板的制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示裝置(LCD，Liquid Crystal Display)具有機身薄、省電、無福射等眾多優(yōu)點，得到了廣泛的應用?，F(xiàn)有市場上的液晶顯示裝置大部分為背光型液晶顯示裝置，其包括液晶顯示面板及背光模組(backlight module)。通常液晶顯示面板由彩膜基板(CF，Color Filter)、薄膜晶體管基板(TFT，Thin Film Transistor)、夾于彩膜基板與薄膜晶體管基板之間的液晶(LC，Liquid Crystal)及密封框膠(Sealant)組成。
[0003]CF基板是IXD用來實現(xiàn)彩色顯示的主要器件，其基本構(gòu)成通常包括:玻璃基板、黑色矩陣、彩色色阻層等等。背光源發(fā)出的光經(jīng)過液晶分子的調(diào)制入射到CF基板，通過CF基板上彩色色阻層的紅色色阻、綠色色阻、以及藍色色阻的濾光作用，分別顯示紅，綠，藍三種光線，不同顏色的色阻分別透射對應顏色波段的光，從而實現(xiàn)顯示器的彩色顯示。
[0004]彩色濾光片基板即彩膜基板是液晶顯示器的重要組成部分，傳統(tǒng)的彩膜基板的制作方法為制作完黑色矩陣(Black Matrix,BM)后，再制作紅/綠/藍色阻層，為了避免漏光，紅/綠/藍色阻需要疊加于黑色矩陣之上。紅/綠/藍色阻的制作方法是:在基板、及黑色矩陣上均勻涂布色阻材料，然后利用光罩進行曝光，顯影，依次形成紅色色阻、綠色色阻、藍色色阻。圖1為現(xiàn)有一種用于形成紅/綠/藍色阻層的光罩的結(jié)構(gòu)示意圖，所述光罩5包括完全透光的曝光區(qū)51和完全不透光的遮光區(qū)52，如圖2所示，當利用光罩5對基板1、黑色矩陣2上的色阻材料3進行曝光時，光經(jīng)過曝光區(qū)51的邊緣時發(fā)生衍射，疊加于黑色矩陣上的色阻材料得到曝光量較大，從而產(chǎn)生牛角現(xiàn)象，在成盒制程后，牛角會導致CF基板的膜面不平坦從而引起液晶的偏轉(zhuǎn)異常，尤其對于IPS型(In panel switch)顯示的液晶顯示面板影響最為明顯，最后導致畫面顯示異常。
[0005]因此，有必要提供一種光罩及彩色濾光片基板的制作方法，以解決上述問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的目的在于提供一種光罩，用于彩色濾光片基板上色阻層的制程中，可改善現(xiàn)有技術(shù)中色阻層的色阻單元與黑色矩陣交疊處的牛角問題，進而改善液晶顯示產(chǎn)品品質(zhì)，提升廣品良率。
[0007]本發(fā)明的另一目的在于提供一種彩色濾光片基板的制作方法，可改善現(xiàn)有技術(shù)中彩色濾光片基板上色阻層的色阻單元與黑色矩陣交疊處的牛角問題，進而改善液晶顯示產(chǎn)品品質(zhì)，提升廣品良率。
[0008]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種光罩，包括曝光區(qū)、及包圍所述爆光區(qū)的遮光區(qū)，所述遮光區(qū)完全不透光，所述曝光區(qū)包括完全透光的透光區(qū)及靠近所述曝光區(qū)邊緣的不透光的線形的遮光線。
[0009]所述遮光線與所述遮光區(qū)由同種材料構(gòu)成。
[0010]本發(fā)明還提供一種彩色濾光片基板的制作方法，包括如下步驟:
[0011]步驟1、提供基板，在所述基板上形成黑色矩陣，所述黑色矩陣在所述基板上圍出數(shù)個子像素區(qū)域；
[0012]步驟2、在所述基板及黑色矩陣上涂布色阻材料，提供光罩，對所述色阻材料進行曝光、顯影，以對應所述數(shù)個子像素區(qū)域形成數(shù)個色阻單元，得到色阻層，所述色阻單元完全覆蓋所述子像素區(qū)域且所述色阻單元的邊緣交疊于所述黑色矩陣上；
[0013]所述光罩包括對應色阻單元位置的曝光區(qū)、及包圍所述爆光區(qū)的遮光區(qū)，所述遮光區(qū)完全不透光，所述曝光區(qū)包括完全透光的透光區(qū)及靠近所述曝光區(qū)邊緣的不透光的線形的遮光線。
[0014]所述步驟2中色阻材料為負型色阻材料。
[0015]所述色阻單元包括紅色色阻單元、綠色色阻單元、及藍色色阻單元。
[0016]所述紅色色阻單元、綠色色阻單元、及藍色色阻單元分別由紅色色阻材料、綠色色阻材料、及藍色色阻材料按任意順序依次形成。
[0017]所述色阻單元包括白色色阻單元、紅色色阻單元、綠色色阻單元、及藍色色阻單
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[0018]所述白色色阻單元、紅色色阻單元、綠色色阻單元、及藍色色阻單元分別由白色色阻材料、紅色色阻材料、綠色色阻材料、及藍色色阻材料按任意順序依次形成。
[0019]所述的彩色濾光片基板的制作方法，還包括，步驟3、在所述基板、黑色矩陣、及色阻層上形成外敷層，在所述外敷層上形成公共電極層。
[0020]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明提供一種光罩及彩色濾光片基板的制作方法，本發(fā)明提供的光罩，曝光區(qū)內(nèi)靠近邊緣位置具有擋光的遮光線，使曝光區(qū)邊緣衍射的光強度變?nèi)酰捎糜诟纳片F(xiàn)有技術(shù)中彩色濾光片基板上色阻層的色阻單元與黑色矩陣交疊處的牛角問題；本發(fā)明的彩色濾光片基板的制作方法，用于形成色阻層的光罩的曝光區(qū)的靠近邊緣位置具有擋光的遮光線，使曝光區(qū)邊緣衍射的光強度變?nèi)酰B加于黑色矩陣上的色阻材料的曝光量變少，膜厚降低，膜面平坦性變好，從而改善色阻層的色阻單元與黑色矩陣交疊處的牛角問題，使得子像素邊緣處的液晶排列效果好，進而可改善液晶顯示產(chǎn)品尤其是IPS型液晶顯不廣品的品質(zhì)。
【附圖說明】
[0021]下面結(jié)合附圖，通過對本發(fā)明的【具體實施方式】詳細描述，將使本發(fā)明的技術(shù)方案及其他有益效果顯而易見。
[0022]附圖中，
[0023]圖1為現(xiàn)有一種用于形成CF基板上色阻層的光罩的示意圖；
[0024]圖2為使用圖1中的光罩在CF基板上形成色阻層的示意圖；
[0025]圖3為本發(fā)明的光罩的示意圖；
[0026]圖4為本發(fā)明的彩色濾光片基板的制作方法的流程示意圖；
[0027]圖5為本發(fā)明彩色濾光片基板的制作方法的步驟2的示意圖。
【具體實施方式】
[0028]為更進一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果，以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實施例及其附圖進行詳細描述。
[0029]請參閱圖3，本發(fā)明首先提供一種光罩500，包括曝光區(qū)510、及包圍所述爆光區(qū)510的遮光區(qū)520，所述遮光區(qū)520完全不透光，所述曝光區(qū)510包括完全透光的透光區(qū)511及靠近所述曝光區(qū)510邊緣的不透光的線形的遮光線512。
[0030]具體的，所述遮光線512與所述遮光區(qū)520由同種材料構(gòu)成；在光罩制作過程中，所述遮光線512可與所述遮光區(qū)520同時制得。
[0031]本發(fā)明的光罩500，曝光區(qū)510內(nèi)靠近邊緣位置具有擋光的遮光線51