彩色濾光基板的制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示器技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種彩色濾光基板的制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)，為平面超薄的顯示設(shè)備，它由一定數(shù)量的彩色或黑白像素組成，放置于光源或者反射面前方。液晶顯示器功耗很低，并且具有高畫質(zhì)、體積小、重量輕的特點，因此倍受大家青睞，成為顯示器的主流。目前液晶顯示器是以薄膜晶體管(Thin Film Transistor,TFT)液晶顯示器為主，液晶面板是液晶顯示器的主要組件。
[0003]液晶面板通常由薄膜晶體管陣列基板、彩色濾光基板和液晶層組成。彩色濾光基板的作用是將通過液晶層的白光過濾為不同顏色的光束，各不同顏色的光束重新匯聚形成圖像畫面。彩色濾光基板通常包括玻璃基板以及通過光罩工藝(MASK)在玻璃基板上形成的黑色矩陣和彩色光阻。近年來，液晶面板的分辨率要求越來越高，其相應(yīng)的每英寸所擁有的像素數(shù)目(Pixels Per Inch，PPI)值越高，特別是對于較小尺寸的液晶面板，這就要求玻璃基板上的黑色矩陣具有更細(xì)的線寬。當(dāng)黑色矩陣的線寬更細(xì)時，例如從傳統(tǒng)的ΙΟμπι以上減小到4?5 μπι，由此黑色矩陣與玻璃基板之間的密著性要求也更高。
[0004]在制備彩色濾光基板的過程中，玻璃基板的清洗工藝對黑色矩陣與玻璃基板之間的密著性存在著重要的影響。現(xiàn)有的清洗工藝中，通常先采用清洗劑(例如去離子水)清洗玻璃基板，然后采用紅外線裝置吹干或自然干燥的方式使玻璃基板干燥。這種干燥方式難以達(dá)到去除細(xì)微分子程度的水分殘留，超細(xì)微的水滴(幾十“ μ ”的程度)仍有可能再附著于玻璃基板表面，造成后續(xù)工序中的涂布裝置涂上的膜層與玻璃基板的接觸不完全，涂布后的接觸角大，最終細(xì)線寬圖層會發(fā)生脫落。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]鑒于現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本發(fā)明提供了一種彩色濾光基板的制備方法，該方法通過對玻璃基板的清洗和干燥工藝的改進(jìn)，達(dá)到去除玻璃基板表面的超細(xì)微的水滴并且不會殘留水痕，使得最終制備得到的彩色濾光基板中，黑色矩陣與玻璃基板之間具有更高的密著性。
[0006]為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用了如下的技術(shù)方案:
[0007]一種彩色濾光基板的制備方法，包括清洗并干燥玻璃基板的步驟，其中，采用常壓等離子表面處理該方法具體包括步驟:
[0008]S1、提供一玻璃基板，采用清洗劑清洗該玻璃基板；
[0009]S2、采用常壓等離子表面處理裝置對清洗后的玻璃基板進(jìn)行干燥；
[0010]S3、應(yīng)用光罩工藝在干燥后的玻璃基板上形成黑色矩陣；
[0011]S4、應(yīng)用光罩工藝在具有黑色矩陣的玻璃基板上形成彩色光阻。
[0012]具體地，所述黑色矩陣具有多個開口部，所述彩色光阻形成于所述開口部中。
[0013]具體地，所述黑色矩陣的線寬為4?5 μπι。
[0014]具體地，所述步驟S3具體包括:
[0015]在干燥后的玻璃基板上形成一層黑色矩陣薄膜；
[0016]在所述黑色矩陣薄膜上涂覆光刻膠，并通過對光刻膠的曝光、顯影保留黑色矩陣圖形區(qū)域的光刻膠；
[0017]刻蝕掉暴露出的黑色矩陣薄膜并剝離剩余的光刻膠，形成所述黑色矩陣。
[0018]具體地，所述步驟S4具體包括:
[0019]在具有黑色矩陣的玻璃基板上形成一層彩色光阻薄膜；
[0020]在所述彩色光阻薄膜上涂覆光刻膠，并通過對光刻膠的曝光、顯影保留彩色光阻圖形區(qū)域的光刻膠；
[0021]刻蝕掉暴露出的彩色光阻薄膜并剝離剩余的光刻膠，形成所述彩色光阻。
[0022]具體地，所述彩色光阻包括紅色光阻、綠色光阻和藍(lán)色光阻；重復(fù)步驟S4分別制備獲得所述紅色光阻、綠色光阻和藍(lán)色光阻。
[0023]相比于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明實施例提供的彩色濾光基板的制備方法，該方法通過采用AP plasma裝置(常壓等離子表面處理裝置)對清洗后的玻璃基板進(jìn)行干燥，達(dá)到去除玻璃基板表面的超細(xì)微的水滴并且不會殘留水痕，使得最終制備得到的彩色濾光基板中，黑色矩陣與玻璃基板之間具有更高的密著性。
【附圖說明】
[0024]圖1為本發(fā)明實施例提供的彩色濾光基板的制備方法的工藝流程圖。
[0025]圖2為本發(fā)明實施例中制備黑色矩陣的工藝流程圖。
[0026]圖3為本發(fā)明實施例中制備紅色光阻的工藝流程圖。
【具體實施方式】
[0027]下面將結(jié)合附圖以及具體實施例，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實例，而不是全部實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護范圍。
[0028]如圖1所示，本實施例提供的一種彩色濾光基板的制備方法，其具體包括步驟:
[0029]S1、提供一玻璃基板，采用清洗劑清洗該玻璃基板。具體地，所用的清洗劑可以為去離子水，當(dāng)玻璃基板上含有一些油性污垢時，清洗劑可以選用含有表面活性劑的清洗劑。
[0030]S2、采用常壓等離子表面處理裝置對清洗后的玻璃基板進(jìn)行干燥。常壓等離子表面處理裝置，即AP (Atmospheric pressure)plasma裝置。該裝置以氮氣為主要氣體，高頻電源將N2解離成自由基，將玻璃基板上的水分子H2O進(jìn)行原子切斷，水分子中氫原子結(jié)合一旦被切斷，容易從表面脫離，并容易與其他分子結(jié)合。若其周圍有氧存在，氫原子離開的痕跡會替換為氧原子。由此，玻璃基板上的分水子H2O會分解氣體HjP O 2，從玻璃基板表面脫離，達(dá)到去除玻璃基板表面的超細(xì)微的水滴并且不會殘留水痕的目的。
[0031]S3、應(yīng)用光罩工藝在干燥后的玻璃基板上形成黑色矩陣。具體地，參閱圖2，該步驟具體包括:
[0032]S31、在干燥后的玻璃基板上形成一層黑色矩陣薄膜。
[0033]S32、在所述黑色矩陣薄膜上涂覆光刻膠，并通過對光刻膠的曝光、顯影保留黑色矩陣圖形區(qū)域的光刻膠。
[0034]S33、刻蝕掉暴露出的黑色矩陣薄膜并剝離剩余的光刻膠，形成所述黑色矩陣。具體地，所制備得到的黑色矩陣具有多個開口部，黑色矩陣的線寬為4?5μπι。
[0035]S4、應(yīng)用光罩工藝在具有黑色矩陣的玻璃基板上形成彩色光阻。其中，所述彩色光阻包括紅色光阻、綠色光阻和藍(lán)色光阻。具體地，以制備紅色光阻為例，參閱圖3，該步驟具體包括:
[0036]S41、在具有黑色矩陣的玻璃基板上形成一層紅色光阻薄膜。
[0037]S42、在所述彩色光阻薄膜上涂覆光刻膠，并通過對光刻膠的曝光、顯影保留紅色光阻圖形區(qū)域的光刻膠。
[0038]S43、刻蝕掉暴露出的紅色光阻薄膜并剝離剩余的光刻膠，形成所述紅色光阻。
[0039]按照步驟S41?S43，進(jìn)一步地分別制備出綠色光阻和藍(lán)色光阻，其中每一彩色光阻(紅色光阻、綠色光阻或藍(lán)色光阻)分別形成于前述黑色矩陣的其中一個開口部中。
[0040]進(jìn)一步地，在另外的一些實施例中，還可以在如上制備得到彩色光阻的玻璃基板上依次制備平坦層和公共電極層。
[0041]綜上所述，相比于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明實施例提供的彩色濾光基板的制備方法，該方法通過采用AP plasma裝置(常壓等離子表面處理裝置)對清洗后的玻璃基板進(jìn)行干燥，達(dá)到去除玻璃基板表面的超細(xì)微的水滴并且不會殘留水痕，使得最終制備得到的彩色濾光基板中，黑色矩陣與玻璃基板之間具有更高的密著性。尤其是在較小尺寸的液晶面板中，液晶面板的PPI要求較高，黑色矩陣具有的線寬較細(xì)時，按照該方法制備的彩色濾光基板，黑色矩陣不易于從玻璃基板上脫落。
[0042]需要說明的是，在本文中，諸如第一和第二等之類的關(guān)系術(shù)語僅僅用來將一個實體或者操作與另一個實體或操作區(qū)分開來，而不一定要求或者暗示這些實體或操作之間存在任何這種實際的關(guān)系或者順序。而且，術(shù)語“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者設(shè)備不僅包括那些要素，而且還包括沒有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過程、方法、物品或者設(shè)備所固有的要素。在沒有更多限制的情況下，由語句“包括一個……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過程、方法、物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。
[0043]以上所述僅是本申請的【具體實施方式】，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本申請原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本申請的保護范圍。
【主權(quán)項】
1.一種彩色濾光基板的制備方法，包括清洗并干燥玻璃基板的步驟，其特征在于，采用常壓等離子表面處理裝置對玻璃基板進(jìn)行干燥。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩色濾光基板的制備方法，其特征在于，該方法具體包括步驟: 51、提供一玻璃基板，采用清洗劑清洗該玻璃基板； 52、采用常壓等離子表面處理裝置對清洗后的玻璃基板進(jìn)行干燥； 53、應(yīng)用光罩工藝在干燥后的玻璃基板上形成黑色矩陣； 54、應(yīng)用光罩工藝在具有黑色矩陣的玻璃基板上形成彩色光阻。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的彩色濾光基板的制備方法，其特征在于，所述黑色矩陣具有多個開口部，所述彩色光阻形成于所述開口部中。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的彩色濾光基板的制備方法，其特征在于，所述黑色矩陣的線寬為4?5 μ m。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的彩色濾光基板的制備方法，其特征在于，所述步驟S3具體包括: 在干燥后的玻璃基板上形成一層黑色矩陣薄膜； 在所述黑色矩陣薄膜上涂覆光刻膠，并通過對光刻膠的曝光、顯影保留黑色矩陣圖形區(qū)域的光刻膠； 刻蝕掉暴露出的黑色矩陣薄膜并剝離剩余的光刻膠，形成所述黑色矩陣。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的彩色濾光基板的制備方法，其特征在于，所述步驟S4具體包括: 在具有黑色矩陣的玻璃基板上形成一層彩色光阻薄膜； 在所述彩色光阻薄膜上涂覆光刻膠，并通過對光刻膠的曝光、顯影保留彩色光阻圖形區(qū)域的光刻膠； 刻蝕掉暴露出的彩色光阻薄膜并剝離剩余的光刻膠，形成所述彩色光阻。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的彩色濾光基板的制備方法，其特征在于，所述彩色光阻包括紅色光阻、綠色光阻和藍(lán)色光阻；重復(fù)步驟S4分別制備獲得所述紅色光阻、綠色光阻和藍(lán)色光阻。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種彩色濾光基板的制備方法，其中，該方法具體包括步驟：S1、提供一玻璃基板，采用清洗劑清洗該玻璃基板；S2、采用常壓等離子表面處理裝置對清洗后的玻璃基板進(jìn)行干燥；S3、應(yīng)用光罩工藝在干燥后的玻璃基板上形成黑色矩陣；S4、應(yīng)用光罩工藝在具有黑色矩陣的玻璃基板上形成彩色光阻。該方法通過采用常壓等離子表面處理裝置對清洗后的玻璃基板進(jìn)行干燥，達(dá)到去除玻璃基板表面的超細(xì)微的水滴并且不會殘留水痕，使得最終制備得到的彩色濾光基板中，黑色矩陣與玻璃基板之間具有更高的密著性。
【IPC分類】G02F1-1335, G02F1-13
【公開號】CN104793370
【申請?zhí)枴緾N201510222055
【發(fā)明人】徐濤, 熊燕軍, 徐先華, 張簡圣哲, 龔雷
【申請人】武漢華星光電技術(shù)有限公司
【公開日】2015年7月22日
【申請日】2015年4月30日