基板處理裝置、器件制造方法以及圓筒光罩的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及將光罩的圖案投影至基板，并在該基板上曝光出該圖案的基板處理裝 置、器件制造方法以及用于此的圓筒光罩。
【背景技術(shù)】
[0002] 有一種制造液晶顯示器等顯示器件、半導(dǎo)體等各種器件的器件制造系統(tǒng)。器件制 造系統(tǒng)具備曝光裝置等基板處理裝置。專(zhuān)利文獻(xiàn)1所記載的基板處理裝置將配置在照明區(qū) 域內(nèi)的光罩上所形成的圖案的像投影至配置在投影區(qū)域內(nèi)的基板等，并在基板上曝光出該 圖案。用于基板處理裝置的光罩有平面狀光罩、圓筒狀光罩等。
[0003] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0004] 專(zhuān)利文獻(xiàn)
[0005] 專(zhuān)利文獻(xiàn)1 :日本特開(kāi)2007-299918號(hào)公報(bào)
[0006] 基板處理裝置通過(guò)將光罩做成圓筒形狀并使光罩旋轉(zhuǎn)，而能夠連續(xù)在基板上進(jìn)行 曝光。另外，作為基板處理裝置，還有一種將基板做成長(zhǎng)條的薄片狀并將其連續(xù)地送入至投 影區(qū)域下的卷對(duì)卷（roll to roll)方式。這樣，基板處理裝置就能使圓筒形狀的光罩旋轉(zhuǎn)， 并且，作為基板的搬送方法，通過(guò)使用卷對(duì)卷方式，能夠連續(xù)輸送基板和光罩雙方。
[0007] 在此，基板處理裝置通常被要求高效地在基板上曝光出圖案來(lái)提高生產(chǎn)性。使用 圓筒光罩作為光罩的情況下也是這樣。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008] 本發(fā)明的目的在于提供一種能夠以高生產(chǎn)性來(lái)生產(chǎn)高質(zhì)量基板的基板處理裝置、 器件制造方法以及圓筒光罩。
[0009] 根據(jù)本發(fā)明的第一方式，提供一種基板處理裝置，其具備：投影光學(xué)系統(tǒng)，其將來(lái) 自配置于照明光的照明區(qū)域內(nèi)的光罩的圖案的光束投射至配置有基板的投影區(qū)域；光罩 支承部件，其在照明區(qū)域內(nèi)以沿著按規(guī)定曲率彎曲成圓筒面狀的第一面的方式支承光罩的 圖案；基板支承部件，其在投影區(qū)域內(nèi)以沿著規(guī)定的第二面的方式支承基板；以及驅(qū)動(dòng)機(jī) 構(gòu)，其以使光罩的圖案向規(guī)定的掃描曝光方向移動(dòng)的方式使光罩支承部件旋轉(zhuǎn)，且以使基 板向所述掃描曝光方向移動(dòng)的方式使基板支承部件移動(dòng)，光罩支承部件在將第一面的直徑 設(shè)為Φ、將第一面在與掃描曝光方向正交的方向上的長(zhǎng)度設(shè)為L(zhǎng)的情況下，滿(mǎn)足1. 3 < L/ Φ ^ 3. 8〇
[0010] 根據(jù)本發(fā)明的第二方式，提供一種器件制造方法，其包括：使用第一方式所述的基 板處理裝置在所述基板上形成所述光罩的圖案；以及向所述基板處理裝置供給所述基板。 [0011] 根據(jù)本發(fā)明的第三方式，提供一種圓筒光罩，其沿著圓筒狀的外周面形成有電子 器件用的光罩圖案，且能夠繞著中心線(xiàn)旋轉(zhuǎn)，該圓筒光罩具有所述外周面的直徑為Φ、所述 外周面在所述中心線(xiàn)的方向上的長(zhǎng)度為L(zhǎng)a的圓筒基材，當(dāng)將能夠形成在所述圓筒基材的 外周面上的光罩圖案在所述中心線(xiàn)的方向上的最大長(zhǎng)度設(shè)為L(zhǎng)時(shí)，在L < La的范圍內(nèi)，所 述直徑Φ與所述長(zhǎng)度L的比率L/ Φ設(shè)定為1. 3 < L/ Φ < 3. 8的范圍。
[0012] 根據(jù)本發(fā)明的第四方式，提供一種圓筒光罩，其沿著相對(duì)于規(guī)定的中心線(xiàn)具有固 定半徑的圓筒面形成有光罩圖案，且以能夠繞著所述中心線(xiàn)旋轉(zhuǎn)的方式安裝在曝光裝置 上，其中，在所述圓筒面上，以沿所述圓筒面的圓周方向隔開(kāi)間隔Sx的方式排列形成有η個(gè) (η多2)顯示面板用的長(zhǎng)方形的光罩區(qū)域，該光罩區(qū)域包括長(zhǎng)邊尺寸為L(zhǎng)d、短邊尺寸為L(zhǎng)c、 且長(zhǎng)寬比Asp為L(zhǎng)d/Lc的顯示畫(huà)面區(qū)域、和與其周邊相鄰地設(shè)置的周邊電路區(qū)域，當(dāng)將所 述光罩區(qū)域的長(zhǎng)邊方向的尺寸L設(shè)為所述顯示畫(huà)面區(qū)域的長(zhǎng)邊尺寸Ld的^倍（e 1)、 將所述光罩區(qū)域的短邊方向的尺寸設(shè)為所述顯示畫(huà)面區(qū)域的短邊尺寸Lc的％倍（e2> 1) 時(shí)，所述圓筒面的在所述中心線(xiàn)的方向上的長(zhǎng)度設(shè)定為所述尺寸L以上，并且，當(dāng)將所述圓 筒面的直徑設(shè)為Φ、將圓周率設(shè)為π時(shí)，設(shè)定為π φ =n(e2*Lc+SX)，進(jìn)一步地，以使所 述尺寸L與所述直徑Φ的比率L/ Φ為1. 3 < L/ Φ < 3. 8的范圍的方式設(shè)定所述直徑Φ、 所述個(gè)數(shù)n、所述間隔Sx。
[0013] 發(fā)明效果
[0014] 根據(jù)本發(fā)明的方式，通過(guò)將由光罩支承部件保持的圓筒面狀的光罩形狀、或形成 于光罩上的圖案的圓筒面狀形狀的直徑Φ與長(zhǎng)度L的關(guān)系設(shè)定成上述范圍那樣，能夠以高 生產(chǎn)性高效地進(jìn)行器件圖案的曝光及轉(zhuǎn)印。另外，通過(guò)將直徑Φ與長(zhǎng)度L的關(guān)系設(shè)定成上 述范圍那樣，即使在將多個(gè)顯示面板用的圖案沿著圓筒光罩的圓周面排列配置多面的情況 下，也能高效地配置各種顯示尺寸的面板。
【附圖說(shuō)明】
[0015] 圖1是表示第一實(shí)施方式的器件制造系統(tǒng)的整體結(jié)構(gòu)的圖。
[0016] 圖2是表示第一實(shí)施方式的曝光裝置（基板處理裝置）的整體結(jié)構(gòu)的圖。
[0017] 圖3是表示圖2所示的曝光裝置的照明區(qū)域和投影區(qū)域的配置的圖。
[0018] 圖4是表示圖2所示的曝光裝置的照明光學(xué)系統(tǒng)和投影光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的圖。
[0019] 圖5是表示照射于圓筒光罩上的照明光束的狀態(tài)、和從圓筒光罩產(chǎn)生的投影光束 的狀態(tài)的圖。
[0020] 圖6是表示構(gòu)成圓筒光罩的圓筒輪與光罩的概要結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0021] 圖7是表示在圓筒光罩的光罩面上將顯示面板用的光罩配置一面的情況下的配 置例的展開(kāi)圖。
[0022] 圖8是表不在圓筒光罩的光罩面上將相同尺寸的光罩三個(gè)排成一列而配置三面 的配置例的展開(kāi)圖。
[0023] 圖9是表示在圓筒光罩的光罩面上將相同尺寸的光罩四個(gè)排成一列而配置四面 的配置例的展開(kāi)圖。
[0024] 圖10是表示在圓筒光罩的光罩面上將相同尺寸的光罩以?xún)尚袃闪械姆绞脚渲盟?面的配置例的展開(kāi)圖。
[0025] 圖11是說(shuō)明長(zhǎng)寬比為2:1的顯示面板用的光罩的配置兩面的配置例的展開(kāi)圖。
[0026] 圖12是在特定的散焦容許量之下，模擬圓筒光罩的直徑與曝光狹縫寬度的關(guān)系 的圖表。
[0027] 圖13是表示將60英寸顯示面板用的光罩配置一面的情況下的具體例的展開(kāi)圖。
[0028] 圖14是表示光罩的配置兩面的配置例的展開(kāi)圖。
[0029] 圖15是表示32英寸顯示面板用的光罩的配置兩面的第一配置例的展開(kāi)圖。
[0030] 圖16是表示32英寸顯示面板用的光罩的配置兩面的第二配置例的展開(kāi)圖。
[0031] 圖17是表示將32英寸顯示面板用的光罩配置一面的情況下的具體例的展開(kāi)圖。
[0032] 圖18是表示32英寸顯示面板用的光罩的配置三面的具體配置例的展開(kāi)圖。
[0033] 圖19是表示37英寸顯示面板用的光罩的配置三面的具體配置例的展開(kāi)圖。
[0034] 圖20是表示第二實(shí)施方式的曝光裝置（基板處理裝置）的整體結(jié)構(gòu)的圖。
[0035] 圖21是表示第三實(shí)施方式的曝光裝置（基板處理裝置）的整體結(jié)構(gòu)的圖。
[0036] 圖22是表示由器件制造系統(tǒng)進(jìn)行的器件制造方法的流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0037] 關(guān)于用以實(shí)施本發(fā)明的方式（實(shí)施方式），參照附圖具體說(shuō)明如下。本發(fā)明并不 受以下實(shí)施方式所記載的內(nèi)容的限定。另外，以下記載的構(gòu)成要素中，當(dāng)然包含本領(lǐng)域技術(shù) 人員容易想到的要素、和實(shí)質(zhì)上相同的要素。再者，以下記載的構(gòu)成要素能夠適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行組 合。另外，在不脫離本發(fā)明要旨的范圍內(nèi)，能夠進(jìn)行構(gòu)成要素的各種省略、置換或變更。例 如，在以下實(shí)施方式中，作為器件雖然以制造柔性顯示器的情況為例進(jìn)行說(shuō)明，但并不限于 此。作為器件，還能制造形成有以銅箱等構(gòu)成的布線(xiàn)圖案的布線(xiàn)基板、形成有多個(gè)半導(dǎo)體器 件（晶體管、二極管等）的基板等。
[0038][第一實(shí)施方式]
[0039] 第一實(shí)施方式中，對(duì)基板施以曝光處理的基板處理裝置為曝光裝置。另外，曝光裝 置組裝在對(duì)曝光后的基板施以各種處理來(lái)制造器件的器件制造系統(tǒng)中。首先，對(duì)器件制造 系統(tǒng)進(jìn)行說(shuō)明。
[0040] 〈器件制造系統(tǒng)〉
[0041] 圖1是表示第一實(shí)施方式的器件制造系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的圖。圖1所示的器件制造系統(tǒng) 1是制造作為器件的柔性顯示器的生產(chǎn)線(xiàn)（柔性顯示器生產(chǎn)線(xiàn)）。作為柔性顯示器，例如有 有機(jī)EL顯示器等。該器件制造系統(tǒng)1從將撓性基板P卷繞成卷筒狀的供給用卷筒FR1送出 該基板P，并在對(duì)所送出的基板P連續(xù)施以各種處理后，將處理后的基板P作為撓性器件卷 繞到回收用卷筒FR2上，即所謂的卷對(duì)卷（Roll to Roll)方式。在第一實(shí)施方式的器件制 造系統(tǒng)1中，示出了將薄膜狀的片材即基板P從供給用卷筒FR1送出，且從供給用卷筒FR1 送出的基板P依次經(jīng)過(guò)η臺(tái)處理裝置1]1、1]2、1]3、1]4、1]5、~1]11而直到被卷繞至回收用卷筒 FR2為止的例子。首先，對(duì)成為器件制造系統(tǒng)1的處理對(duì)象的基板Ρ進(jìn)行說(shuō)明。
[0042] 基板Ρ例如使用樹(shù)脂薄膜、由不銹鋼等金屬或合金構(gòu)成的箱（foil)等。作為樹(shù)脂 薄膜的材質(zhì)，例如包括聚乙烯樹(shù)脂、聚丙烯樹(shù)脂、聚酯樹(shù)脂、乙烯基共聚物樹(shù)脂、聚氯乙烯樹(shù) 月旨、纖維素樹(shù)醋、聚酰胺樹(shù)脂、聚酰亞胺樹(shù)脂、聚碳酸酯樹(shù)脂、聚苯乙烯樹(shù)脂、醋酸乙烯樹(shù)脂 中的一種或兩種以上。
[0043] 基板P優(yōu)選選定例如熱膨脹系數(shù)明顯不大的材料，從而能夠?qū)嵸|(zhì)上忽視在對(duì)基板 P實(shí)施的各種處理中因受熱而產(chǎn)生的變形量。熱膨脹系數(shù)例如還可以通過(guò)將無(wú)機(jī)填充物混 合至樹(shù)脂薄膜中，而被設(shè)定為比對(duì)應(yīng)工藝溫度等的閾值小。無(wú)機(jī)填充物可以是例如氧化鈦、 氧化鋅、氧化鋁、氧化硅等。另外，基板P可以是用浮制法等制造的厚度為100 y m左右的極 薄玻璃的單層體，也可以是在該極薄玻璃上貼合有上述的樹(shù)脂薄膜、箱等的層疊體。
[0044] 由此構(gòu)成的基板P通過(guò)被卷繞成卷筒狀而成為供給用卷筒FR1，且該供給用卷筒 FR1被安裝在器件制造系統(tǒng)1上。安裝有供給用卷筒FR1的器件制造系統(tǒng)1對(duì)從供給用卷 筒FR1送出的基板P反復(fù)執(zhí)行用于制造一個(gè)器件的各種處理。由此，處理后的基板P成為 多個(gè)器件相連的狀態(tài)。也就是說(shuō)，從供給用卷筒FR1送出的基板P成為配置多面用的基板。 此外，基板P還可以是通過(guò)預(yù)先規(guī)定的預(yù)處理而將其表面改性并活性化的基板，或者是用 壓印法在表面上形成了用于精密圖案化的微細(xì)間隔壁結(jié)構(gòu)（凹凸結(jié)構(gòu)）的基板。
[0045] 處理后的基板P通過(guò)被卷繞成卷筒狀而作為回收用卷筒FR2被回收?；厥沼镁硗?FR2被安裝在未圖示的切割裝置上。安裝有回收用卷筒FR2的切割裝置通過(guò)將處理后的基 板P按每個(gè)器件進(jìn)行分割（切割）而制成多個(gè)器件。關(guān)于基板P的尺寸，例如寬度方向（短 邊的方向）的尺寸為l〇cm~2m左右，長(zhǎng)度方向（長(zhǎng)邊的方向）的尺寸為10m以上。此外， 基板P的尺寸并不限于上述尺寸。
[0046] 圖1中形成有X方向、Y方向及Z方向正交的正交坐標(biāo)系。X方向是在水平面內(nèi)將 供給用卷筒FR1及回收用卷筒FR2連結(jié)的方向，為圖1中的左右方向。Y方向是在水平面內(nèi) 與X方向正交的方向，為圖1中的前后方向。Y方向成為供給用卷筒FR1及回收用卷筒FR2 的軸方向。Z方向是垂直方向，為圖1中的上下方向。
[0047] 器件制造系統(tǒng)1具備：供給基板P的基板供給裝置2 ;對(duì)由基板供給裝置2供給的 基板P施以各種處理的處理裝置U1~Un ;回收由處理裝置U1~Un施以處理后的基板P的 基板回收裝置4 ;以及控制器件制造系統(tǒng)1的各裝置的上位控制裝置5。
[0048] 在基板供給裝置2上以能夠旋轉(zhuǎn)的方式安裝有供給用卷筒FR1?；骞┙o裝置2 具有從所安裝的供給用卷筒FR1送出基板P的驅(qū)動(dòng)輥DR1、和調(diào)整基板P在寬度方向（Y方 向）上的位置的邊緣位置控制器EPC1。驅(qū)動(dòng)輥DR1 -邊夾持著基板P的表背兩面一邊旋 轉(zhuǎn)，并將基板P從供給用卷筒FR1往朝向回收用卷筒FR2的輸送方向送出，從而將基板P供 給到處理裝置U1~Un。這時(shí)，邊緣位置控制器EPC1以使基板P在寬度方向端部（邊緣） 的位置相對(duì)于目標(biāo)位置落在土十幾μ m左右的范圍至土幾十μ m左右的范圍內(nèi)的方式， 使基板P在寬度方向上移動(dòng)，從而修正基板P在寬度方向上的位置。
[0049] 在基板回收裝置4上以能夠旋轉(zhuǎn)的方式安裝有回收用卷筒FR2?；寤厥昭b置4 具有將處理后的基板P拉向回收用卷筒FR2側(cè)的驅(qū)動(dòng)輥DR2、和調(diào)整基板P在寬度方向（Y 方向）上的位置的邊緣位置控制器EPC2。基板回收裝置4 一邊由驅(qū)動(dòng)輥DR2夾持著基板P 的表背兩面一邊旋轉(zhuǎn)，將基板P拉向輸送方向，并使回收用卷筒FR2旋轉(zhuǎn)，從而卷起基板P。 這時(shí)，邊緣位置控制器EPC2與邊緣位置控制器EPC1結(jié)構(gòu)相同，修正基板P在寬度方向上的 位置，以避免基板P的寬度方向的端部（邊緣）在寬度方向上不規(guī)則。
[0050] 處理裝置U1是在從基板供給裝置2供給來(lái)的基板P的表面上涂敷感光性功能液 的涂敷裝置。作為感光性功能液，例如使用光致抗蝕劑、感光性硅烷偶聯(lián)劑材料（感光性親 疏液性改性材料、感光性電鍍還原材料等）、UV固化樹(shù)脂液等。處理裝置U1從基板P的輸 送方向的上游側(cè)起依次設(shè)有涂敷機(jī)構(gòu)Gpl和干燥機(jī)構(gòu)Gp2。涂敷機(jī)構(gòu)Gpl具有卷繞基板P 的壓輥R1、和與壓輥R1相對(duì)的涂敷輥R2。涂敷機(jī)構(gòu)Gpl在將所供給的基板P卷繞于壓輥 R1上的狀態(tài)下，通過(guò)壓輥R1及涂敷輥R2夾持基板P。然后，涂敷機(jī)構(gòu)Gpl通過(guò)使壓輥R1及 涂敷輥R2旋轉(zhuǎn)，而一邊使基板P向輸送方向移動(dòng)一邊以涂敷輥R2涂敷感光性功能液。干 燥機(jī)構(gòu)Gp2吹出熱風(fēng)或干燥空氣等干燥用空氣以除去感光性功能液中含有的溶質(zhì)（溶劑或 水），并使涂有感光性功能液的基板P干燥，從而在基板P上形成感光性功能層。
[0051] 處理裝置U2是為了使形成在基板P表面上的感光性功能層穩(wěn)定，而將從處理裝置 U1輸送出的基板P加熱至規(guī)定溫度（例如幾10~120°C左右）的加熱裝置。處理裝置U2 從基板P的輸送方向的上游側(cè)起依次設(shè)有加熱室HA1和冷卻室HA2。加熱室HA1在其內(nèi)部 設(shè)有多個(gè)輯和多個(gè)空氣翻轉(zhuǎn)桿（air turn bar)，多個(gè)輯和多個(gè)空氣翻轉(zhuǎn)桿構(gòu)成了基板P的 輸送路徑。多個(gè)輥以與基板P背面滾動(dòng)接觸的方式設(shè)置，多個(gè)空氣翻轉(zhuǎn)桿以非接觸狀態(tài)設(shè) 于基板P的表面?zhèn)取６鄠€(gè)輥和多個(gè)空氣翻轉(zhuǎn)桿為了加長(zhǎng)基板P的輸送路徑，而配置成折曲狀 的輸送路徑。從加熱室HA1內(nèi)通過(guò)的基板P -邊沿著折曲狀的輸送路徑被輸送，一邊被加 熱至規(guī)定溫度。冷卻室HA2為了使在加熱室HA1內(nèi)被加熱的基板P的溫度與后續(xù)工序（處 理裝置U3)的環(huán)境溫度一致，而將基板P冷卻至環(huán)境溫度。冷卻室HA2在其內(nèi)部設(shè)有多個(gè) 輥，多個(gè)輥與加熱室HA1同樣地為了加長(zhǎng)基板P的輸送路徑而配置成折曲狀的輸送路徑。從 冷卻室HA2內(nèi)通過(guò)的基板P-邊沿著折曲狀的輸送路徑被輸送一邊被冷卻。在冷卻室HA2 的輸送方向的下游側(cè)設(shè)有驅(qū)動(dòng)輥DR3,驅(qū)動(dòng)輥DR3 -邊夾持著通過(guò)冷卻室HA2后的基板P - 邊旋轉(zhuǎn)，從而將基板P朝向處理裝置U3供給。
[0052] 處理裝置（基板處理裝置）U3是對(duì)從處理裝置U2供給來(lái)的、表面上形成有感光性 功能層的基板（感光性基板）P投影并曝光顯示器用電路或布線(xiàn)等的圖案的曝光裝置。具體 詳見(jiàn)后述，處理裝置U3以照明光束對(duì)反射型的圓筒光罩M(圓筒輪21)進(jìn)行照明，并將照明 光束被光罩Μ反射而得到的投影光束投影并曝光于基板P。處理裝置U3具有將從處理裝置 U2供給來(lái)的基板Ρ送往輸送方向下游側(cè)的驅(qū)動(dòng)輥DR4、和調(diào)整基板Ρ在寬度方向（Υ方向） 上的位置的邊緣位置控制器EPC3。驅(qū)動(dòng)輥DR4 -邊夾持著基板Ρ的表背兩面一邊旋轉(zhuǎn)，并 將基板Ρ向輸送方向下游側(cè)送出，從而將基板Ρ供給向在曝光位置對(duì)其進(jìn)行穩(wěn)定支承的旋 轉(zhuǎn)筒（基板支承筒）25。邊緣位置控制器EPC3與邊緣位置控制器EPC1結(jié)構(gòu)相同，修正基板 Ρ在寬度方向上的位置，以使曝光位置上的基板Ρ的寬度方向成為目標(biāo)位置。
[0053] 另外，處理裝置U3具備緩沖部DL，該緩沖部DL具有在對(duì)曝光后的基板Ρ付與松弛 的狀態(tài)下，將基板Ρ送往輸送方向下游側(cè)的兩組驅(qū)動(dòng)輥DR6、DR7。兩組驅(qū)動(dòng)輥DR6、DR7在 基板Ρ的輸送方向上隔開(kāi)規(guī)定間隔地配置。驅(qū)動(dòng)輥DR6夾持著被輸送的基板Ρ的上游側(cè)旋 轉(zhuǎn)，而驅(qū)動(dòng)輥DR7夾持著被輸送的基板Ρ的下游側(cè)旋轉(zhuǎn)，由此將基板Ρ供給向處理裝置U4。 這時(shí)，基板Ρ由于被付與了松弛，所以能夠吸收與驅(qū)動(dòng)輥DR7相比在輸送方向下游側(cè)產(chǎn)生的 輸送速度的變化，并能消除輸送速度的變化對(duì)基板Ρ的曝光處理造成的影響。另外，在處理 裝置U3內(nèi)，為了使圓筒光罩Μ(以下也僅稱(chēng)為光罩Μ)的光罩圖案的一部分的像與基板Ρ相 對(duì)地對(duì)位（對(duì)準(zhǔn)、alignment)，而設(shè)有檢測(cè)預(yù)先形成在基板Ρ上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記、或形成在旋轉(zhuǎn) 筒（基板支承筒）25外周面的一部分上的基準(zhǔn)圖案等的準(zhǔn)直顯微鏡AMG1、AMG2。
[0054] 處理裝置U4是對(duì)從處理裝置U3輸送來(lái)的曝光后的基板P進(jìn)行濕式的顯影處理、 非電解浸鍍處理等的濕式處理裝置。處理裝置U4在其內(nèi)部具有沿垂直方向（Z方向）階層 化的三個(gè)處理槽BT1、BT2、BT3、和輸送基板P的多個(gè)輥。多個(gè)輥以將三個(gè)處理槽BT1、BT2、 BT3的內(nèi)部形成為供基板P依次通過(guò)的輸送路徑的方式配置。在處理槽BT3的輸送方向下 游側(cè)設(shè)有驅(qū)動(dòng)輥DR8,驅(qū)動(dòng)輥DR8 -邊夾持著通過(guò)處理槽BT3后的基板P -邊旋轉(zhuǎn)，從而將 基板P供給向處理裝置U5。
[0055] 雖省略了圖示，但處理裝置U5是使從處理裝置U4輸送來(lái)的基板P干燥的干燥裝 置。處理裝置U5除去在處理裝置U4中經(jīng)濕式處理而附著于基板P上的液滴，并調(diào)芐基板P 的水分含量。由處理裝置U5干燥后的基板P在進(jìn)一步經(jīng)由若干個(gè)處理裝置后被輸送至處 理裝置Un。然后，在由處理裝置Un加以處理后，基板P被卷繞到基板回收裝置4的回收用 卷筒FR2上。
[0056] 上位控制裝置5統(tǒng)籌控制基板供給裝置2、基板回收裝置4以及多個(gè)處理裝置 U1~Un。上位控制裝置5控制基板供給裝置2及基板回收裝置4,將基板P從基板供給裝 置2向基板回收裝置4輸送。另外，上位控制裝置5與基板P的輸送同步地對(duì)多個(gè)處理裝 置U1~Un進(jìn)行控制，使其執(zhí)行對(duì)基板P的各種處理。
[0057] 〈曝光裝置（基板處理裝置）>
[0058] 接著，參照?qǐng)D2至圖5對(duì)作為第一實(shí)施方式的處理裝置U3的曝光裝置（基板處理 裝置）的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。圖2是表示第一實(shí)施方式的曝光裝置（基板處理裝置）的整體結(jié) 構(gòu)的圖。圖3是表示圖2所示的曝光裝置的照明區(qū)域和投影區(qū)域的配置的圖。圖4是表示 圖2所示的曝光裝置的照明光學(xué)系統(tǒng)和投影光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的圖。圖5是表示照射于光罩 上的照明光束、和從光罩射出的投影光束的狀態(tài)的圖。
[0059] 圖2所示的曝光裝置U3是所謂的掃描曝光裝置，一邊將基板P沿輸送方向輸送， 一邊將形成在圓筒狀光罩Μ的外周面上的光罩圖案的像投影并曝光至基板P的表面上。此 外，圖2中形成有X方向、Υ方向及Ζ方向正交的正交坐標(biāo)系，是與圖1相同的正交坐標(biāo)系。
[0060] 首先，對(duì)用于曝光裝置U3的光罩Μ(圖1中的圓筒光罩Μ)進(jìn)行說(shuō)明。光罩Μ例如 是使用金屬制圓筒體的反射型光罩。光罩Μ的圖案形成在圓筒基材上，該圓筒基材具有使 以沿Υ方向延伸的第一軸ΑΧ1為中心的曲率半徑為Rm的外周面（圓周面）。光罩Μ的圓周 面成為形成有規(guī)定的光罩圖案的光罩面（第一面）Ρ1。光罩面Ρ1包括朝規(guī)定方向以高效 率反射光束的高反射部、和不朝規(guī)定方向反射或以低效率反射光束的反射抑制部（低反射 部）。光罩圖案由高反射部和反射抑制部形成。在此，反射抑制部只要使朝規(guī)定方向反射的 光減少即可。因此，反射抑制部能夠由吸收光的材料、使光透過(guò)的材料、或除特定方向以外 使光繞射的材料構(gòu)成。作為上述結(jié)構(gòu)的光罩Μ，曝光裝置U3能夠使用由鋁或SUS等金屬的 圓筒基材制成的光罩。因此，曝光裝置U3能夠用價(jià)廉的光罩進(jìn)行曝光。
[0061] 此外，光罩Μ可以形成有與一個(gè)顯示器件對(duì)應(yīng)的面板用圖案的整體或一部分，也 可以形成有與多個(gè)顯示器件對(duì)應(yīng)的面板用圖案。另外，光罩Μ還可以是在環(huán)繞第一軸ΑΧ1 的圓周方向上反復(fù)形成有多個(gè)面板用圖案的配置多面的光罩、或在與第一軸ΑΧ1平行的方 向上反復(fù)形成有多個(gè)小型面板用圖案的配置多面的光罩。再者，光罩Μ還可以是形成有第 一顯示器件的面板用圖案、和尺寸等與第一顯示器件不同的第二顯示器件的面板用圖案而 成的異尺寸圖案的配置多面的光罩。另外，光罩Μ只要具有使以第一軸ΑΧ1為中心的曲率 半徑為Rm的圓周面即可，并不限定于圓筒體的形狀。例如，光罩Μ還可以是具有圓周面的 圓弧狀板材。另外，光罩Μ可以是薄板狀，也可以使薄板狀的光罩Μ彎曲以具有圓周面。
[0062] 接著，對(duì)圖2所示的曝光裝置U3進(jìn)行說(shuō)明。曝光裝置U3除具有上述的驅(qū)動(dòng)輥DR4、 DR6、DR7、基板支承筒25、邊緣位置控制器EPC3及準(zhǔn)直顯微鏡AMGUAMG2外，還具有光罩保 持機(jī)構(gòu)11、基板支承機(jī)構(gòu)12、照明光學(xué)系統(tǒng)IL、投影光學(xué)系統(tǒng)PL、以及下位控制裝置16。曝 光裝置U3將從光源裝置13射出的照明光經(jīng)由照明光學(xué)系統(tǒng)IL和投影光學(xué)系統(tǒng)PL的一部 分而照射至由光罩保持機(jī)構(gòu)11的光罩保持筒21 (以下也稱(chēng)為圓筒輪21)支承的光罩Μ的 形成有圖案的光罩面Ρ1上，并將在光罩Μ的光罩面Ρ1反射的投影光束（成像光）經(jīng)由投 影光學(xué)系統(tǒng)PL投射至由基板支承機(jī)構(gòu)12的基板支承筒25支承的基板Ρ上。
[0063] 下位控制裝置16控制曝光裝置U3的各部分，并使各部分執(zhí)行處理。下位控制裝 置16可以是器件制造系統(tǒng)1的上位控制裝置5的一部分或全部。另外，下位控制裝置16 也可以是受上位控制裝置5控制、且與上位控制裝置5不同的另一裝置。下位控制裝置16 例如包括計(jì)算機(jī)。
[0064] 光罩保持機(jī)構(gòu)11具有保持光罩Μ的圓筒輪21、和使圓筒輪21旋轉(zhuǎn)的第一驅(qū)動(dòng)部 22。圓筒輪21將光罩Μ保持成以第一軸ΑΧ1為旋轉(zhuǎn)中心的曲率半徑為Rm的圓筒。第一驅(qū) 動(dòng)部22與下位控制裝置16連接，并使圓筒輪21以第一軸AX1為旋轉(zhuǎn)中心旋轉(zhuǎn)。
[0065] 此外，光罩保持機(jī)構(gòu)11的圓筒輪21雖在其外周面上由高反射部和低反射部直接 形成了光罩圖案，但并不限于該結(jié)構(gòu)。作為光罩保持機(jī)構(gòu)11的圓筒輪21還可以順著其外 周面卷繞并保持薄板狀的反射型光罩M。另外，作為光罩保持機(jī)構(gòu)11的圓筒輪21也可以 將預(yù)先以半徑Rm彎曲成圓弧狀的板狀反射型光罩Μ能夠裝拆地保持在圓筒輪21的外周面 上。
[0066] 基板支承機(jī)構(gòu)12具有：支承