彩色濾光片的制作方法及彩色濾光片的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種彩色濾光片的制作方法及彩色濾光片。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，隨著科技的發(fā)展，液晶顯示器技術(shù)也隨之不斷完善。TFT-1XD(Thin FilmTransistor-Liquid Crystal Display，薄膜場效應(yīng)晶體管-液晶顯示器)以其圖像顯示品質(zhì)好、能耗低、環(huán)保等優(yōu)勢占據(jù)著顯示器領(lǐng)域的重要位置，但是其色彩很難覆蓋完全的色域。近幾年興起的基于有機(jī)發(fā)光二極管(0LED)的顯示技術(shù)也日益成熟，其構(gòu)造簡單，厚度薄，響應(yīng)速度快，可以實(shí)現(xiàn)更加豐富的色彩。同時(shí)，隨著量子點(diǎn)的誕生，量子點(diǎn)顯示器也應(yīng)運(yùn)而生，由于量子點(diǎn)(Quantum Dots)發(fā)光波長范圍極窄，顏色非常純粹，還可實(shí)現(xiàn)精細(xì)調(diào)節(jié)，與目前的顯示屏相比，新顯示屏在大大提高了亮度和畫面鮮艷度的同時(shí)，還減少了能耗。
[0003]量子點(diǎn)(Quantum Dots，QDs)又可以稱納米晶，是一種由II 一 VI族或III 一 V族元素組成的納米顆粒。量子點(diǎn)的粒徑一般介于1?20nm之間，由于電子和空穴被量子限域，連續(xù)的能帶結(jié)構(gòu)變成具有分子特性的分立能級(jí)結(jié)構(gòu)。因此，量子點(diǎn)受到藍(lán)紫光激發(fā)后，可轉(zhuǎn)換成高純度的單色光，顏色可通過量子點(diǎn)的直徑控制，應(yīng)用于面板顯示技術(shù)可有效地提高面板的色域，即色彩再現(xiàn)能力。
[0004]目前量子點(diǎn)已被廣泛應(yīng)用于面板顯示技術(shù)，用來提升顯示面板的色域。其中，將量子點(diǎn)與光刻膠結(jié)合，制作成新型的彩色濾光片成為一種主流趨勢。然而，量子點(diǎn)單價(jià)高，使用傳統(tǒng)的黃光蝕刻技術(shù)制作量子點(diǎn)彩色濾光片的成本太高，因?yàn)榱孔狱c(diǎn)的利用率較低，而且量子點(diǎn)容易被光起始劑淬滅，失去光轉(zhuǎn)換功能。因此，利用噴墨印刷(Ink-Jet Printing，UP)制程來制作量子點(diǎn)彩色濾光片被視為可行性最高的技術(shù)，但噴墨印刷制程的局限性在于很難制作高解析度的產(chǎn)品，然而中小尺寸的面板市場對高解析的需求卻很強(qiáng)烈。
[0005]因此，有必要提供一種彩色濾光片的制作方法及彩色濾光片，以克服噴墨印刷難以實(shí)現(xiàn)高解析度的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的目的在于提供一種彩色濾光片的制作方法，利用不同材料表面的親疏水性的不同并結(jié)合地勢的差異，使量子點(diǎn)膠材通過自流的方式在相應(yīng)子像素區(qū)域內(nèi)形成量子點(diǎn)層，以適應(yīng)高解析度面板的制作。
[0007]本發(fā)明的目的還在于提供一種彩色濾光片，其紅、綠、藍(lán)子像素區(qū)域分別設(shè)有紅色量子點(diǎn)層、綠色量子點(diǎn)層、及透明光阻層，色彩顯示效果優(yōu)異，解析度高。
[0008]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種彩色濾光片的制作方法，包括如下步驟:
[0009]步驟1、提供基板，在所述基板上形成黑色矩陣，所述黑色矩陣在所述基板上圍出數(shù)個(gè)紅色子像素區(qū)域、數(shù)個(gè)綠色子像素區(qū)域、及數(shù)個(gè)藍(lán)色子像素區(qū)域；在所述藍(lán)色子像素區(qū)域內(nèi)形成透明光阻層；
[0010]步驟2、在所述基板、黑色矩陣、及透明光阻層上涂布光阻層，在光阻層上對應(yīng)紅色子像素區(qū)域形成第一凹槽；對所述第一凹槽底面的親疏水性進(jìn)行處理使其與光阻層表面的親疏水性相反；
[0011]步驟3、在所述光阻層上涂布紅色量子點(diǎn)膠材，所述紅色量子點(diǎn)膠材的親疏水性與第一凹槽底面的親疏水性相同，所述紅色量子點(diǎn)膠材自動(dòng)從光阻層表面流動(dòng)至第一凹槽底面，然后使所述紅色量子點(diǎn)膠材固化，從而在紅色子像素區(qū)域內(nèi)形成紅色量子點(diǎn)層；
[0012]步驟4、在光阻層上對應(yīng)綠色子像素區(qū)域形成第二凹槽；對所述第二凹槽底面的親疏水性進(jìn)行處理使其與光阻層表面的親疏水性相反；
[0013]步驟5、在所述光阻層上涂布綠色量子點(diǎn)膠材，所述綠色量子點(diǎn)膠材的親疏水性與第二凹槽底面的親疏水性相同，所述綠色量子點(diǎn)膠材自動(dòng)從光阻層表面流動(dòng)至第二凹槽底面，然后使所述綠色量子點(diǎn)膠材固化，從而在綠色子像素區(qū)域內(nèi)形成綠色量子點(diǎn)層；
[0014]步驟6、對所述基板表面進(jìn)行紫外光照射、顯影，去除剩余的光阻層，從而完成彩色濾光片的制作；
[0015]所述紅色量子點(diǎn)層、綠色量子點(diǎn)層在藍(lán)色背光源的激發(fā)下分別發(fā)出紅光和綠光；所述藍(lán)色背光源直接透過透明光阻層發(fā)出藍(lán)光，從而實(shí)現(xiàn)紅綠藍(lán)三基色，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)彩色顯不ο
[0016]所述步驟1中，通過在所述基板上涂布黑色矩陣材料，采用曝光、顯影制程形成黑色矩陣，所述黑色矩陣材料包含負(fù)型光刻膠與黑色遮光材料。
[0017]所述步驟2中的光阻層為正型光刻膠。
[0018]所述步驟2通過第一光罩對紅色子像素區(qū)域內(nèi)的光阻層進(jìn)行紫外光照射、顯影，形成第一凹槽；所述步驟4通過第二光罩對綠色子像素區(qū)域內(nèi)的光阻層進(jìn)行紫外光照射、顯影，形成第二凹槽。
[0019]所述步驟3和步驟5通過熱制程使所述紅色量子點(diǎn)膠材和綠色量子點(diǎn)膠材固化。
[0020]所述熱制程的溫度為60°C?100°C。
[0021]所述步驟2中對第一凹槽底面做親水性處理，所述光阻層表面為疏水性；所述步驟3中的紅色量子點(diǎn)膠材為親水性；所述步驟4中對第二凹槽底面做親水性處理；所述步驟5中的綠色量子點(diǎn)膠材為親水性。
[0022]所述步驟2中對第一凹槽底面做疏水性處理，所述光阻層表面為親水性；所述步驟3中的紅色量子點(diǎn)膠材為疏水性；所述步驟4中對第二凹槽底面做疏水性處理；所述步驟5中的綠色量子點(diǎn)膠材為疏水性。
[0023]所述基板為玻璃基板。
[0024]本發(fā)明還提供一種彩色濾光片，包括基板、設(shè)于基板上的黑色矩陣、設(shè)于基板上且由黑色矩陣間隔開的數(shù)個(gè)透明光阻層、數(shù)個(gè)紅色量子點(diǎn)層、及數(shù)個(gè)綠色量子點(diǎn)層，其中，所述紅色量子點(diǎn)層的材料為紅色量子點(diǎn)與膠材的混合物；所述綠色量子點(diǎn)層的材料為綠色量子點(diǎn)與膠材的混合物；
[0025]所述彩色濾光片可與一藍(lán)色背光源結(jié)合使用，所述紅色量子點(diǎn)層、綠色量子點(diǎn)層在藍(lán)色背光源的激發(fā)下分別發(fā)出紅光和綠光；所述藍(lán)色背光源直接透過透明光阻層發(fā)出藍(lán)光，從而實(shí)現(xiàn)紅綠藍(lán)三基色，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)彩色顯示。
[0026]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明的彩色濾光片的制作方法，在紅、綠色子像素區(qū)域形成第一、第二凹槽并對其底面的親疏水性進(jìn)行處理；利用第一、第二凹槽底面與光阻層表面的親疏水性的不同，同時(shí)結(jié)合地勢的差異，使紅、綠色量子點(diǎn)膠材通過自流的方式分別在第一、第二凹槽內(nèi)形成紅、綠色量子點(diǎn)層，紅、綠色量子點(diǎn)層在藍(lán)色背光源的激發(fā)下分別發(fā)出紅光和綠光；所述藍(lán)色背光源直接透過透明光阻層發(fā)出藍(lán)光，從而實(shí)現(xiàn)紅綠藍(lán)三基色，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)彩色顯示，提高了量子點(diǎn)的利用率，并且解析度越高，像素越密集，量子點(diǎn)膠材自流的效果越好，因此相對于噴墨打印技術(shù)更適合于高解析度面板的制作。本發(fā)明的彩色濾光片，色彩顯示效果優(yōu)異，解析度高。
【附圖說明】
[0027]為了能更進(jìn)一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容，請參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說明與附圖，然而附圖僅提供參考與說明用，并非用來對本發(fā)明加以限制。
[0028]附圖中，
[0029]圖1為本發(fā)明的彩色濾光片的制作方法的流程圖；
[0030]圖2為本發(fā)明的彩色濾光片的制作方法的步驟1的示意圖；
[0031]圖3-圖4為本發(fā)明的彩色濾光片的制作方法的步驟2的示意圖；
[0032]圖5-圖6為本發(fā)明的彩色濾光片的制作方法的步驟3的示意圖；
[0033]圖7-圖8為本發(fā)明的彩色濾光片的制作方法的步驟4的示意圖；
[0034]圖9-圖10為本發(fā)明的彩色濾光片的制作方法的步驟5的示意圖；
[0035]圖11-圖13為本發(fā)明的彩色濾光片的制作方法的步驟6的示意圖同時(shí)圖12-圖13為本發(fā)明的彩色濾光片的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0036]為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果，以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例及其附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0037]請參閱圖1，本發(fā)明首先提供一種彩色濾光片的制作方法，包括如下步驟:
[0038]步驟1、如圖2所示，提供基板1，在所述基板1上形成黑色矩陣2，所述黑色矩陣2在基板1上圍出數(shù)個(gè)紅色子像素區(qū)域、數(shù)個(gè)綠色子像素區(qū)域、及數(shù)個(gè)藍(lán)色子像素區(qū)域；在所述藍(lán)色子像素區(qū)域內(nèi)形成透明光阻層33。
[0039]具體地，所述基板1為玻璃基板。
[0040]具體地，通過在所述基板1上涂布黑色矩陣材料，采用曝光、顯影制程形成黑色矩陣2，具體的，所述黑色矩陣材料包含負(fù)型光刻膠與黑色遮光材料。
[0041]具體的，通過在具有黑色矩陣2的基板1上涂布透明光阻材料，采用曝光、顯影制程在所述藍(lán)色子像素區(qū)域內(nèi)形成透明光阻層33。
[0042]步驟2、如圖3-圖4所示，在所述基板1、黑色矩陣2、及透明光阻層33上涂布光阻層4，在光阻層4上對應(yīng)紅色子像素區(qū)域形成第一凹槽41 ;對所述第一凹槽41底面的親疏水性進(jìn)行處理使其與光阻層4表面的親疏水性相反。
[0043]具體地，所述光阻層4為正型光刻膠。在本實(shí)施例中，對第一凹槽41底面做親水性處理，所述光阻層4表面為疏水性。
[0044]具體的，所述光阻層4表面的親疏水性可以由光阻層材料本身的性質(zhì)決定，也可以通過進(jìn)行親疏水性處理獲得。
[0045]具體地，通過第一光罩91對紅色子像素區(qū)域內(nèi)的光阻層4進(jìn)行紫外光照射、顯影，形成第一凹槽41。
[0046]步驟3、如圖5-圖6所示，在所述光阻層4上涂布紅色量子點(diǎn)膠材51，所述紅色量子點(diǎn)膠材51的親疏水性與第一凹槽41底面的親疏水性相同，所述紅色量子點(diǎn)膠材51自動(dòng)從光阻層4表面流動(dòng)至第一凹槽41底面，然后使所述紅色量子點(diǎn)膠材51固化，