一種光觸控基板、內(nèi)嵌式觸摸屏及顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種光觸控基板、內(nèi)嵌式觸摸屏及顯示
目.0
【背景技術(shù)】
[0002]隨著顯示技術(shù)日漸成熟，觸摸屏已經(jīng)廣泛應(yīng)用于人們的生活中。目前，觸摸屏按照組成結(jié)構(gòu)分為:外掛式觸摸屏(Add on Mode Touch Panel)、覆蓋表面式觸摸屏(On CellTouch Panel)以及內(nèi)嵌式觸摸屏(In Cell Touch Panel)。其中，內(nèi)嵌式觸摸屏將觸摸屏的觸控感測功能內(nèi)嵌在液晶顯示屏內(nèi)部，可以減薄模組整體的厚度，又可以大大降低觸摸屏的制作成本，受到各大面板廠家青睞。
[0003]觸摸屏可分為電阻式觸摸屏、電容式觸摸屏和光學(xué)式觸摸屏。其中，電阻式觸摸屏和電容式觸摸屏較適用于近距離接觸的中小尺寸顯示領(lǐng)域，不適用于遠(yuǎn)距離遙指觸控的大尺寸顯示領(lǐng)域。而光學(xué)式觸摸屏可以通過改變光的強(qiáng)度來達(dá)到觸控定位的目的，因此不僅支持近距離的觸控功能，而且還支持通過激光筆進(jìn)行光定位的遠(yuǎn)距離觸控功能。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種光觸控基板、內(nèi)嵌式觸摸屏及顯示裝置，可以通過感測光的強(qiáng)度來達(dá)到觸控定位的目的，實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)距離觸控功能，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中電阻式觸摸屏和電容式觸摸屏不適用于遠(yuǎn)距離遙指觸控的大尺寸顯示領(lǐng)域問題。
[0005]本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種光觸控基板，包括襯底基板、遮光矩陣以及由所述遮光矩陣所限定的多個像素區(qū)域，
[0006]所述遮光矩陣包括交叉設(shè)置的多個第一光觸控電極與多個第二光觸控電極，其中第一光觸控電極與第二光觸控電極絕緣，且所述多個第一光觸控電極與所述多個第二光觸控電極中至少一個光觸控電極包括層疊設(shè)置的感光層和導(dǎo)電層；各光觸控電極上的感應(yīng)信號隨著照射至對應(yīng)的所述感光層的光的強(qiáng)度的變化發(fā)生變化。
[0007]在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述光觸控基板中，所述第一光觸控電極與所述第二光觸控電極同層設(shè)置；
[0008]所述第一光觸控電極包括多個相互獨(dú)立的第一光觸控子電極，所述第一光觸控子電極與所述第二光觸控電極間隔排列，屬于同一所述第一光觸控電極且位于所述第二光觸控電極兩側(cè)的兩個所述第一光觸控子電極的所述導(dǎo)電層通過連接線采用橋接的方式電性相連。
[0009]在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述光觸控基板中，還包括:位于所述所述導(dǎo)電層與所述連接線之間的絕緣層；
[0010]所述連接線通過貫穿所述絕緣層的過孔與所述導(dǎo)電層電性連接。
[0011]在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述光觸控基板中，所述第一光觸控電極和/或所述第二光觸控電極具有網(wǎng)格結(jié)構(gòu)。
[0012]在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述光觸控基板中，所述導(dǎo)電層的材料為不透光的金屬材料。
[0013]在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述光觸控基板中，所述感光層呈均勻且間隔分布的塊狀結(jié)構(gòu)。
[0014]在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述光觸控基板中，所述導(dǎo)電層在所述襯底基板的正投影與所述感光層在所述襯底基板的正投影重疊。
[0015]在本實(shí)用新型一種實(shí)施例提供的上述光觸控基板中，所述光觸控基板為陣列基板，所述導(dǎo)電層位于所述感光層與所述襯底基板之間。
[0016]在本實(shí)用新型一種實(shí)施例提供的上述光觸控基板中，還包括:位于所述導(dǎo)電層與所述襯底基板之間的薄膜晶體管、沿列方向延伸的數(shù)據(jù)線以及沿行方向延伸的柵線；
[0017]所述遮光矩陣在所述襯底基板的正投影覆蓋所述數(shù)據(jù)線、所述柵線和所述薄膜晶體管在所述襯底基板的正投影。
[0018]在本實(shí)用新型一種實(shí)施例提供的上述光觸控基板中，當(dāng)所述第一光觸控電極與所述第二光觸控電極同層設(shè)置，且所述第一光觸控電極沿行方向延伸，所述第二光觸控電極沿列方向延伸時，所述連接線與所述柵線同層設(shè)置；或者，
[0019]當(dāng)所述第一光觸控電極與所述第二光觸控電極同層設(shè)置，且所述第一光觸控電極沿列方向延伸，所述第二光觸控電極沿行方向延伸時，所述連接線與所述數(shù)據(jù)線同層設(shè)置。
[0020]在本實(shí)用新型另一種實(shí)施例提供的上述光觸控基板中，所述光觸控基板為彩膜基板，所述感光層位于所述導(dǎo)電層與所述襯底基板之間。
[0021]本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種內(nèi)嵌式觸摸屏，包括本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述任一種光觸控基板。
[0022]本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種顯示裝置，包括本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏。
[0023]本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述光觸控基板、內(nèi)嵌式觸摸屏及顯示裝置，包括:襯底基板、遮光矩陣以及由遮光矩陣所限定的多個像素區(qū)域；其中，遮光矩陣包括交叉設(shè)置的多個第一光觸控電極與多個第二光觸控電極，第一光觸控電極與第二光觸控電極絕緣；多個第一光觸控電極和多個第二光觸控電極中至少一個光觸控電極包括層疊設(shè)置的感光層和導(dǎo)電層；各光觸控電極上的感應(yīng)信號隨著照射至對應(yīng)的感光層的光的強(qiáng)度的變化發(fā)生變化，這樣可以通過改變照射至感光層的光的強(qiáng)度來達(dá)到觸控定位的目的，不僅支持近距離的觸控功能，而且還支持通過激光筆進(jìn)行光定位的遠(yuǎn)距離觸控功能，因此，與電阻式觸摸屏和電容式觸摸屏相比，更適用于遠(yuǎn)距離遙指觸控的大尺寸顯示領(lǐng)域。
【附圖說明】
[0024]圖1a至圖1d分別為本實(shí)用新型提供的光觸控基板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖2a為圖1a所示的光觸控基板沿A_A’方向的剖面結(jié)構(gòu)示意圖之一；
[0026]圖2b為圖1a所示的光觸控基板沿B_B’方向的剖面結(jié)構(gòu)示意圖之一；
[0027]圖2c為圖1a所示的光觸控基板沿A_A’方向的剖面結(jié)構(gòu)示意圖之二 ；
[0028]圖2d為圖1a所示的光觸控基板沿B_B’方向的剖面結(jié)構(gòu)示意圖之二 ；
[0029]圖3為本實(shí)用新型提供的光觸控基板的感光層的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0030]為了使本實(shí)用新型的目的，技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面結(jié)合附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例提供的光觸控基板、內(nèi)嵌式觸摸屏及顯示裝置的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)地說明。
[0031]附圖中各層薄膜厚度和形狀不反映光觸控基板的真實(shí)比例，目的只是示意說明本【實(shí)用新型內(nèi)容】。
[0032]如圖1a和圖1b所示，本實(shí)用新型實(shí)施例中的光觸控基板，包括:襯底基板110、遮光矩陣120以及由遮光矩陣120所限定的多個像素區(qū)域130。遮光矩陣120包括交叉設(shè)置的多個第一光觸控電極140與多個第二光觸控電極150，其中第一光觸控電極140與第二光觸控電極150絕緣；如圖2a至圖2d所示，多個第一光觸控電極140和多個第二光觸控電極150中至少一個光觸控電極包括層疊設(shè)置的感光層142和導(dǎo)電層143 ;各光觸控電極上的感應(yīng)信號隨著照射至對應(yīng)的感光層142的光的強(qiáng)度的變化發(fā)生變化。
[0033]本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述光觸控基板，包括:襯底基板、遮光矩陣以及由遮光矩陣所限定的多個像素區(qū)域；其中，遮光矩陣包括交叉設(shè)置的多個第一光觸控電極與多個第二光觸控電極，第一光觸控電極與第二光觸控電極絕緣；多個第一光觸控電極和多個第二光觸控電極中至少一個光觸控電極包括層疊設(shè)置的感光層和導(dǎo)電層；各光觸控電極上的感應(yīng)信號隨著照射至對應(yīng)的感光層的光的強(qiáng)度的變化發(fā)生變化，這樣可以通過改變照射至感光層的光的強(qiáng)度來達(dá)到觸控定位的目的，不僅支持近距離的觸控功能，而且還支持通過激光筆進(jìn)行光定位的遠(yuǎn)距離觸控功能，因此，與電阻式觸摸屏和電容式觸摸屏相比，更適用于遠(yuǎn)距離遙指觸控的大尺寸顯示領(lǐng)域。
[0034]在一個實(shí)施例中，遮光矩陣為了實(shí)現(xiàn)遮光功能，在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述光觸控基板中，導(dǎo)電層的材料優(yōu)選為不透光的金屬材料，在此不作限定。
[0035]在現(xiàn)有顯示面板中，一般在各相鄰像素區(qū)域之間設(shè)置有具有遮光功能的黑矩陣，因此本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述光觸控基板，可以將現(xiàn)有技術(shù)中黑矩陣復(fù)用為光觸控電極中的導(dǎo)電層，再在導(dǎo)電層的基礎(chǔ)上設(shè)置感光層，即相當(dāng)于將現(xiàn)有的黑矩陣切割形成分別屬于第一光觸控電極與第二光觸控電極的且相互絕緣的導(dǎo)電層。因此本實(shí)用新型實(shí)施例提供的光觸控基板通過對現(xiàn)有黑矩陣的圖形進(jìn)行變更就可以形成導(dǎo)電層的圖形，不需要增加額外的制備導(dǎo)電層的工藝，節(jié)省了生產(chǎn)成本，提高了生產(chǎn)效率。并且，由于在現(xiàn)有技術(shù)中黑矩陣是位于相鄰像素區(qū)域之間，因此采用黑矩陣復(fù)用為本實(shí)用新型中遮光矩陣中的導(dǎo)電層，可以不占用像素區(qū)域的面積，即保證了在不減小像素開口率的基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)光學(xué)觸控功能，并且由于遮光矩陣中的導(dǎo)電層具有遮光的功能，因此導(dǎo)電層還可以為感光層遮擋來自導(dǎo)電層背離感光層一側(cè)的光線。
[0036]在一個實(shí)施例中，在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述光觸控基板中，第一光觸控電極可以設(shè)置為光觸控感應(yīng)電極，第二光觸控電極可以設(shè)置為光觸控驅(qū)動電極；反之，在另一個實(shí)施例中，第一光觸控電極可以設(shè)置為光觸控驅(qū)動電極，第二光觸控電極可以設(shè)置為光觸控感應(yīng)電極，在此不作限定。
[0037]在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述光觸控基板中，第一光觸控電極與第二光觸控電極可以同層設(shè)置，也可以異層設(shè)置，在此不作限定。其中，當(dāng)?shù)谝还庥|控電極與第二光觸控電極同層設(shè)置時，只需要通過一次構(gòu)圖工藝即可形成第一光觸控電極和第二光觸控電極的圖形，但需要對其中一個光觸控電極使用橋接的方式進(jìn)行電性連接；當(dāng)?shù)谝还庥|控電極與第二光觸控電極異層設(shè)置時，不需要對任何光觸控電極額外通過橋接的方式進(jìn)行電性連接，但需要通過二次構(gòu)圖工藝形成第一光觸控電極和第二光觸控電極的圖形。
[0038]在一個實(shí)施例中，在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述光觸控基板中，如圖1a和圖1b所不，第一光觸控電極140與第二光觸控電極150同層設(shè)置；
[0039]第一光觸控電極140包括多個相互獨(dú)立的第一光觸控子電極141，第一光觸控子電極141與第二光觸控電極150間隔排列，屬于同一第一光觸控電極140且位于第二光觸控電極150兩側(cè)的兩個第一光觸控子電極141的導(dǎo)電層143通過連接線160采用橋接的方式電性相連。
[0040]在一個實(shí)施例中，在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的上述光觸控基板中，如圖2a至圖2d所示，導(dǎo)電層143與連接線160之間設(shè)置有絕緣層144，連接線160通過貫穿絕緣層144的過孔170與導(dǎo)電層143電性連接，且連接線160與第二光觸控電極150相互絕緣。
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