進(jìn)階修正方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種進(jìn)階修正方法。該方法包括：提供目標(biāo)布局圖形；接著，以修正模型修正目標(biāo)布局圖形，以取得修正圖形；之后，對(duì)修正圖形進(jìn)行仿真模擬，以取得模擬輪廓；其后，在模擬輪廓上建立多個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)，再比較仿真輪廓與目標(biāo)布局圖形，并取得各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的多個(gè)風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值；繼之，將各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值加總所得到的風(fēng)險(xiǎn)加總值由高至低排序成處理順序；將目標(biāo)布局圖形加以辨認(rèn)及分類歸納成多個(gè)圖形區(qū)塊；其后，依據(jù)處理順序，調(diào)整修正圖形，使調(diào)整后的修正圖形的仿真輪廓收斂且接近目標(biāo)布局圖形。
【專利說(shuō)明】進(jìn)階修正方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明是有關(guān)于一種圖形修正方法，且特別是關(guān)于一種進(jìn)階修正方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 在集成電路（Integrated Circuit, 1C)蓬勃發(fā)展的今日，元件縮小化與集成化是 必然的趨勢(shì)，也是各界積極發(fā)展的重要課題，而在整個(gè)半導(dǎo)體工藝中，光刻可W說(shuō)是最舉足 輕重的步驟之一，因此掩模圖案轉(zhuǎn)移（transfer)至晶圓（wafer)上的精確性，便占有非常 重要的地位。若圖案的轉(zhuǎn)移不正確，貝ij會(huì)影響芯片上的關(guān)鍵尺寸把ritical Dimension, CD) 的容忍度（tolerance)，降低曝光的分辨率。
[0003] 隨著集成度（integration)的逐漸提高，元件尺寸逐漸縮小，元件與元件之間的 距離也必須縮小，因此造成在光刻步驟中，圖案轉(zhuǎn)移有可能收到光線的影響而產(chǎn)生偏差，也 就是所謂的光學(xué)鄰近效應(yīng)的ptical Proximity Effect, 0P巧。而形成光學(xué)鄰近效應(yīng)的因 素是當(dāng)光束透過(guò)掩模上的圖案投影在芯片上時(shí)，一方面由于光束會(huì)產(chǎn)生散射現(xiàn)象而使得光 束被擴(kuò)大。另一方面，光束會(huì)透過(guò)芯片表面的光刻膠層再經(jīng)由芯片的半導(dǎo)體基底反射回來(lái)， 產(chǎn)生干涉的現(xiàn)象，因此會(huì)重復(fù)曝光，而改變?cè)诠饪棠z層上實(shí)際的曝光量。
[0004] 光學(xué)鄰近效應(yīng)修正法（Optical Proximity Correction, 0PC)的目的就是用W消 除因鄰近效應(yīng)所造成的關(guān)鍵尺寸偏差現(xiàn)象。然而，W目前所采用的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正法修 正后，仍然會(huì)有一部分的圖形無(wú)法符合目標(biāo)布局圖形。目前該一些無(wú)法符合目標(biāo)布局圖形 必須在建立離標(biāo)點(diǎn)之后通過(guò)人工逐一比對(duì)與修正。然而，晶圓上的離標(biāo)點(diǎn)多達(dá)數(shù)百萬(wàn)個(gè)，通 過(guò)人工比對(duì)與修正的方式，不僅耗費(fèi)人力與成本，而且必須花費(fèi)長(zhǎng)時(shí)間才可完成。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明提出一種進(jìn)階修正方法，可W取代人工的方式，在短時(shí)間內(nèi)使經(jīng)由修正后 的修正圖型的仿真輪廓有效收斂且接近目標(biāo)布局圖形。
[0006] 本發(fā)明實(shí)施例的進(jìn)階修正方法，可W使經(jīng)由調(diào)整后的修正圖型的仿真輪廓有效收 斂且接近目標(biāo)布局圖形。
[0007] 本發(fā)明提供一種進(jìn)階修正方法，包括提供目標(biāo)布局圖形，接著，對(duì)目標(biāo)布局圖形施 W分段及建立多個(gè)評(píng)估點(diǎn)，再W修正模型修正目標(biāo)布局圖形，W取得修正圖形。之后，對(duì)修 正圖形進(jìn)行仿真模擬，W取得模擬輪廓。其后，在目標(biāo)布局圖形上的每一評(píng)估點(diǎn)計(jì)算仿真輪 廓與目標(biāo)布局圖形的差異，當(dāng)差異值大于所設(shè)定的標(biāo)準(zhǔn)值時(shí)，所對(duì)應(yīng)的評(píng)估點(diǎn)即被歸類成 離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)，接著依據(jù)影響仿真輪廓偏離目標(biāo)布局圖形的多個(gè)影響因子W及多個(gè)預(yù)設(shè)條件 范圍，W取得各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的多個(gè)風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值。繼之，將各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值加 總，W得到各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的風(fēng)險(xiǎn)加總值。之后，將離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的風(fēng)險(xiǎn)加總值由高至低排序 成處理順序。其后，將目標(biāo)布局圖形加W辨認(rèn)及分類歸納成多個(gè)圖形區(qū)塊。依據(jù)處理順序， 調(diào)整修正圖形，使調(diào)整后的修正圖形的仿真輪廓收斂且接近目標(biāo)布局圖形。
[0008] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述取得各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值的方法更包括 建立查詢表w及查詢查詢表來(lái)取得，查詢表具有影響因子w及對(duì)應(yīng)的預(yù)設(shè)條件范圍的風(fēng)險(xiǎn) 加權(quán)值的信息。
[0009] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述影響因子包括離標(biāo)程度（off-target level)、目 標(biāo)關(guān)鍵尺寸、片段類型W及直線長(zhǎng)度。離標(biāo)程度為離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)與目標(biāo)布局圖形的多個(gè)目標(biāo) 點(diǎn)的偏差值。
[0010] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述離標(biāo)程度愈大、目標(biāo)關(guān)鍵尺寸愈小或直線長(zhǎng)度愈 長(zhǎng)，則風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值愈大。
[0011] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述片段類型包括轉(zhuǎn)角（Ved)、直線（Run)、線末 (Line end)或其組合，且直線的風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值大于轉(zhuǎn)角的風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值，且轉(zhuǎn)角的風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值 大于線末的風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值。
[0012] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述進(jìn)階修正方法，更包括建立多個(gè)特定圖層，其中各 特定圖層分別儲(chǔ)存目標(biāo)布局圖形、修正圖形、仿真輪廓W及離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的信息。
[0013] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述調(diào)整修正圖形的步驟是進(jìn)行至離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)減少至 一預(yù)定值W下或?yàn)榱恪?br> [0014] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述調(diào)整修正圖形的步驟是進(jìn)行至離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的該些 風(fēng)險(xiǎn)加總值下降至一預(yù)定值W下或?yàn)榱恪?br> [0015] 本發(fā)明提供一種進(jìn)階修正方法，包括提供目標(biāo)布局圖形，接著，對(duì)目標(biāo)布局圖形施 W分段及建立多個(gè)評(píng)估點(diǎn)，再W修正模型修正目標(biāo)布局圖形，W取得修正圖形。之后，對(duì)修 正圖形進(jìn)行仿真模擬，W取得模擬輪廓。其后，在目標(biāo)布局圖形上的每一評(píng)估點(diǎn)計(jì)算仿真輪 廓與目標(biāo)布局圖形的差異，當(dāng)差異值大于所設(shè)定的標(biāo)準(zhǔn)值時(shí)，所對(duì)應(yīng)的評(píng)估點(diǎn)即被歸類成 離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)。接著依據(jù)影響仿真輪廓偏離目標(biāo)布局圖形的多個(gè)影響因子W及多個(gè)預(yù)設(shè)條件 范圍，W取得各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的多個(gè)風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值。繼之，將各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值加 總，W得到各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的風(fēng)險(xiǎn)加總值。將目標(biāo)布局圖形加W辨認(rèn)及分類與歸納成多個(gè) 圖形區(qū)塊。依據(jù)規(guī)則，取得各個(gè)圖形區(qū)塊的區(qū)塊風(fēng)險(xiǎn)加總值，其中規(guī)則與各個(gè)圖形區(qū)塊中的 離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的風(fēng)險(xiǎn)加總值有關(guān)。將區(qū)塊風(fēng)險(xiǎn)加總值由高至低排序成處理順序。依據(jù)處理順 序，調(diào)整修正圖形，使調(diào)整后的修正圖形的仿真輪廓收斂且接近目標(biāo)布局圖形。
[0016] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述規(guī)則包括W各個(gè)圖形區(qū)塊中的離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)中的最 高風(fēng)險(xiǎn)加總值來(lái)決定區(qū)塊風(fēng)險(xiǎn)加總值。
[0017] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述規(guī)則包括W各個(gè)圖形區(qū)塊中的所有離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的 風(fēng)險(xiǎn)加總值的總和來(lái)決定區(qū)塊風(fēng)險(xiǎn)加總值。
[0018] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述將具有離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的目標(biāo)布局圖形分類與歸納成 圖形區(qū)塊的方法包括：將具有離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的該目標(biāo)布局圖形擴(kuò)張?zhí)囟ǚ秶蟮玫蕉鄠€(gè)分割 區(qū)域，且每一分割區(qū)域內(nèi)圖形定義為局部圖形；W及依照分割區(qū)域內(nèi)所含的局部圖形，分類 與歸納成圖形區(qū)塊。
[0019] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述取得各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值的方法更包括 建立查詢表W及查詢查詢表來(lái)取得，查詢表具有影響因子W及對(duì)應(yīng)的預(yù)設(shè)條件范圍的風(fēng)險(xiǎn) 加權(quán)值的信息。
[0020] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述影響因子包括離標(biāo)程度、目標(biāo)關(guān)鍵尺寸、片段類型 W及直線長(zhǎng)度。離標(biāo)程度為離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)與目標(biāo)布局圖形的多個(gè)目標(biāo)點(diǎn)的偏差值。
[0021] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述離標(biāo)程度愈大、目標(biāo)關(guān)鍵尺寸愈小或直線長(zhǎng)度愈 長(zhǎng)，則風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值愈大。
[0022] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述片段類型包括轉(zhuǎn)角、直線、線末或其組合，且直線 的風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值大于轉(zhuǎn)角的風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值，且轉(zhuǎn)角的風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值大于線末的風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值。
[0023] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述進(jìn)階修正方法，更包括建立多個(gè)特定圖層，其中各 特定圖層分別儲(chǔ)存目標(biāo)布局圖形、修正圖形、仿真輪廓、離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)W及離標(biāo)程度達(dá)到一預(yù) 定值W上的離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的信息。
[0024] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述在目標(biāo)布局圖形上建立離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的步驟是在將 目標(biāo)布局圖形分類與歸納成圖形區(qū)塊之前進(jìn)行。
[0025] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述在目標(biāo)布局圖形上建立離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的步驟是在將 模擬輪廓分類與歸納成圖形區(qū)塊之后進(jìn)行，且上述調(diào)整修正圖形的步驟是進(jìn)行至該些離標(biāo) 評(píng)估點(diǎn)減少至一預(yù)定值W下或?yàn)榱恪?br> [0026] 依照本發(fā)明一實(shí)施例所述，上述調(diào)整修正圖形的步驟是進(jìn)行至整個(gè)或部分圖形區(qū) 塊的區(qū)塊風(fēng)險(xiǎn)加總值下降至一預(yù)定值W下或?yàn)榱恪?br> [0027] 本發(fā)明實(shí)施例的進(jìn)階修正方法，依照風(fēng)險(xiǎn)加總值的高低來(lái)決定離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的處理 順序，可W在短時(shí)間內(nèi)使模擬輪廓有效收斂且接近目標(biāo)布局圖形。
[0028] 本發(fā)明實(shí)施例的進(jìn)階修正方法，通過(guò)將模擬輪廓分類與歸納成多個(gè)圖形區(qū)塊，再 W區(qū)塊風(fēng)險(xiǎn)加總值的高低來(lái)決定處理的順序，可W進(jìn)一步縮短處理的時(shí)間，使模擬輪廓在 更短的時(shí)間收斂且接近目標(biāo)布局圖形。
[0029] 為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉實(shí)施例，并配合所附圖式 作詳細(xì)說(shuō)明如下。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0030] 圖1繪示依照本發(fā)明第一實(shí)施例的一種進(jìn)階修正方法的流程圖。
[0031] 圖2A繪示目標(biāo)布局圖形、修正圖形W及仿真輪廓的上視圖。
[0032] 圖2B繪示目標(biāo)布局圖形W及仿真輪廓的上視圖。
[0033] 圖3A繪示依照本發(fā)明第二實(shí)施例的一種進(jìn)階修正方法的流程圖。
[0034] 圖3B繪示依照本發(fā)明第H實(shí)施例的一種進(jìn)階修正方法的流程圖。
[00巧]圖4繪示具有各種局部圖形的圖形區(qū)塊的示意圖。
[0036] 【符號(hào)說(shuō)明】
[0037] 10;目標(biāo)布局圖形
[0038] 10a;目標(biāo)點(diǎn)
[00測(cè) 12 ;修正圖形
[0040] 14 ;模擬輪廓
[00川 14a;片段
[004引 14b ;離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)
[0043] 14c ;分割區(qū)域
[0044] 14d;局部圖形
[004引 16;圖形區(qū)塊
[0046] 100、102、104、106、108、110、112、114、210、212、214、216 ;步驟

【具體實(shí)施方式】
[0047] 圖1繪示依照本發(fā)明第一實(shí)施例的一種進(jìn)階修正方法的流程圖。圖2A繪示目標(biāo) 布局圖形、修正圖形W及仿真輪廓的上視圖。
[0048] 請(qǐng)參照?qǐng)D1與圖2A，本發(fā)明第一實(shí)施例的進(jìn)階修正方法，步驟100,先提供目標(biāo)布 局圖形10。目標(biāo)布局圖形10是指欲在基底上形成的布局圖形。目標(biāo)布局圖形10可W包括 各種的圖形可W包括線、塊或是孔，其形狀例如是圓形、楠圓形、矩形、正方形、長(zhǎng)條狀或各 種任意形狀所組合及/或重復(fù)而成的圖形。
[0049] 之后，步驟102,對(duì)目標(biāo)布局圖形10進(jìn)行分段，W形成多個(gè)片段14a。片段14a彼 此之間的長(zhǎng)度可W相同或相異。例如，在模擬輪廓14的關(guān)鍵區(qū)間或是容易受周圍環(huán)境影響 的區(qū)間（例如是有內(nèi)轉(zhuǎn)彎的區(qū)間、或外轉(zhuǎn)彎的區(qū)間），其片段14a的長(zhǎng)度可W較短；而非關(guān) 鍵區(qū)間或是不容易受周圍環(huán)境影響的區(qū)間（例如是直方圖形或線末中段），其片段14a的 長(zhǎng)度可W較長(zhǎng)。然后W各片段14a中的一點(diǎn)做為評(píng)估點(diǎn)或目標(biāo)點(diǎn)（evaluation point or target point) 10a。評(píng)估點(diǎn)10a可W是片段14a中的中也點(diǎn)，或是片段中任何一設(shè)定的點(diǎn)， 并無(wú)特別的限制。
[0050] 其后，步驟104, W修正模型修正目標(biāo)布局圖形10的每一個(gè)片段14a，W取得修正 圖形12。此處所述的修正模型例如是任何已知的修正模型，例如是光學(xué)鄰近修正模型的模 塊規(guī)則。其后，步驟106,對(duì)修正圖形12進(jìn)行仿真模擬，W取得模擬輪廓14。仿真模擬是指 在模仿實(shí)際的工藝，例如是光刻工藝或是光刻與刻蝕工藝，將修正圖形12移轉(zhuǎn)到基底上。
[0051] 從圖2可W發(fā)現(xiàn)，目標(biāo)布局圖形10經(jīng)由修正模型修正之后所得到的修正圖形12， 在經(jīng)由仿真模擬所得到的仿真輪廓14,與目標(biāo)布局圖形10并無(wú)法完全的重疊，而有誤差存 在。本發(fā)明透過(guò)進(jìn)階修正方法，可W有效地減少最終的仿真輪廓與目標(biāo)布局圖形的誤差，W 在基底上形成所需要的圖形。
[0052] 圖2B繪示目標(biāo)布局圖形W及仿真輪廓的上視圖。
[005引請(qǐng)參照?qǐng)D1與2B，步驟108,比較與計(jì)算目標(biāo)布局圖形10上的每一評(píng)估點(diǎn)10a所 對(duì)應(yīng)的仿真輪廓14與目標(biāo)布局圖形10的差異。當(dāng)目標(biāo)布局圖形10上的目標(biāo)點(diǎn)或評(píng)估點(diǎn) 10a其仿真輪廓14與目標(biāo)布局圖形10的差異大于所設(shè)定的標(biāo)準(zhǔn)值時(shí)，此目標(biāo)點(diǎn)或評(píng)估點(diǎn) 10a即被歸類成離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)（off-target point) 14b又可稱為熱點(diǎn)化ot spot)。
[0054] 之后，請(qǐng)參照?qǐng)D1，步驟110,依據(jù)影響仿真輪廓14偏離目標(biāo)布局圖形10的多個(gè)影 響因子W及多個(gè)預(yù)設(shè)條件范圍，取得各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)14b的多個(gè)風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值。影響因子包 括離標(biāo)程度（off-target level)、目標(biāo)關(guān)鍵尺寸（target CD size)、片段類型（dissection type)或直線長(zhǎng)度（run length)等等。離標(biāo)程度為離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)14b與目標(biāo)布局圖形10的 多個(gè)目標(biāo)點(diǎn)10a之間的偏差值。目標(biāo)關(guān)鍵尺寸是指與離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)14b對(duì)應(yīng)的目標(biāo)點(diǎn)10a所 在的目標(biāo)布局圖形10的關(guān)鍵尺寸的大小。片段類型是指與離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)14b對(duì)應(yīng)的目標(biāo)點(diǎn) 10a所在的目標(biāo)布局圖形10的片段類型。片段類型包括轉(zhuǎn)角、直線、線末或其組合等，但并 不W此為限。直線長(zhǎng)度是指離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)14b所在的片段14a的直線長(zhǎng)度。
[00巧]在一實(shí)施例中，取得各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)14b的多個(gè)風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值的方法，可W透過(guò)建 立查詢表W及查詢查詢表來(lái)取得。查詢表具有影響因子W及對(duì)應(yīng)的預(yù)設(shè)條件范圍的風(fēng)險(xiǎn)加 權(quán)值的信息。查詢表可W依據(jù)目標(biāo)布局圖形10的形狀或長(zhǎng)度的不同來(lái)建立，也可W進(jìn)一步 依據(jù)影響因子，例如是離標(biāo)程度、目標(biāo)關(guān)鍵尺寸、片段類型或直線長(zhǎng)度等等，來(lái)設(shè)定每一個(gè) 預(yù)設(shè)條件范圍的風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值。表1繪示一示范實(shí)施例的查詢表的示意圖。
[0056] 表 1
[0057]

【權(quán)利要求】
1. 一種進(jìn)階修正方法，包括： 提供一目標(biāo)布局圖形（Target layout pattern); 對(duì)該目標(biāo)布局圖形施以分段及建立多個(gè)評(píng)估點(diǎn)； 以一修正模型修正該目標(biāo)布局圖形以取得一修正圖形； 對(duì)該修正圖形進(jìn)行一仿真模擬，以取得一模擬輪廓（simulation contour); 在該目標(biāo)布局圖形上的每一評(píng)估點(diǎn)計(jì)算該仿真輪廓與該目標(biāo)布局圖形的一差異， 當(dāng)該差異值大于所設(shè)定的一標(biāo)準(zhǔn)值時(shí)，所對(duì)應(yīng)的該評(píng)估點(diǎn)即被歸類成一離標(biāo)評(píng)估點(diǎn) (off-target evaluation point)； 依據(jù)影響該仿真輪廓偏離該目標(biāo)布局圖形的多個(gè)影響因子以及多個(gè)預(yù)設(shè)條件范圍，以 取得各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的多個(gè)風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值； 將各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的這些風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值加總，以得到各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的一風(fēng)險(xiǎn)加總值； 將這些離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的這些風(fēng)險(xiǎn)加總值由高至低排序成一處理順序； 將該目標(biāo)布局圖形加以辨認(rèn)及分類歸納成多個(gè)圖形區(qū)塊；以及 依據(jù)該處理順序，調(diào)整該修正圖形，使調(diào)整后的該修正圖形的該仿真輪廓收斂且接近 該目標(biāo)布局圖形。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的進(jìn)階修正方法，其中取得各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的這些風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值 的方法更包括建立一查詢表以及查詢?cè)摬樵儽韥?lái)取得，該查詢表具有這些影響因子以及對(duì) 應(yīng)的這些預(yù)設(shè)條件范圍的這些風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值的信息。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的進(jìn)階修正方法，其中這些影響因子包括： 一離標(biāo)程度（off-target level)，其中該離標(biāo)程度為這些離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)與該目標(biāo)布局圖 形的偏差值； 一目標(biāo)關(guān)鍵尺寸（target CD size); 一片段類型（dissection type);以及 一直線長(zhǎng)度（run length)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的進(jìn)階修正方法，其中該離標(biāo)程度愈大、該目標(biāo)關(guān)鍵尺寸愈小 或該直線長(zhǎng)度愈長(zhǎng)，則該風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值愈大。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的進(jìn)階修正方法，其中該片段類型包括轉(zhuǎn)角（Vert)、直線 (Run)、線末（Line end)或其組合，且該直線的該風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值大于該轉(zhuǎn)角的該風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值， 且該轉(zhuǎn)角的該風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值大于該線末的該風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的進(jìn)階修正方法，更包括建立多個(gè)特定圖層，其中各該特定圖 層分別儲(chǔ)存該目標(biāo)布局圖形、該修正圖形、該仿真輪廓以及這些離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的信息。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的進(jìn)階修正方法，其中該修正模型包括光學(xué)鄰近效應(yīng)修正模 型。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的進(jìn)階修正方法，其中該調(diào)整該修正圖形的步驟是進(jìn)行至這些 離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的數(shù)目減少至一定值以下或?yàn)榱恪?br> 9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的進(jìn)階修正方法，其中該調(diào)整該修正圖形的步驟是進(jìn)行至這些 離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的這些風(fēng)險(xiǎn)加總值下降至一定值以下或?yàn)榱恪?br> 10. -種進(jìn)階修正方法，包括： 提供一目標(biāo)布局圖形； 對(duì)該目標(biāo)布局圖形施以分段及建立多個(gè)評(píng)估點(diǎn)； 以一修正模型修正該目標(biāo)布局圖形以取得一修正圖形； 對(duì)該修正圖形進(jìn)行一仿真模擬，以取得一模擬輪廓； 在該目標(biāo)布局圖形上的每一評(píng)估點(diǎn)計(jì)算該仿真輪廓與該目標(biāo)布局圖形的差異，當(dāng)該 差異值大于所設(shè)定的一標(biāo)準(zhǔn)值時(shí)，所對(duì)應(yīng)的該評(píng)估點(diǎn)被歸類成一離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)（off-target evaluation point)； 依據(jù)影響該仿真輪廓偏離該目標(biāo)布局圖形的多個(gè)影響因子以及多個(gè)預(yù)設(shè)條件范圍，以 取得各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的多個(gè)風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值； 將各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的這些風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值加總，以得到各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的一風(fēng)險(xiǎn)加總值； 將該目標(biāo)布局圖形加以辨認(rèn)分類與歸納成多個(gè)圖形區(qū)塊； 依據(jù)一規(guī)則，取得各個(gè)圖形區(qū)塊的一區(qū)塊風(fēng)險(xiǎn)加總值，該其中該規(guī)則與各個(gè)圖形區(qū)塊 中的這些離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的這些風(fēng)險(xiǎn)加總值有關(guān)； 將這些區(qū)塊風(fēng)險(xiǎn)加總值由高至低排序成一處理順序；以及 依據(jù)該處理順序，調(diào)整該修正圖形，使調(diào)整后的該修正圖形的該仿真輪廓收斂且接近 該目標(biāo)布局圖形。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的進(jìn)階修正方法，其中該規(guī)則包括以各個(gè)圖形區(qū)塊中的這些 離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)中的一最高風(fēng)險(xiǎn)加總值來(lái)決定該區(qū)塊風(fēng)險(xiǎn)加總值。
12. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的進(jìn)階修正方法，其中該規(guī)則包括以各個(gè)圖形區(qū)塊中的所有 這些離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的這些風(fēng)險(xiǎn)加總值的總和來(lái)決定該區(qū)塊風(fēng)險(xiǎn)加總值。
13. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的進(jìn)階修正方法，其中將具有這些離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的該目標(biāo)布局 圖形分類與歸納成這些圖形區(qū)塊的方法包括： 將具有這些離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的該目標(biāo)布局圖形擴(kuò)張?zhí)囟ǚ秶蟮玫蕉鄠€(gè)分割區(qū)域，且每一 分割區(qū)域內(nèi)圖形定義為一局部圖形；以及 依照這些分割區(qū)域內(nèi)所含的這些局部圖形，分類與歸納成這些圖形區(qū)塊。
14. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的進(jìn)階修正方法，其中取得各個(gè)離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的這些風(fēng)險(xiǎn)加權(quán) 值的方法更包括建立一查詢表以及查詢?cè)摬樵儽韥?lái)取得，該查詢表具有這些影響因子以及 對(duì)應(yīng)的這些預(yù)設(shè)條件范圍的這些風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值的信息。
15. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的進(jìn)階修正方法，其中這些影響因子包括： 一離標(biāo)程度，其中該離標(biāo)程度為這些離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)與該目標(biāo)布局圖形的多個(gè)目標(biāo)點(diǎn)的偏 差值； 一目標(biāo)關(guān)鍵尺寸； 一片段類型；以及 一直線長(zhǎng)度。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的進(jìn)階修正方法，其中該離標(biāo)程度愈大、該目標(biāo)關(guān)鍵尺寸愈 小或該直線長(zhǎng)度愈長(zhǎng)，則該風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值愈大。
17. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的進(jìn)階修正方法，其中該片段類型包括轉(zhuǎn)角、直線、線末或其 組合，且該直線的該風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值大于該轉(zhuǎn)角的該風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值，且該轉(zhuǎn)角的該風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值大 于該線末的該風(fēng)險(xiǎn)加權(quán)值。
18. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的進(jìn)階修正方法，更包括建立多個(gè)特定圖層，其中各該特定 圖層分別儲(chǔ)存該目標(biāo)布局圖形、該修正圖形、該仿真輪廓、這些離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)以及離標(biāo)程度達(dá) 到一定值以上的這些離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的信息。
19. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的進(jìn)階修正方法，其中在該目標(biāo)布局圖形上建立這些離標(biāo)評(píng) 估點(diǎn)的步驟是在將該目標(biāo)布局圖形分類與歸納成這些圖形區(qū)塊之前進(jìn)行。
20. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的進(jìn)階修正方法，其中在該目標(biāo)布局圖形上建立這些離標(biāo)評(píng) 估點(diǎn)的步驟是在將該目標(biāo)布局圖形分類與歸納成這些圖形區(qū)塊之后進(jìn)行，且該調(diào)整該修正 圖形的步驟是進(jìn)行至這些離標(biāo)評(píng)估點(diǎn)的數(shù)目減少至一定值以下或?yàn)榱恪?br> 21. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的進(jìn)階修正方法，其中該調(diào)整該修正圖形的步驟是進(jìn)行至整 個(gè)或部分這些圖形區(qū)塊的這些區(qū)塊風(fēng)險(xiǎn)加總值下降至一定值以下或?yàn)榱恪?br> 【文檔編號(hào)】G03F7/20GK104423178SQ201410206606
【公開(kāi)日】2015年3月18日 申請(qǐng)日期:2014年5月16日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月28日
【發(fā)明者】宣崇德, 胡哲明, 羅招龍 申請(qǐng)人:旺宏電子股份有限公司