專利名稱：分析裝置和用于該分析裝置的分析用盤片的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及將血液等分析對象安放在分析用的光盤上，對該分析對象進行掃描以獲取圖像的分析裝置。
背景技術：
如日本專利特表平10-504397號公報等所揭示的那樣，有一種利用光盤的重放功能，在盤片上的某一部分設置需要試驗的分析對象，對其掃描以取得分析對象的圖像的方法。
通常，光盤101如圖6、圖7所示，在基盤102的面上形成鋁反射層的光道103，由該光道上微細的凹凸的凹坑和凹槽104記錄有信息。105是保護層。
圖5所示的一般的光盤驅動器中，盤片電動機106邊將光盤101朝箭頭C方向旋轉邊利用來自光拾取頭107的激光Ph從光道103上進行讀取。光拾取頭107與由進給電動機108驅動的進給絲桿109螺合，伺服控制電路110為了根據(jù)光拾取頭107的再生輸出追蹤光道103進行掃描，驅動進給電動機108使光拾取頭107朝徑向移動。另外，伺服控制電路110驅動盤片電動機106(CLV控制)，以檢測記錄于光道103的地址信息，使線速度恒定。
更詳細地說，激光Ph對光盤101的照射位置構成為，不僅通過進給電動機108的驅動，而且通過設置在光拾取頭107的內部的跟蹤作動器(未圖示)將激光Ph的光路相對于光盤101的面根據(jù)需要朝左右方向(徑向)進行驅動，在進行位置控制的同時對光道103正確地進行掃描。
這里，分析用盤片的場合，與音頻用和視頻用CD的場合不同，而且如圖6、圖7所示，分析對象111配置在光盤101上，使用已有的光盤驅動器技術的分析裝置，利用圖8所示的光拾取頭107的PD(光電檢測器)117對來自該分析對象111的反射光進行讀取，經視頻信號處理電路112處理后得到分析對象111的圖像。
圖8表示圖5所示的光拾取頭107的功率控制電路。
用于讀取由光盤101的凹坑和凹槽等寫入的信息和各驅動伺服用的信息的激光輸出從光拾取頭107的LD(激光LED)113發(fā)出，在照射光盤101的同時照射監(jiān)控受光元件即前監(jiān)控器114。
該前監(jiān)控器114的輸出電壓輸入APC電路(自動功率控制電路)115。APC電路115使激光驅動電路116動作以使前監(jiān)控器114的電壓恒定，并使LD113的輸出為恒定地進行反饋控制。在所述分析裝置中也無例外地進行同樣的控制。這能有效地幫助穩(wěn)定地捕捉盤片上的凹坑和凹槽等的信號。
圖5和圖8所示的光盤驅動器中，構成為將光拾取頭107的LD113和PD117設置在光盤101的單側，對照射在光盤101上而反射的激光的檢測信號進行處理，但如圖9的假想線所示那樣將光拾取頭107構成為，夾著光盤101配設LD113和PD117，對照射在光盤101上而透射的激光的檢測信號進行處理，這樣的光盤驅動器的光拾取頭107的功率控制電路也與圖8相同。
但是，最適合分析對象111的部分的圖像取得的激光輸出并不一定使對所述凹坑和凹槽等進行捕捉的輸出最佳。
這是因為從設置在光盤101的內部的凹坑和凹槽取得信息的激光路徑與從分析對象111取得圖像的激光路徑不同的緣故。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于提供一種能得到最適合于從凹坑和凹槽取得信息的激光輸出，而且能得到最適合于從分析對象111取得圖像的激光輸出的分析裝置。
為了解決上述問題，本發(fā)明的構成是，在取得分析對象的圖像時利用檢測圖像的明暗進行控制。由此，在從分析對象取得圖像時能得到最佳對比度的圖像。
本發(fā)明的分析裝置，對局部配置了分析對象的分析用光盤照射檢測光，以讀取所述分析對象的狀態(tài)，其特征在于，作為產生照射分析用光盤的激光的激光元件的功率控制系統(tǒng)，設有利用監(jiān)控受光元件對所述激光的輸出進行檢測，使該監(jiān)控受光元件的值為恒定地進行反饋的第1切換狀態(tài)、以及照射于分析用光盤，而使反射或透射的激光的檢測信號的平均值為恒定地進行反饋的第2切換狀態(tài)，并設有在檢測出分析用光盤的分析對象的讀取位置之前將所述功率控制系統(tǒng)切換為第1切換狀態(tài)，在分析用光盤的分析對象的讀取位置處將所述功率控制系統(tǒng)切換為第2切換狀態(tài)的控制手段。
又，其特征在于，使所述控制手段形成這樣的結構，即檢測出設置在分析用光盤的讀取位置的稍微靠前的位置上的標記，將激光元件的功率控制系統(tǒng)切換為第2切換狀態(tài)。
另外，其特征在于，使所述控制手段形成這樣的結構，即檢測出設置在分析用光盤的讀取位置的稍微靠前的位置上的標記，將激光元件的功率控制系統(tǒng)切換為第2切換狀態(tài)，檢測到經過了規(guī)定時間后，使功率控制系統(tǒng)恢復為第1切換狀態(tài)。
另外，其特征在于，使所述控制手段形成這樣的結構，即檢測出設置在分析用光盤的讀取位置的稍微靠前的位置上的標記，將激光元件的功率控制系統(tǒng)切換為第2切換狀態(tài)，檢測出設置在所述讀取位置的稍微靠后的位置上的標記，使功率控制系統(tǒng)恢復為第1切換狀態(tài)。
本發(fā)明的分析用盤片，可對凹坑或凹槽進行掃描重放，具有用于控制盤片旋轉的數(shù)據(jù)區(qū)域和配置有分析對象的讀取區(qū)域，其特征在于，相對于配置有所述分析對象的讀取區(qū)域，在旋轉方向的稍微靠前的位置上的所述讀取區(qū)域的整個徑向區(qū)間內記錄有標記。
本發(fā)明的分析用盤片，可對凹坑或凹槽進行掃描重放，具有用于控制盤片旋轉的數(shù)據(jù)區(qū)域和配置有分析對象的讀取區(qū)域，其特征在于，相對于配置有所述分析對象的讀取區(qū)域，在旋轉方向的稍微靠前的位置和稍微靠后的位置的所述讀取區(qū)域的整個徑向區(qū)間內記錄有標記。


圖1是表示本發(fā)明的分析裝置的構成圖。
圖2是表示同一實施形態(tài)所使用的分析用光盤的俯視圖。
圖3是表示同一實施形態(tài)的分析用光盤的剖視圖。
圖4是表示在分析對象的前后位置設有標記的分析用光盤的俯視圖。
圖5是表示一般的光盤驅動器裝置的構成圖。
圖6是表示已有的分析用光盤的局部剖切的俯視圖。
圖7是表示已有的分析用光盤的剖視圖。
圖8是表示已有的光拾取頭的功率控制電路的構成圖。
圖9是表示已有的透射型光拾取頭的LD(激光LED)和PD(光電檢測器)的配置狀態(tài)的分析用光盤的剖視圖。
具體實施例方式
以下參照圖1～圖4對本發(fā)明的各實施形態(tài)進行說明。不過，與圖5～圖9所示的已有技術例相同的部分標上同一符號進行說明。
圖1是表示本發(fā)明的實施形態(tài)的分析裝置的光拾取頭107的功率控制電路，圖2～圖4表示該分析裝置所使用的分析用光盤201。
首先對分析用光盤201進行說明。
分析用光盤201如圖2所示，將與檢體和檢查項目對應的試藥的混合物作為分析對象111安放在光盤上，相對于配置有分析對象111的讀取區(qū)域203，僅在旋轉方向C的靠前位置上的讀取區(qū)域的徑向(箭頭A方向)上記錄標記204。
分析用光盤201上的分析對象111的位置及標記204相對于分析用光盤201的具體例的構成如圖3所示。
如圖3(a)所示，分析對象111設置在分析用光盤201的表面202a與光道103之間。標記204是通過將墨水205等帶狀地印刷在分析用光盤201的背面202b上而形成的。該圖3(a)中，206是鏡面加工而成的光道103上形成的凹坑或凹槽。207是鏡面加工而成的光道103上形成的凸區(qū)。
分析對象111如圖3(a)的假想線所示，設置在分析用光盤201的背面202b與光道103之間所構成的場合也相同。
圖1所示的功率控制電路通過切換開關208將向APC電路115進行反饋的輸入信號進行切換。該切換開關208將前監(jiān)控器114的輸出信號或積分電路209的輸出信號中的任何一方反饋至APC電路115，該切換開關208由微機210進行以下控制。
微機210在取得分析用光盤201上的EFM信號和擺動信號時，對切換開關208進行切換以使前監(jiān)控器114的輸出信號反饋至APC電路115，并對LD113的激光輸出進行控制以使前監(jiān)控器114的輸出電壓為恒定。
在上述為使前監(jiān)控器114的輸出電壓為恒定地對LD113的激光輸出進行控制的運行中，當微機210從PD117的輸出信號檢測到上述標記204，則微機210自動地對切換開關208進行切換，以將對視頻信號處理電路112的輸出信號進行積分輸出的積分電路209的輸出信號反饋至APC電路115，使分析用光盤201的分析對象111的圖像明暗分明。
更詳細地說，由PD117捕捉來自分析對象111的反射光，并輸入視頻信號處理電路112。因為在分析用光盤201上進行掃描的是激光點，故光的反射因分析對象111而隨時間發(fā)生強弱變化。利用積分電路209對其進行平均化，對激光的輸出進行反饋控制，以使從視頻信號處理電路112輸出的圖像的明暗(對比度)成為平均值。
微機210進一步構成為，檢測出標記204，將積分電路209的輸出信號反饋至APC電路115地進行了切換的切換開關208，在從檢測到標記204開始經過規(guī)定時間后返回將前監(jiān)控器114的輸出電壓反饋至APC電路115的狀態(tài)。
如此構成，故能得到最適合從凹坑或凹槽取得信息的激光輸出，而且能通過最適合從分析對象111取得圖像的激光輸出得到圖像對比度最佳的圖像輸出。
上述實施形態(tài)中，標記204是通過將墨水205帶狀地印刷在分析用光盤201的背面202b上而形成的，但也可如圖3(b)或(c)所示那樣構成。
圖3(b)的場合，在鏡面加工后的光道103的一部分上設置鏡面缺落的部位211可同樣實現(xiàn)標記204。更具體地說，像設置在DVD的鏡面上的BCA(BurstCutting Area參照DVD標準Ver.1.0等)那樣的標記。
圖3(c)的場合，在分析用光盤201的外形的一部分上設置凹部等形狀的異形部位212，可同樣實現(xiàn)標記204。更具體地說，將盤片本身的形狀做成異形，將光的反射改變至數(shù)據(jù)光道面的標記。
上述各實施形態(tài)中，上述微機210構成為，相對于配置有分析對象111的讀取區(qū)域203，在旋轉方向的靠前位置上配置標記204，微機210識別出標記204并經過了規(guī)定時間后，使切換開關208恢復為原來的狀態(tài)，但上述微機210也可構成為如圖4所示那樣，不僅在分析對象111的靠前位置，靠后位置上也可在分析用光盤201上設置同樣的標記，檢測出設置在分析對象111的靠后位置上的標記后使切換開關208恢復為原來的狀態(tài)。
上述各實施形態(tài)的分析用光盤201的標記204是通過印刷或鏡面缺落或形狀異形來形成的，但也可將上述標記設置在分析用光盤201的凹坑或凹槽206或凸區(qū)207中。
具體地說，是通過光拾取頭107檢測出上述標記，來區(qū)別光道數(shù)據(jù)部分和配置有上述分析對象111的讀取區(qū)域203的，具有以下例子。
是由EFM和MFM等凹坑構成的。更具體地說，是預凹坑、LPP(凸區(qū)預凹坑)(DVD-R/RW)，在作為地址信息進行記錄的光道與光道之間的凸區(qū)部作為預凹坑刻上的。更具體地說，是CAPA(DVD-RAM的地址用的預凹坑)等。是擺動等在凹槽上或凸區(qū)上重疊某些調制的結構。
分析用盤片201上的由凹坑或凹槽或凸區(qū)構成的上述標記的詳細位置和范圍，是在配置有上述分析對象111的讀取區(qū)域203的旋轉方向的靠前位置、靠后位置中的任何一方，與上述各實施形態(tài)相同。
使用由凹坑或凹槽或凸區(qū)形成上述標記的分析用盤片201的分析裝置，只是構成為光拾取頭107讀取上述標記并產生檢測出了標記位置的各觸發(fā)信號這一點與上述各實施形態(tài)不同。
上述各實施形態(tài)中，將光拾取頭107的LD113和PD117設置在光盤101的單側，形成對照射光盤101并反射的激光的檢測信號進行處理的構成，但將光拾取頭107夾著光盤101配設LD113和PD117，對照射光盤101并透射的激光的檢測信號進行處理地構成的光盤驅動器的光拾取頭107的功率控制電路也與圖1相同。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的分析裝置，作為產生照射分析用光盤的激光的激光元件的功率控制系統(tǒng)，設有利用監(jiān)控受光元件對所述激光的輸出進行檢測并使該監(jiān)控受光元件的值為恒定地進行反饋的第1切換狀態(tài)、照射于分析用光盤而反射或透射的激光的檢測信號的平均值為恒定地進行反饋的第2切換狀態(tài)，并設有在檢測出分析用光盤的分析對象的讀取位置之前將所述功率控制系統(tǒng)切換為第1切換狀態(tài)，在分析用光盤的分析對象的讀取位置處將所述功率控制系統(tǒng)切換為第2切換狀態(tài)的控制手段，故能得到最適合從凹坑或凹槽取得信息的激光輸出，而且能通過最適合從分析對象取得圖像的激光輸出得到對比度好的圖像。
權利要求
1.一種分析裝置，對局部配置了分析對象的分析用光盤照射檢測光，以讀取所述分析對象的狀態(tài)，其特征在于，作為產生照射分析用光盤的激光的激光元件的功率控制系統(tǒng)，設有利用監(jiān)控受光元件對所述激光的輸出進行檢測，并使該監(jiān)控受光元件的值為恒定地進行反饋的第1切換狀態(tài)、以及照射于分析用光盤而使反射或透射的激光的檢測信號的平均值為恒定地進行反饋的第2切換狀態(tài)，而且設有在檢測出分析用光盤的分析對象的讀取位置之前將所述功率控制系統(tǒng)切換為第1切換狀態(tài)，在分析用光盤的分析對象的讀取位置處將所述功率控制系統(tǒng)切換為第2切換狀態(tài)的控制手段。
2.如權利要求1所述的分析裝置，其特征在于，使所述控制手段形成這樣的結構，即檢測出設置在分析用光盤的讀取位置的稍微靠前的位置上的標記后，將激光元件的功率控制系統(tǒng)切換為第2切換狀態(tài)。
3.如權利要求1所述的分析裝置，其特征在于，使所述控制手段形成這樣的結構，即檢測出設置在分析用光盤的讀取位置的稍微靠前的位置上的標記后，將激光元件的功率控制系統(tǒng)切換為第2切換狀態(tài)，檢測到經過了規(guī)定時間后，使功率控制系統(tǒng)恢復為第1切換狀態(tài)。
4.如權利要求1所述的分析裝置，其特征在于，使所述控制手段形成這樣的結構，即檢測出設置在分析用光盤的讀取位置的稍微靠前的位置上的標記后，將激光元件的功率控制系統(tǒng)切換為第2切換狀態(tài)，檢測出設置在所述讀取位置的稍微靠后的位置上的標記后，使功率控制系統(tǒng)恢復為第1切換狀態(tài)。
5.一種分析用盤片，可對凹坑或凹槽進行重放掃描，具有用于控制盤片旋轉的數(shù)據(jù)區(qū)域和配置有分析對象的讀取區(qū)域，其特征在于，相對于配置有所述分析對象的讀取區(qū)域在旋轉方向的稍微靠前的位置上的所述讀取區(qū)域的整個徑向區(qū)間記錄標記。
6.一種分析用盤片，可對凹坑或凹槽進行重放掃描，具有用于控制盤片旋轉的數(shù)據(jù)區(qū)域和配置有分析對象的讀取區(qū)域，其特征在于，相對于配置有所述分析對象的讀取區(qū)域在旋轉方向的稍微靠前的位置上和稍微靠后的位置上的所述讀取區(qū)域的整個徑向區(qū)間記錄標記。
全文摘要
本發(fā)明的目的在于提供一種即使是分析用光盤上的分析對象部分，也能得到合適的對比度的圖像的分析裝置。在取得分析對象(111)的圖像時，控制手段(210)對切換開關(208)進行切換，將積分電路(209)的輸出信號反饋至對激光驅動電路(116)進行控制的APC電路(115)，以使照射分析用光盤并反射或透射的激光的檢測信號的平均值成為恒定。
文檔編號G01N21/17GK1662806SQ0381426
公開日2005年8月31日 申請日期2003年5月29日 優(yōu)先權日2002年6月19日
發(fā)明者脅田次雄 申請人:松下電器產業(yè)株式會社