一種半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本發(fā)明涉及一種雙頭清洗槍，更確切地說，是一種半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍。
【背景技術(shù)】
[0002]半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)是一種在工業(yè)生產(chǎn)上使用比較普遍的工業(yè)設(shè)備，具有較為廣闊的應(yīng)用前景。但是，目前普遍使用的半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)的清洗槍清洗效率不高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明主要是解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的技術(shù)問題，從而提供一種具有較高清洗效率的半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍。
[0004]本發(fā)明的上述技術(shù)問題主要是通過下述技術(shù)方案得以解決的:
一種半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍，包含一固定底座，在所述的固定底座上設(shè)有一加壓缸，在所述的加壓缸上設(shè)有一第一噴射口和一第二噴射口，在所述的第一噴射口和第二噴射口上設(shè)有一控制壓片。
[0005]作為本發(fā)明較佳的實(shí)施例，所述的第一噴射口為線形噴射口。
[0006]作為本發(fā)明較佳的實(shí)施例，所述的第二噴射口為霧化噴射口。
[0007]由于本發(fā)明的半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍在本體上設(shè)置了一個(gè)固定底座，在這個(gè)固定底座上設(shè)置了一個(gè)加壓缸，加壓缸上設(shè)置了兩個(gè)噴射口，一個(gè)噴射口為直線噴射口，另外一個(gè)噴射口為霧化噴射口，兩個(gè)噴射口相互配合，從而大大提高了半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍的清洗效率。
[0008]
【附圖說明】
[0009]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0010]圖1為本發(fā)明的半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍的立體結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為圖1中的半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍的立體結(jié)構(gòu)示意圖，此時(shí)為另一視角。
[0011]
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。
[0013]本發(fā)明提供了一種具有較高清洗效率的半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍。
[0014]如圖1、圖2所示，一種半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍I，包含一固定底座2，在所述的固定底座2上設(shè)有一加壓缸3，在所述的加壓缸3上設(shè)有一第一噴射口 41和一第二噴射口42，在所述的第一噴射口 41和第二噴射口 42上設(shè)有一控制壓片5。
[0015]如圖1、圖2所示，所述的第一噴射口41為線形噴射口。
[0016]如圖1、圖2所示，所述的第二噴射口42為霧化噴射口。
[0017]該發(fā)明的半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍在本體上設(shè)置了一個(gè)固定底座，在這個(gè)固定底座上設(shè)置了一個(gè)加壓缸，加壓缸上設(shè)置了兩個(gè)噴射口，一個(gè)噴射口為直線噴射口，另外一個(gè)噴射口為霧化噴射口，兩個(gè)噴射口相互配合，從而大大提高了半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍的清洗效率。
[0018]以上僅僅以一個(gè)實(shí)施方式來說明本發(fā)明的設(shè)計(jì)思路，在系統(tǒng)允許的情況下，本發(fā)明可以擴(kuò)展為同時(shí)外接更多的功能模塊，從而最大限度擴(kuò)展其功能。
[0019]以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何不經(jīng)過創(chuàng)造性勞動(dòng)想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書所限定的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍(1)，包含一固定底座(2)，其特征在于，在所述的固定底座(2)上設(shè)有一加壓缸(3)，在所述的加壓缸(3)上設(shè)有一第一噴射口(41)和一第二噴射口(42)，在所述的第一噴射口(41)和第二噴射口(42)上設(shè)有一控制壓片(5)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍，其特征在于，所述的第一噴射口(41)為線形噴射口。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍，其特征在于，所述的第二噴射口(42)為霧化噴射口。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍，包含一固定底座，在所述的固定底座上設(shè)有一加壓缸，在所述的加壓缸上設(shè)有一第一噴射口和一第二噴射口，在所述的第一噴射口和第二噴射口上設(shè)有一控制壓片，所述的第一噴射口為線形噴射口,所述的第二噴射口為霧化噴射口。由于本發(fā)明的半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍在本體上設(shè)置了一個(gè)固定底座，在這個(gè)固定底座上設(shè)置了一個(gè)加壓缸，加壓缸上設(shè)置了兩個(gè)噴射口，一個(gè)噴射口為直線噴射口，另外一個(gè)噴射口為霧化噴射口，兩個(gè)噴射口相互配合，從而大大提高了半導(dǎo)體硅片清洗機(jī)雙頭清洗槍的清洗效率。
【IPC分類】B05B12/04, B08B3/02, B05B9/04, B05B9/03
【公開號(hào)】CN105618414
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201610145371
【發(fā)明人】李趙和
【申請(qǐng)人】李趙和
【公開日】2016年6月1日
【申請(qǐng)日】2016年3月15日