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取代吡唑基吡唑衍生物及其作為除草劑的用圖

文檔序號:9713072閱讀:737來源:國知局
取代吡唑基吡唑衍生物及其作為除草劑的用圖
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及取代吡唑基吡唑衍生物、以及該化合物作為除草劑的用途。
【背景技術(shù)】
[0002] 近年來,在栽培農(nóng)作物時使用大量的除草劑,有助于農(nóng)業(yè)操作的省力化和提高農(nóng) 作物的生產(chǎn)性。在旱田、水稻栽培中許多除草劑已被實用化。
[0003] 然而,雜草的種類多樣化,而且各雜草的發(fā)芽和生長期不一樣,進而多年生雜草長 期生長。因此,很難通過散布一次除草劑來防除所有的雜草。
[0004] 水稻的初中期一次性處理劑顯示出在直到稗草(y匕'工)(稻稗(Echinochloa oryzicola)、野稗(Echinochloa crus-galIi var. crus-galli)、臺灣野稗(Echinochloa crus-galIi var. formosensis)、細葉旱稗(Echinochloa crus-galli var. praticola)、 長芒稗(Echinochloa crus-galli var. caudata)的總稱)的2~3葉期的處理中有效,經(jīng)過 一次處理可以防除主要雜草(參考非專利文獻1)。但是,在實用化的初中期一次性處理劑 中,防除稗草在生長至3.5葉期以上的時期的雜草是非常困難的,稗草的3葉期時的防除與 3.5葉期時的防除存在著技術(shù)鴻溝。
[0005] 進而,長期維持除草效果(或殘效性)在減少農(nóng)藥散布、操作的省力化、降低成本方 面很重要,成為初中期一次性處理劑所必須的性能。
[0006] 另外,近年來ALS(乙酰乳酸合成酶)抑制劑被廣泛普及,對ALS抑制劑具有抵抗性 的雜草成為問題。尤其對多年生的野慈姑(Sagittaria trifolia)、矮慈姑(Sagittaria pygmaea)的ALS抑制劑抵抗性生物型具有充分效果的除草劑很少。另外,作為近年來成問題 的雜草,多年生雜草中可列舉出野荸#(Eleocharis kuroguwai )、扁桿薦草(Scirpus 口1&11;[(3111111丨8)、三江薦草(3(3;[叩118 11丨口口011;[(3118)等,一年生雜草中可列舉出合萌 (Aeschynomene indica)、千金子(Leptochloa chinensis)、統(tǒng)草(Murdannia keisak)等, 對這些難防除雜草具有充分效果的除草劑很少。
[0007] 另一方面,許多吡唑衍生物作為除草劑而被實用化,例如4-(2,4_二氯苯甲?;?_ 1,3-二甲基-5-吡唑基對甲苯磺酸酯(通用名:"吡唑特(Pyrazolate)")、2_[4_(2,4-二氯苯 甲?;? -1,3-二甲基[1比唑-5-基氧基]乙酰苯(通用名:"節(jié)草唑(?5^32(?5^611)")、2-[4-(2, 4_二氯間甲苯?;1,3-二甲基吡唑-5-基氧基]-4'-甲基乙酰苯(通用名:"吡草酮 (Benzofenap)")等被廣泛使用,但是這些除草劑的單劑在日本注冊的對稗草的適用范圍均 是直到1.5葉期,這些吡唑衍生物雖對廣范圍的雜草有效,但對高葉齡的稗草的效果未必充 分。
[0008] 另外,專利文獻1記載的實施例4.73的化合物即1-(3-氯-4,5,6,7-四氫吡唑并[1, 5-a]吡啶-2-基)-5-[甲基(丙-2-炔基)氨基]吡唑-4-腈(通用名:"雙唑草腈 (Pyracloniir,商品名:y夕口 對廣范圍的雜草有效,但對高葉齡的稗草的效果不充 分,在日本注冊的這種除草劑單劑對稗草的適用范圍是直到1.5葉期。
[0009] 現(xiàn)有技術(shù)文獻 專利文獻 專利文獻l:W094/08999 非專利文獻 非專利文獻1:水田雜草的生態(tài)及其防除-水稻作物的雜草和除草劑解說-159頁(水田 雑草(7)生態(tài)七乇(7)防除一水稲作(7)雑草七除草剤解説一 159頁)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]發(fā)明要解決的問題 本發(fā)明的目的在于提供一種具有廣泛殺草譜,能夠防除實用上成問題的更高葉齡的重 要雜草,并且對水稻等作物不產(chǎn)生藥害的除草劑組合物。
[0011] 用于解決問題的方案 本發(fā)明人等為達成上述目的進行了反復深入研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn)具有特定化學結(jié)構(gòu)的吡唑 基吡唑衍生物長期具有廣泛的殺草譜,而且對高葉齡的重要雜草顯示出優(yōu)異的除草效力, 另一方面,對栽培作物具有充分的安全性,從而根據(jù)此見解完成了本發(fā)明。
[0012] 因此,本發(fā)明提供下式(I)表示的化合物,即吡唑基吡唑衍生物,
上式中: R1表不鹵素原子, R2表示氰基、硝基、鹵素原子, R3表示氫原子、三氟乙酰基、五氟丙?;?、七氟丁烯基, R4~R9任選相同或不同,表示氫原子、鹵素原子、(根據(jù)情況被一個或更多個鹵素原子取 代的)C^C6烷基、(根據(jù)情況被一個或更多個鹵素原子取代的)C3~C6環(huán)烷基、(根據(jù)情況被一 個或更多個鹵素原子取代的)C 2~C6烯基、(根據(jù)情況被一個或更多個鹵素原子取代的)C2~C6 炔基、(根據(jù)情況被一個或更多個鹵素原子取代的)C^C6烷氧基(C^C6)烷基、或者(根據(jù)情 況被一個或更多個鹵素原子、硝基、氰基、(根據(jù)情況被一個或更多個鹵素原子取代的)CpC 4 烷基或CpC4烷氧基取代的)苯基, a表不3~5,且 b表不0~2。
[0013] 式(I)中,優(yōu)選為: R1表示氯原子、溴原子, R4~R9任選相同或不同,表示氫原子、鹵素原子、(根據(jù)情況被一個或更多個鹵素原子取 代的)CpC4烷基、(根據(jù)情況被一個或更多個鹵素原子取代的)C3~C6環(huán)烷基、(根據(jù)情況被一 個或更多個鹵素原子取代的)C2~C4烯基、(根據(jù)情況被一個或更多個鹵素原子取代的)C 2~C4 炔基、(根據(jù)情況被一個或更多個鹵素原子取代的)CpC4烷氧基(CtC4)烷基、或者(根據(jù)情 況被一個或更多個鹵素原子、硝基、氰基、(根據(jù)情況被一個或更多個鹵素原子取代的)CpC 4 烷基或CpC4烷氧基取代的)苯基, a表不4 〇
【具體實施方式】
[0014]本說明書中,各取代基之前的如"Ca~Cb"的記載是指,各自所對應的基團中碳原子 存在a個~b個。
[0015] "鹵素原子"包括氟、氯、溴和碘原子。
[0016]基團本身或基團的一部分中所說的"烷基"可為直鏈狀或支鏈狀,沒有限制,例如 可列舉出甲基、乙基、正丙基或異丙基、正丁基、異丁基、仲丁基或叔丁基、正戊基、正己基 等,可在各自指定的碳原子數(shù)范圍內(nèi)進行選擇。
[0017] "烷氧基"是指烷基部分具有上述含義的烷基-0-基團,沒有限制,例如可列舉出甲 氧基、乙氧基、正丙氧基或異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、仲丁氧基或叔丁氧基等,可在各 自指定的碳原子數(shù)范圍內(nèi)進行選擇。
[0018] "環(huán)烷基"沒有限制,包括環(huán)丙基、環(huán)丁基、環(huán)戊基、環(huán)己基等,可在各自指定的碳原 子數(shù)范圍內(nèi)進行選擇。
[0019] "烯基"是指直鏈狀或支鏈狀、且分子內(nèi)具有一個或兩個以上雙鍵的不飽和烴基, 沒有限制,例如可列舉出乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、2-丁烯基、2-甲基-2-丙烯基、3-甲 基-2-丁烯基、I,1-二甲基-2-丙烯基等作為具體例,可在各自指定的碳原子數(shù)范圍內(nèi)進行 選擇。
[0020] "炔基"是指直鏈狀或支鏈狀、且分子內(nèi)具有一個或兩個以上三鍵的不飽和烴基, 沒有限制,例如可列舉出乙炔基、1-丙炔基、2-丙炔基、1-丁炔基、2-丁炔基、3-丁炔基、1,1-二甲基-2-丙炔基等作為具體例,可在各自指定的碳原子數(shù)范圍內(nèi)進行選擇。
[0021 ] "烷基"、"環(huán)烷基"、"烯基"、"炔基"、"烷氧基"中所含的氫原子的至少一個可被鹵 素原子取代,例如若以烷基為例,沒有限制,可為氯甲基、二氯甲基、三氟甲基、氯乙基、二氯 乙基、三氟乙基、四氟丙基、溴乙基、溴丙基、氯丁基、氯己基、全氟己基,可在各自指定的碳 原子數(shù)范圍內(nèi)進行選擇。
[0022] 在上述基團或其一部分被鹵素原子多取代,或者苯基被鹵素原子、硝基、氰基、(根 據(jù)情況被一個或更多個鹵素原子取代的)CpC 4烷基、或者CpC4烷氧基多取代的情況下,該 基團可被多于一個的相同或不同的鹵素原子和/或取代基取代。
[0023] 根據(jù)取代基的種類和鍵合方式,式(I)的化合物可作為立體異構(gòu)體存在。例如若存 在一個或更多個不對稱取代的碳原子,則這樣的立體異構(gòu)體可為對映異構(gòu)體和非對映異構(gòu) 體。立體異構(gòu)體可以在制造中從所得的混合物中,通過常用分離法,例如色譜分離步驟而得 到。立體異構(gòu)體也可以通過立體選擇性反應的使用、光學活性的起始原料和/或助劑的使用 而制備。本發(fā)明還涉及包含于式(I)所表示的化合物中但未被具體定義的所有立體異構(gòu)體 以及它們的混合物。
[0024] 以下列舉的所有化學式中,取代基和符號只要沒有另行定義,均具有與對式(I)的 定義相同的含義。本發(fā)明所提供的式(I)的化合物例如可由式(II)表示的化合物通過以下 制法(A)、(B)、(C)的任一種、或者在制法(A)、(B)、(C)的任一種之后進行制法(D)而制備;
[0025] 制法(A): 式(I)的化合物的制備方法,其特征在于,在堿的存在下使上述式(II)的化合物與下式 (III)表示的化合物反應;
(式中,X表示鹵素原子、甲苯磺酸酯(tosylate)、甲磺酸酯(mesylate)。)。
[0026] 制法(B): 式(I)的化合物的制備方法,其特征在于,將上述式(II)的化合物與下式(IV)表示的化 合物脫水縮合生成席夫堿后,與還原劑反應;
[0027] 制法(C): 式(I)的化合物的制備方法,其特征在于,使上述式(II)的化合物與下式(V)表示的化 合物反應生成酰胺后進行鹵化,然后與還原劑反應;
(式中,Y表示羥基、烷氧基、鹵素原子。)。
[0028]制法(D): 式(I)的化合物的制備方法,其特征在于,在式(I)的化合物中R3不含氫原子的情況下, 實施制法(A)、(B)、(C)的任一種之后,進行全氟酰胺化反應。
[0029] 制法(A)、(B)、(C)中均使用的式(II)的化合物可以按照W093/10100和W094/08999 記載的方法,由四氫_2H_吡喃_2_亞基乙臆、或者5-氯戊酰氯合成。
[0030]制法(A)中用作另一起始原料的式(III)的化合物為本身已知的化合物,或者可以 采用與已知化合物同樣的方式合成(例如參照日本特開2011-173838、
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