專利名稱：一種具有流量偵測器的氧化爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種具有流量偵測器的氧化爐。
背景技術(shù)：
氧化爐是一種通過高溫，并往爐體通入反應(yīng)氣體和水蒸汽使硅片表面生成Si02 層的設(shè)備，水蒸汽的流量對Si02層的厚度有直接的影響，氧化爐的水蒸汽通過水汽發(fā)生器產(chǎn)生。在使用現(xiàn)有設(shè)備時，當(dāng)Si02層的厚度低于規(guī)定值，工藝人員很難判斷是水汽發(fā)生器本身發(fā)生故障，還是廠務(wù)的供水有問題。

實用新型內(nèi)容本實用新型所要解決的技術(shù)問題是對現(xiàn)有設(shè)備進(jìn)行改造，提供一種具有流量偵測器的氧化爐，方便工藝人員迅速判斷發(fā)生問題的原因。本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種具有流量偵測器的氧化爐，包括水汽發(fā)生器，水汽發(fā)生器具有進(jìn)水端和水蒸汽出口，在水汽發(fā)生器的進(jìn)水端安裝流量偵測器。流量偵測器與電腦連接，把進(jìn)水端的流量信號接入電腦。本實用新型的有益效果是在水汽發(fā)生器的進(jìn)水端裝上一個流量偵測器，并把流量信號接入主電腦后，可以實現(xiàn)監(jiān)控并記錄入水流量的功能，當(dāng)出氣口的水蒸汽流量出現(xiàn)異常后，通過查看歷史記錄，維護(hù)人員可以快速查找水汽發(fā)生器流量不穩(wěn)的根本原因，排查是水源問題還是設(shè)備問題，提高了排查問題的速度。
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型進(jìn)一步說明；


圖1 本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖中，1.水汽發(fā)生器，2.進(jìn)水端，3.水蒸汽出口，4.流量偵測器，5.電腦。
具體實施方式
如
圖1所示，一種具有流量偵測器的氧化爐，包括水汽發(fā)生器1，水汽發(fā)生器1具有進(jìn)水端2和水蒸汽出口 3，在水汽發(fā)生器1的進(jìn)水端2安裝流量偵測器4。流量偵測器4 與電腦5連接，把進(jìn)水端2的流量信號接入電腦5，電腦具有查詢當(dāng)前流量和歷史流量的功能，實現(xiàn)監(jiān)控并記錄入水流量的功能，當(dāng)出氣口的水蒸汽流量出現(xiàn)異常后，可以通過查看歷史記錄，快速找到發(fā)生問題的末端零件。當(dāng)工藝人員發(fā)現(xiàn)硅片生成的Si02層的厚度低于規(guī)定值，檢查工藝設(shè)定沒有發(fā)現(xiàn)問題，設(shè)備人員檢查設(shè)備后發(fā)現(xiàn)水蒸汽的流量異常時，有了流量偵測器4后，可通過電腦5 查看廠務(wù)供水的壓力走勢數(shù)據(jù)，如果發(fā)現(xiàn)在問題工藝運行期間水壓有明顯下降，即可確定故障原因為廠務(wù)供水的壓力。
權(quán)利要求1.一種具有流量偵測器的氧化爐，包括水汽發(fā)生器(1)，水汽發(fā)生器(1)具有進(jìn)水端(2)和水蒸汽出口(3)，其特征是所述的在水汽發(fā)生器(1)的進(jìn)水端( 安裝流量偵測器 ⑷。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有流量偵測器的氧化爐，其特征是所述的流量偵測器(4) 與電腦(5)連接，把進(jìn)水端(2)的流量信號接入電腦(5)。
專利摘要本實用新型涉及一種具有流量偵測器的氧化爐，包括水汽發(fā)生器，水汽發(fā)生器具有進(jìn)水端和水蒸汽出口，在水汽發(fā)生器的進(jìn)水端裝上一個流量偵測器，并把流量信號接入主電腦后，可以實現(xiàn)監(jiān)控并記錄入水流量的功能，當(dāng)出氣口的水蒸汽流量出現(xiàn)異常后，通過查看偵測器歷史記錄，維護(hù)人員可以快速查找水汽發(fā)生器流量不穩(wěn)的根本原因，排查是水源問題還是設(shè)備問題，提高了排查問題的速度。
文檔編號C01B33/113GK202099069SQ20112020462
公開日2012年1月4日 申請日期2011年6月17日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月17日
發(fā)明者衛(wèi)志敏, 楊延德, 肖揚鑫, 陳斌 申請人:常州天合光能有限公司