技術編號：3444000
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及一種具有流量偵測器的氧化爐。 背景技術氧化爐是一種通過高溫，并往爐體通入反應氣體和水蒸汽使硅片表面生成Si02 層的設備，水蒸汽的流量對Si02層的厚度有直接的影響，氧化爐的水蒸汽通過水汽發(fā)生器產生。在使用現(xiàn)有設備時，當Si02層的厚度低于規(guī)定值，工藝人員很難判斷是水汽發(fā)生器本身發(fā)生故障，還是廠務的供水有問題。實用新型內容本實用新型所要解決的技術問題是對現(xiàn)有設備進行改造，提供一種具有流量偵測器的氧化爐，方便工藝人員迅速判斷發(fā)生問題的原因。本實...
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