一種拋光處理設(shè)備和方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種拋光處理設(shè)備和方法，該設(shè)備包括：磁場裝置，用于產(chǎn)生一旋轉(zhuǎn)磁場；容納裝置，設(shè)置于旋轉(zhuǎn)磁場的磁場范圍內(nèi)，用于提供一容納空間，承載介質(zhì)和待拋光元件；其中，容納裝置為立方體型腔體，且在腔體內(nèi)設(shè)置至少一個楔形棱；拋光裝置，設(shè)置于介質(zhì)中，用于使拋光裝置對介質(zhì)中的待拋光元件進(jìn)行拋光處理。通過本發(fā)明，能夠?qū)Υ龗伖馕矬w的表面進(jìn)行修飾加工，清洗待拋光物體表面的臟污，剔除表面及邊緣的毛刺，達(dá)到清除臟污的效果，同時增加了待拋光物體表面的凹凸結(jié)構(gòu)，使表面硬度增加，通過設(shè)置楔形棱，利于待拋光元件的翻轉(zhuǎn)，使其表面拋光均勻。
【專利說明】
_種拋光處理設(shè)備和方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本發(fā)明涉及拋光處理領(lǐng)域，特別是涉及一種拋光處理設(shè)備和方法?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]圓環(huán)型PPTC元器件主要運用于圓柱狀鋰離子電子中，主要通過組合蓋帽的方式， 組裝到電池中。鋰電池在安裝生產(chǎn)過程中對環(huán)境要求嚴(yán)格，一般都需要無塵車間，因此對組合蓋帽和圓環(huán)型PPTC元器件外觀要求嚴(yán)格，圓環(huán)PPTC元器件表面不能有油污、臟污、毛刺等外觀不良的現(xiàn)象。
[0003]但是在實際生產(chǎn)中，如覆膜、沖壓等過程中其不可避免的會產(chǎn)生一些臟污、油污、 毛刺以及空氣中吸收的灰層等。此類外觀不良的產(chǎn)品，如果采用常規(guī)的溶劑或者表面活性劑的方法清洗，出現(xiàn)的問題是表面清洗不徹底、清洗后會變型、清洗后更容易吸附臟污灰層等。因此這些外觀不良產(chǎn)品只能生產(chǎn)過程中挑選除去然后報廢。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種拋光處理設(shè)備和方法，能夠?qū)Υ龗伖馕矬w的表面進(jìn)行修飾加工，清洗待拋光物體表面的臟污，剔除表面及邊緣的毛刺，達(dá)到清除臟污的效果，同時增加了待拋光物體表面的凹凸結(jié)構(gòu)，使表面硬度增加。
[0005]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是:提供一種拋光處理設(shè)備，包括:磁場裝置，用于產(chǎn)生一旋轉(zhuǎn)磁場;容納裝置，設(shè)置于旋轉(zhuǎn)磁場的磁場范圍內(nèi)，用于提供一容納空間，承載介質(zhì)和待拋光元件;其中，容納裝置為立方體型腔體，且在腔體內(nèi)設(shè)置至少一個楔形棱;拋光裝置，設(shè)置于介質(zhì)中，用于使拋光裝置對介質(zhì)中的待拋光元件進(jìn)行拋光處理。
[0006]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是:提供一種拋光處理方法，該方法的步驟包括:產(chǎn)生一旋轉(zhuǎn)磁場;提供一容納空間，承載介質(zhì)和待拋光元件，且將容納空間設(shè)置于旋轉(zhuǎn)磁場的磁場范圍內(nèi)；其中，容納空間為立方體型腔體，且在腔體內(nèi)設(shè)置至少一個楔形棱;使介質(zhì)中的拋光劑對介質(zhì)中的待拋光元件進(jìn)行拋光處理。
[0007]區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的拋光處理設(shè)備通過設(shè)置一旋轉(zhuǎn)磁場，使磁性研磨劑在旋轉(zhuǎn)磁場的作用下在介質(zhì)中進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，在旋轉(zhuǎn)的同時敲擊待拋光物體，實現(xiàn)對待拋光物體的拋光處理。通過本發(fā)明，能夠?qū)Υ龗伖馕矬w的表面進(jìn)行修飾加工，清洗待拋光物體表面的臟污，剔除表面及邊緣的毛刺，達(dá)到清除臟污的效果，同時增加了待拋光物體表面的凹凸結(jié)構(gòu)，使表面硬度增加，通過設(shè)置楔形棱，利于待拋光元件的翻轉(zhuǎn)，使其表面拋光均勻。【附圖說明】
[0008]圖1是本發(fā)明提供的一種拋光處理設(shè)備的實施方式的截面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0009]圖2是本發(fā)明提供的一種拋光處理設(shè)備的實施方式中容納裝置的結(jié)構(gòu)示意圖
[0010]圖3是本發(fā)明提供的一種拋光處理方法的實施方式的流程示意圖?！揪唧w實施方式】
[0011]下面結(jié)合【具體實施方式】對本發(fā)明的技術(shù)方案作進(jìn)一步更詳細(xì)的描述。顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明的一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例， 本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都應(yīng)屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0012]高分子正溫度系數(shù)元件(PPTC)，是一種電路保護元件，是一種溫度和電阻成正系數(shù)增加的電子元器件。根據(jù)其正溫度系數(shù)特性，PPTC電子元器件安裝于電路中起到防止短路和限制大電流等作用。根據(jù)其運用領(lǐng)域，將電子元器件沖切成不同形狀的產(chǎn)品，如做成插腳狀、貼片式、條帶式以及圓環(huán)型。
[0013]本發(fā)明主要用于對圓環(huán)型PPTC元器件的拋光。圓環(huán)型PPTC元器件主要運用于圓柱狀鋰離子電子中，其主要通過組合蓋帽的方式，組裝到電池中，鋰電池在安裝生產(chǎn)過程中對環(huán)境要求嚴(yán)格，一般都需要無塵車間，因此對組合蓋帽和圓環(huán)型PPTC元器件外觀要求嚴(yán)格， 圓環(huán)型PPTC元器件表面不能有油污、臟污、毛刺等外觀不良的現(xiàn)象。圓環(huán)型PPTC元器件是通過高分子導(dǎo)電材料表面貼覆一層鎳膜或者鍍鎳膜而壓制成型的薄片(厚度0.1?1.4mm)。在生產(chǎn)中，如覆膜、沖壓等過程中其不可避免的會產(chǎn)生一些臟污、油污、毛刺以及空氣中吸收的灰層等。這些臟污等外觀不良產(chǎn)品，如果采用常規(guī)的溶劑或者表面活性劑的方法清洗，出現(xiàn)的問題是表面清洗不徹底、清洗后會變型、清洗后更容易吸附臟污灰層等。因此這些外觀不良產(chǎn)品只能生產(chǎn)過程中挑選除去然后報廢。
[0014]拋光是指利用機械、化學(xué)或電化學(xué)的作用，使工件表面粗糙度降低，以獲得光亮、 平整表面的加工方法。是利用拋光工具和磨料顆?；蚱渌麙伖饨橘|(zhì)對工件表面進(jìn)行的修飾加工，采用拋光方法，運用于表面為鍍鎳的電極膜，拋光后圓環(huán)型PPTC元器件表面的臟污能被清洗，邊緣的毛刺及外觀不良能被剔除表面，達(dá)到清除臟污的效果。
[0015]參閱圖1和圖2,圖1是本發(fā)明提供的一種拋光處理設(shè)備的實施方式的截面結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本發(fā)明提供的一種拋光處理設(shè)備的實施方式中容納裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。該拋光處理設(shè)備100包括:磁場裝置110、容納裝置120和拋光裝置130。
[0016]磁場裝置110用于產(chǎn)生一旋轉(zhuǎn)磁場。磁場裝置110包括電動單元111和磁性單元 112。電動單元111用于在通電后帶動磁性單元112進(jìn)行旋轉(zhuǎn);磁性單元112用于在隨電動單元111進(jìn)行旋轉(zhuǎn)時，產(chǎn)生磁場。在本實施方式中，電動單元111為電動機，磁性單元112為磁鐵或具有磁性的物質(zhì)。磁鐵等磁性物質(zhì)設(shè)置于電動機上，電動機通電后，帶動磁鐵等磁性物質(zhì)進(jìn)行圓周運動，從而產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)磁場。
[0017]容納裝置120為一立體結(jié)構(gòu)的腔體，設(shè)置于旋轉(zhuǎn)磁場的磁場范圍內(nèi)。將介質(zhì)和待拋光元件置于該容納裝置120內(nèi)。在本實施方式中，介質(zhì)選取為水，在其他實施方式中，也可采用酒精、油等其他液體或者氣體作為介質(zhì)。容納裝置120為立體結(jié)構(gòu)，可為圓筒型、立方體型或其他形狀。在容納裝置120腔體的中心位置是在一擋塊121。
[0018]拋光裝置130設(shè)置于介質(zhì)水中，對介質(zhì)中的待拋光元件進(jìn)行拋光處理。待拋光元件為圓環(huán)型PPTC元器件。拋光裝置130包括第一拋光劑131和第二拋光劑132。第一拋光劑131 為磁性研磨劑，在磁場作用下在介質(zhì)中進(jìn)行轉(zhuǎn)動，在轉(zhuǎn)動的同時敲擊圓環(huán)型PPTC元器件實現(xiàn)對圓環(huán)型PPTC元器件的拋光處理。第二拋光劑132為化學(xué)拋光劑，溶解于介質(zhì)中，用于對介質(zhì)中的圓環(huán)型PPTC元器件進(jìn)行化學(xué)拋光處理。
[0019]磁性研磨拋光是采用磁性研磨劑進(jìn)行拋光，磁性研磨劑一般都是由一定尺寸的圓柱磁性鋼針組成，圓柱磁性鋼針的直徑可選0.3?0.8mm，長度為2?8_，優(yōu)先選擇直徑0.5 ±0.1mm、長度5± 1mm尺寸的圓柱磁性鋼針。磁性研磨劑通過旋轉(zhuǎn)磁場中磁力的作用，在磁場中運動，可通過調(diào)節(jié)磁場的大小，使磁性研磨劑在磁場中沿著不同方向運動。當(dāng)圓環(huán)型 PPTC元器件放置在容納裝置120中時，高速運動的磁性鋼針敲打著圓環(huán)型PPTC元器件表面， 使得圓環(huán)型PPTC元器件表面形成細(xì)小的凹凸。而敲打表面的過程，可以除去圓環(huán)型PPTC元器件表面的臟污以及邊緣的毛刺，達(dá)到清除臟污的效果，同時由于增加了圓環(huán)型PPTC元器件表面的凹凸結(jié)構(gòu)，使產(chǎn)品表面硬度增加，更適合用于組合蓋帽中。
[0020]磁性研磨劑敲打圓環(huán)型PPTC元器件表面使其形成細(xì)小的凹凸，增加被拋光產(chǎn)品的表面積。但是由于拋光研磨劑為圓柱型磁性鋼針，這種鋼容易生銹，而且圓環(huán)型PPTC元器件拋光后表面光澤度欠佳。為了增加鍍鎳膜表面的光澤度，在拋光過程中加入第二拋光劑132 的化學(xué)拋光劑，化學(xué)拋光劑可為不銹鋼拋光劑、鎂合金拋光劑、鋁合金拋光機、鉆研拋光劑等中的一種，優(yōu)選為不銹鋼拋光劑。
[0021]本實施方式中的拋光處理設(shè)備100是通過電機帶動高速旋轉(zhuǎn)的磁鐵，產(chǎn)生一個旋轉(zhuǎn)磁場，在磁場上放置一個容納裝置120,容納裝置120中裝入磁性研磨劑、圓環(huán)型PPTC元器件、化學(xué)拋光劑以及介質(zhì)水。當(dāng)電機單元131帶動磁性單元132轉(zhuǎn)動時，產(chǎn)生強力的磁場，此時裝在容納裝置120中的磁性研磨劑按一個方向開始旋轉(zhuǎn)，介質(zhì)水和化學(xué)拋光劑以及質(zhì)量相對較輕的圓環(huán)型PPTC元器件也跟著高速旋轉(zhuǎn)的磁性研磨劑進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)過程中大量的磁性研磨劑會敲擊到圓環(huán)型PPTC元器件表面，形成細(xì)小凹凸?fàn)?，達(dá)到圓環(huán)型PPTC元器件表面拋光的效果。[〇〇22]但是，若將容納裝置120設(shè)置為圓形桶，由于圓環(huán)型PPTC元器件是厚度約為0.3mm 的薄片，其質(zhì)量相對較小，在高速旋轉(zhuǎn)的桶中圓環(huán)型PPTC元器件一般都是沿著圓桶邊緣做圓周運動，因此沿著塑料拋光桶壁的圓環(huán)型PPTC元器件的另外一面受不到磁性研磨劑的撞擊，拋光后的圓環(huán)型PPTC元器件可能的情況是一面拋光過渡，另外一面確未被拋光，因此將容納裝置120設(shè)置為圓形桶是不適合的。
[0023]在本實施方式中，將容納裝置120設(shè)置為立方體型。此時在拋光過程中延桶壁運動的圓環(huán)形PPTC產(chǎn)品在方形桶的四個轉(zhuǎn)角位置會發(fā)生翻轉(zhuǎn)，翻轉(zhuǎn)后另外一面產(chǎn)品才能被磁性研磨劑撞擊到，產(chǎn)品拋光效果。[〇〇24] 又由于底下的磁場帶動磁性研磨劑是做圓周運動，其帶動圓環(huán)型PPTC元器件在方形桶角落位置撞擊后翻轉(zhuǎn)進(jìn)入桶中間，之后又會被向心力甩向桶貼壁位置。因此在這個拋光過程中，圓環(huán)型PPTC元器件翻轉(zhuǎn)的概率只能為二分之一，方形桶仍然有部分圓環(huán)型PPTC 元器件會出現(xiàn)拋光不均勻的情況。
[0025]在本實施方式中，在容納裝置120的內(nèi)側(cè)壁設(shè)置至少一個楔形棱122,每一楔形棱 122的高度應(yīng)該大于圓環(huán)型PPTC元器件直徑的三分之一，優(yōu)選其在直徑的二分之一到四分之三之間。當(dāng)圓環(huán)型PPTC元器件沿腔體壁到楔形棱122垂直方形桶側(cè)壁直角邊的位置時，撞擊到該直角邊使拋光物體發(fā)生翻轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)動后仍能沿著斜度的桶壁運動，楔形棱122的數(shù)量越多，則翻轉(zhuǎn)次數(shù)越多，圓環(huán)型PPTC元器件拋光越均勻，拋光效果越好。[〇〇26]區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的拋光處理設(shè)備通過設(shè)置一旋轉(zhuǎn)磁場，使磁性研磨劑在旋轉(zhuǎn)磁場的作用下在介質(zhì)中進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，在旋轉(zhuǎn)的同時敲擊待拋光物體，實現(xiàn)對待拋光物體的拋光處理。通過本發(fā)明，能夠?qū)Υ龗伖馕矬w的表面進(jìn)行修飾加工，清洗待拋光物體表面的臟污，剔除表面及邊緣的毛刺，達(dá)到清除臟污的效果，同時增加了待拋光物體表面的凹凸結(jié)構(gòu)，使表面硬度增加，通過設(shè)置楔形棱，利于待拋光元件的翻轉(zhuǎn)，使其表面拋光均勻。
[0027]參閱圖3,圖3是本發(fā)明提供的一種拋光處理方法的實施方式的流程示意圖。該方法的步驟包括:[〇〇28]S201:產(chǎn)生一旋轉(zhuǎn)磁場。
[0029]設(shè)置一電動機，電動機通電后帶動一磁鐵進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，磁鐵在旋轉(zhuǎn)過程中產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)磁場。
[0030]S202:提供一容納空間，承載介質(zhì)和待拋光元件，且將容納空間設(shè)置于旋轉(zhuǎn)磁場的磁場范圍內(nèi)；其中，容納空間為立方體型腔體，且在腔體內(nèi)設(shè)置至少一個楔形棱。
[0031]提供一立體結(jié)構(gòu)的腔體，設(shè)置于旋轉(zhuǎn)磁場的磁場范圍內(nèi)。將介質(zhì)和待拋光元件置于該腔體內(nèi)，在本實施方式中，介質(zhì)選取為水，在其他實施方式中，也可采用酒精、油等其他液體或者氣體作為介質(zhì)。腔體為立體結(jié)構(gòu)，可為圓筒型、立方體型或其他形狀。在腔體的中心位置是在一擋塊。[〇〇32]S203:使介質(zhì)中的拋光劑對介質(zhì)中的待拋光元件進(jìn)行拋光處理。
[0033]拋光劑設(shè)置于介質(zhì)水中，對介質(zhì)中的待拋光元件進(jìn)行拋光處理。待拋光元件為圓環(huán)型PPTC元器件。拋光劑包括第一拋光劑和第二拋光劑。第一拋光劑為磁性研磨劑，在磁場作用下在介質(zhì)中進(jìn)行轉(zhuǎn)動，在轉(zhuǎn)動的同時敲擊圓環(huán)型PPTC元器件實現(xiàn)對圓環(huán)型PPTC元器件的拋光處理。第二拋光劑為化學(xué)拋光劑，溶解于介質(zhì)中，用于對介質(zhì)中的圓環(huán)型PPTC元器件進(jìn)行化學(xué)拋光處理。
[0034]磁性研磨拋光是采用磁性研磨劑進(jìn)行拋光，磁性研磨劑一般都是由一定尺寸的圓柱磁性鋼針組成，圓柱磁性鋼針的直徑可選0.3?0.8mm，長度為2?8_，優(yōu)先選擇直徑0.5 ±0.1mm、長度5± 1mm尺寸的圓柱磁性鋼針。磁性研磨劑通過旋轉(zhuǎn)磁場中磁力的作用，在磁場中運動，可通過調(diào)節(jié)磁場的大小，使磁性研磨劑在磁場中沿著不同方向運動。當(dāng)圓環(huán)型 PPTC元器件放置在腔體中時，高速運動的磁性鋼針敲打著圓環(huán)型PPTC元器件表面，使得圓環(huán)型PPTC元器件表面形成細(xì)小的凹凸。而敲打表面的過程，可以除去圓環(huán)型PPTC元器件表面的臟污以及邊緣的毛刺，達(dá)到清除臟污的效果，同時由于增加了圓環(huán)型PPTC元器件表面的凹凸結(jié)構(gòu)，使產(chǎn)品表面硬度增加，更適合用于組合蓋帽中。[〇〇35]磁性研磨劑敲打圓環(huán)型PPTC元器件表面使其形成細(xì)小的凹凸，增加被拋光產(chǎn)品的表面積。但是由于拋光研磨劑為圓柱型磁性鋼針，這種鋼容易生銹，而且圓環(huán)型PPTC元器件拋光后表面光澤度欠佳。為了增加鍍鎳膜表面的光澤度，在拋光過程中加入第二拋光劑的化學(xué)拋光劑，化學(xué)拋光劑可為不銹鋼拋光劑、鎂合金拋光劑、鋁合金拋光機、鉆研拋光劑等中的一種，優(yōu)選為不銹鋼拋光劑。[0〇36]本實施方式中的拋光處理方法是通過電機帶動高速旋轉(zhuǎn)的磁鐵，產(chǎn)生一個旋轉(zhuǎn)磁場，在磁場上放置一個腔體，腔體中裝入磁性研磨劑、圓環(huán)型PPTC元器件、化學(xué)拋光劑以及介質(zhì)水。當(dāng)電動機帶動磁鐵轉(zhuǎn)動時，產(chǎn)生強力的磁場，此時裝在腔體中的磁性研磨劑按一個方向開始旋轉(zhuǎn)，介質(zhì)水和化學(xué)拋光劑以及質(zhì)量相對較輕的圓環(huán)型PPTC元器件也跟著高速旋轉(zhuǎn)的磁性研磨劑進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)過程中大量的磁性研磨劑會敲擊到圓環(huán)型PPTC元器件表面，形成細(xì)小凹凸?fàn)?，達(dá)到圓環(huán)型PPTC元器件表面拋光的效果。[〇〇37]但是，若將腔體設(shè)置為圓形桶，由于圓環(huán)型PPTC元器件是厚度約為0.3mm的薄片， 其質(zhì)量相對較小，在高速旋轉(zhuǎn)的桶中圓環(huán)型PPTC元器件一般都是沿著圓桶邊緣做圓周運動，因此沿著塑料拋光桶壁的圓環(huán)型PPTC元器件的另外一面受不到磁性研磨劑的撞擊，拋光后的圓環(huán)型PPTC元器件可能的情況是一面拋光過渡，另外一面確未被拋光，因此將腔體設(shè)置為圓形桶是不適合的。
[0038]在本實施方式中，將腔體設(shè)置為立方體型。此時在拋光過程中延桶壁運動的圓環(huán)型PPTC元器件在方形桶的四個轉(zhuǎn)角位置會發(fā)生翻轉(zhuǎn)，翻轉(zhuǎn)后另外一面產(chǎn)品才能被磁性研磨劑撞擊到，產(chǎn)品拋光效果。[〇〇39] 又由于底下的磁場帶動磁性研磨劑是做圓周運動，其帶動圓環(huán)型PPTC元器件在方形桶角落位置撞擊后翻轉(zhuǎn)進(jìn)入桶中間，之后又會被向心力甩向桶貼壁位置。因此在這個拋光過程中，圓環(huán)型PPTC元器件翻轉(zhuǎn)的概率只能為二分之一，方形同仍然有部分圓環(huán)型PPTC 元器件會出現(xiàn)拋光不均勻的情況。
[0040]在本實施方式中，在腔體的內(nèi)側(cè)壁設(shè)置至少一個楔形棱，每一楔形棱的高度應(yīng)該大于圓環(huán)型PPTC元器件直徑的三分之一，優(yōu)選其在直徑的二分之一到四分之三之間。當(dāng)圓環(huán)型PPTC元器件沿腔體壁到楔形棱的位置時，撞擊到棱角使拋光物體發(fā)生翻轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)動后仍能沿著斜度的桶壁運動，楔形棱的數(shù)量越多，則翻轉(zhuǎn)次數(shù)越多，圓環(huán)型PPTC元器件拋光越均勻，拋光效果越好。[0041 ]區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的拋光處理方法通過設(shè)置一旋轉(zhuǎn)磁場，使磁性研磨劑在旋轉(zhuǎn)磁場的作用下在介質(zhì)中進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，在旋轉(zhuǎn)的同時敲擊待拋光物體，實現(xiàn)對待拋光物體的拋光處理。通過本發(fā)明，能夠?qū)Υ龗伖馕矬w的表面進(jìn)行修飾加工，清洗待拋光物體表面的臟污，剔除表面及邊緣的毛刺，達(dá)到清除臟污的效果，同時增加了待拋光物體表面的凹凸結(jié)構(gòu)，使表面硬度增加，通過設(shè)置楔形棱，利于待拋光元件的翻轉(zhuǎn)，使其表面拋光均勻。[〇〇42]以上所述僅為本發(fā)明的實施方式，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種拋光處理設(shè)備，其特征在于，包括:磁場裝置，用于產(chǎn)生一旋轉(zhuǎn)磁場；容納裝置，設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)磁場的磁場范圍內(nèi)，用于提供一容納空間，承載介質(zhì)和待拋 光元件;其中，所述容納裝置為立方體型腔體，且在所述腔體內(nèi)設(shè)置至少一個楔形棱；拋光裝置，設(shè)置于所述介質(zhì)中，用于使所述拋光裝置對所述介質(zhì)中的所述待拋光元件 進(jìn)行拋光處理。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光處理設(shè)備，其特征在于，所述拋光裝置包括第一拋光劑和 第二拋光劑；其中，所述第一拋光劑為磁性研磨劑，在磁場作用下在所述介質(zhì)中進(jìn)行轉(zhuǎn)動，用于在轉(zhuǎn) 動的同時敲擊所述待拋光元件實現(xiàn)對所述待拋光元件的拋光處理；所述第二拋光劑為化學(xué)拋光劑，溶解于所述介質(zhì)中，用于對所述介質(zhì)中的所述待拋光 元件進(jìn)行化學(xué)拋光處理。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的拋光處理設(shè)備，其特征在于，所述介質(zhì)為水，所述磁性研磨劑 為多個圓柱磁性鋼針;其中，所述圓柱磁性鋼針直徑為〇.3?0.8mm，長度為2?8_。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光處理設(shè)備，其特征在于，所述容納裝置為圓柱型、長方體 型或多邊形立體結(jié)構(gòu)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光處理設(shè)備，其特征在于，所述磁場裝置包括電動單元和磁 性單元；其中，所述電動單元用于在通電后帶動所述磁性單元進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；所述磁性單元用于在 隨所述電動單元進(jìn)行旋轉(zhuǎn)時，產(chǎn)生磁場。6.—種拋光處理方法，其特征在于，包括:產(chǎn)生一旋轉(zhuǎn)磁場；提供一容納空間，承載介質(zhì)和待拋光元件，且將所述容納空間設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)磁場的 磁場范圍內(nèi)；其中，所述容納空間為立方體型腔體，且在所述腔體內(nèi)設(shè)置至少一個楔形棱；使所述介質(zhì)中的拋光劑對所述介質(zhì)中的所述待拋光元件進(jìn)行拋光處理。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的拋光處理方法，其特征在于，拋光劑在所述旋轉(zhuǎn)磁場中旋轉(zhuǎn)的 步驟中，包括步驟:在所述介質(zhì)中設(shè)置第一研磨劑，所述第一研磨劑為磁性研磨劑，所述磁性研磨劑在磁 場作用下在所述介質(zhì)中進(jìn)行轉(zhuǎn)動，轉(zhuǎn)動的同時敲擊所述待拋光元件實現(xiàn)對所述待拋光元件 的拋光處理；在所述介質(zhì)中設(shè)置第二研磨劑，所述第二研磨劑為化學(xué)拋光劑，溶解于所述介質(zhì)中，對 所述介質(zhì)中的所述待拋光元件進(jìn)行化學(xué)拋光處理。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的拋光處理方法，其特征在于，所述介質(zhì)為水，所述磁性研磨劑 為多個圓柱磁性鋼針;其中，所述圓柱磁性鋼針直徑為〇.3?0.8mm，長度為2?8_。9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的拋光處理方法，其特征在于，所述容納空間為圓柱型、長方體 型或多邊形立體結(jié)構(gòu)。10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的拋光處理方法，其特征在于，在設(shè)置一旋轉(zhuǎn)磁場的步驟中，包 括步驟:設(shè)置一電動機，所述電動機通電后帶動一磁鐵進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；所述磁鐵在旋轉(zhuǎn)過程中產(chǎn)生所述旋轉(zhuǎn)磁場。
【文檔編號】B24B31/10GK106002595SQ201610344820
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年5月20日
【發(fā)明人】曾慶煜, 林孟平, 田宗謙
【申請人】深圳市金瑞電子材料有限公司