一種線形蒸發(fā)源及蒸鍍?cè)O(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及蒸鍍?cè)O(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種線形蒸發(fā)源及蒸鍍?cè)O(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，有機(jī)電致發(fā)光顯示器(0LED)作為一種新型的平板顯示逐漸受到更多的關(guān)注。由于其具有主動(dòng)發(fā)光、發(fā)光亮度高、分辨率高、寬視角、響應(yīng)速度快、低能耗以及可柔性化等特點(diǎn)，成為有可能代替液晶顯示的下一代顯示技術(shù)。
[0003]蒸鍍裝置是應(yīng)用于薄膜制備領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)設(shè)備，在有機(jī)電致發(fā)光二極管(0LED)、有機(jī)太陽(yáng)能電池(0PV)、有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管(0FET)等有機(jī)光電領(lǐng)域被廣泛使用。
[0004]有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting D1de，簡(jiǎn)稱0LED)通過蒸鍍有機(jī)材料來制作構(gòu)成0LED顯示器件的載流子傳輸層和有機(jī)發(fā)光層。現(xiàn)今的0LED蒸鍍裝置的蒸發(fā)源分為點(diǎn)形蒸發(fā)源和線形蒸發(fā)源。在蒸發(fā)源中蒸鍍的有機(jī)蒸鍍材料主要分兩種，一種是升華型有機(jī)材料，另一種則是熔融型有機(jī)材料。其中，升華型有機(jī)材料主要是將有機(jī)材料直接加熱，有機(jī)材料升華為氣態(tài)再冷卻于基板上形成有機(jī)膜層；熔融型有機(jī)材料在加熱后則先融為液態(tài)再升溫為氣態(tài)，最后再冷卻于基板上形成有機(jī)膜層。
[0005]目前使用的線性源一般由坩禍和設(shè)于坩禍上方的多個(gè)噴嘴組成，坩禍與噴嘴外周緣設(shè)有加熱絲，通過對(duì)坩禍進(jìn)行加熱，使其中的蒸鍍材料變?yōu)檎魵?，在坩禍?nèi)部均勻后蒸氣從噴嘴噴出至基板上成膜。
[0006]但是，在使用線形蒸發(fā)源的情況下，由于蒸發(fā)源的熱量放射到噴嘴部時(shí)溫度不均勻，會(huì)發(fā)生蒸鍍材料堵塞噴嘴的現(xiàn)象，降低蒸鍍效率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的目的是提供一種線形蒸發(fā)源及蒸鍍?cè)O(shè)備，用以減少噴嘴堵塞現(xiàn)象的發(fā)生，提高蒸鍍效率。
[0008]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供了如下技術(shù)方案:
[0009]本發(fā)明提供了一種線形蒸發(fā)源，包括:一端開口的坩禍，所述坩禍內(nèi)設(shè)有用于容置蒸鍍材料的中空腔室；包圍在所述坩禍外側(cè)、為所述坩禍提供熱量的第一加熱器；蓋合所述坩禍開口端的頂罩，所述頂罩上設(shè)有多個(gè)用于向待鍍基板噴射氣化的蒸鍍材料的噴嘴；還包括:
[0010]為每個(gè)所述噴嘴提供熱量的第二加熱器，所述第二加熱器包括:與所述噴嘴一一對(duì)應(yīng)、且包裹在對(duì)應(yīng)的所述噴嘴的外表面的加熱端。
[0011]本發(fā)明提供的線形蒸發(fā)源，通過在每個(gè)噴嘴的外側(cè)設(shè)置第二加熱器，使得噴嘴各部分的溫度均勻，避免噴嘴處的溫度不同或較低，導(dǎo)致蒸鍍材料在噴嘴處溫度降低冷卻成固體堵塞噴嘴的現(xiàn)象的發(fā)生，進(jìn)而可以提高蒸鍍效率。
[0012]在一些可選的實(shí)施方式中，所述第二加熱器為熱量均勻分布的加熱板，且所述加熱板上設(shè)有與所述噴嘴—對(duì)應(yīng)的第一通孔以形成多個(gè)所述加熱端。加熱板可以為電加熱板，加熱板上設(shè)有與外接電源電連接的導(dǎo)線，當(dāng)然，加熱板也可以有自身發(fā)熱的材料制成。
[0013]在一些可選的實(shí)施方式中，所述加熱板的材料為6061T6鋁。6061T6高強(qiáng)度，高硬度(可達(dá)HV90度以上)良好的加工效果，氧化效果佳，無沙眼氣孔，平整度較好，提高加工效率，降低材料成本。
[0014]在一些可選的實(shí)施方式中，所述頂罩與所述坩禍之間通過密封圈密封連接。密封圈的設(shè)置可以防止坩禍內(nèi)的蒸鍍材料氣化后從坩禍內(nèi)溢出的現(xiàn)象的發(fā)生。
[0015]在一些可選的實(shí)施方式中，所述密封圈的材料包括:鎳、304不銹鋼、316L不銹鋼中的任意一種。
[0016]在一些可選的實(shí)施方式中，所述頂罩內(nèi)設(shè)有第一擴(kuò)散板，所述第一擴(kuò)散板位于所述第二加熱器和所述坩禍之間，所述第一擴(kuò)散板上設(shè)有與所述噴嘴一一對(duì)應(yīng)的第一出氣口，且所述第一出氣口的開度可調(diào)。此第一出氣口的作用是:可將坩禍內(nèi)蒸發(fā)的氣體放射，根據(jù)口的大小和位置，可以使得通過噴嘴的氣體可均勻的放射。另外，因第一出氣口的開度可調(diào)，所以可調(diào)節(jié)坩禍內(nèi)的材料通過第一出氣口的放射量，使得坩禍內(nèi)部能保持一定的壓力。
[0017]在一些可選的實(shí)施方式中，所述坩禍內(nèi)設(shè)有第二擴(kuò)散板，所述第二擴(kuò)散板位于所述第一擴(kuò)散板和所述坩禍內(nèi)的蒸鍍材料之間，所述第二擴(kuò)散板上設(shè)有與所述噴嘴一一對(duì)應(yīng)的第二出氣口，且所述第二出氣口的開度可調(diào)。此第二出氣口的作用是:可將坩禍內(nèi)蒸發(fā)的氣體放射，根據(jù)口的大小和位置，可以使得通過噴嘴的氣體可均勻的放射。另外，因第二出氣口的開度可調(diào)，所以可調(diào)節(jié)坩禍內(nèi)的材料通過第一出氣口的放射量，使得坩禍內(nèi)部能保持一定的壓力。
[0018]在一些可選的實(shí)施方式中，所述第一加熱器包括:沿所述坩禍高度方向分布的主加熱部和輔加熱部。主加熱部和輔加熱部給i甘禍輸出的熱量可以分別控制，輔加熱部可以根據(jù)蒸鍍材料的多少，選擇開啟或不開啟以及開啟后輸出的溫度。
[0019]在一些可選的實(shí)施方式中，每個(gè)所述噴嘴上設(shè)有噴嘴蓋，所述噴嘴蓋上設(shè)有至少一個(gè)噴孔。這樣便于控制噴嘴噴射量，提高基板上鍍膜厚度的均勻性。
[0020]在一些可選的實(shí)施方式中，所述坩禍內(nèi)設(shè)有至少一個(gè)擋板以將所述坩禍的中空腔室分成多個(gè)子腔室。這樣可以提高蒸鍍材料蒸發(fā)的均勻性。
[0021]在一些可選的實(shí)施方式中，所述頂罩上還設(shè)有用于測(cè)量待鍍基板上的蒸鍍膜厚度的測(cè)量噴嘴。測(cè)量噴嘴的設(shè)置便于測(cè)量待蒸鍍基板上的蒸鍍膜的厚度，氣體通過測(cè)量噴嘴放射到測(cè)定厚度的系統(tǒng)(通常稱為Thickness Monitor)上，通過測(cè)定厚度的系統(tǒng)得到蒸鍍膜的厚度，且可以提高測(cè)量用石英元件的壽命。
[0022]在一些可選的實(shí)施方式中，上述線形蒸發(fā)源還包括:用于容納所述坩禍、第一加熱器、頂罩以及第二加熱器的外殼，所述外殼的頂蓋上設(shè)有與所述噴嘴一一對(duì)應(yīng)且允許對(duì)應(yīng)的所述噴嘴穿過的第二通孔，所述外殼的頂蓋還設(shè)有與所述至少一個(gè)測(cè)量噴嘴一一對(duì)應(yīng)且允許對(duì)應(yīng)的所述測(cè)量噴嘴穿過的第三通孔。外殼的設(shè)置可以便于對(duì)坩禍進(jìn)行保溫，且可以防止蒸發(fā)源產(chǎn)生的熱量直接噴射到待鍍基板上。
[0023]在一些可選的實(shí)施方式中，所述外殼的內(nèi)側(cè)面上設(shè)有反射板。反射板的設(shè)置用于將第一加熱器產(chǎn)生的熱量中分散到外殼內(nèi)壁上的熱量反射至坩禍外壁，提高第一加熱器的加熱效率。
[0024]在一些可選的實(shí)施方式中，所述反射板的材料包括:鈦、304不銹鋼、316L不銹鋼、
鉬、鉭中的任意一種。
[0025]在一些可選的實(shí)施方式中，所述外殼的外側(cè)壁設(shè)有冷卻裝置。冷卻裝置的設(shè)置，可以避免熱量從外殼的外壁上流失，防止對(duì)附近的物體造成燙傷，當(dāng)然外殼也可以采用絕熱材料制成，也可以起到防止對(duì)附近的物體造成燙傷的現(xiàn)象的發(fā)生。上述冷卻裝置可以為冷卻線或內(nèi)部設(shè)有冷卻液體的冷卻管。
[0026]本發(fā)明還提供了一種蒸鍍?cè)O(shè)備，包括上述任一項(xiàng)所述的線形蒸發(fā)源。由于上述線形蒸發(fā)源可以減少噴嘴堵塞現(xiàn)象的發(fā)生，可以提高蒸鍍效率。故本發(fā)明提供的蒸鍍?cè)O(shè)備，具有較好的使用性能，且可以提高生產(chǎn)效率。
【附圖說明】
[0027]圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的線形蒸發(fā)源一種結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的線形蒸發(fā)源的另一種結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的線形蒸發(fā)源的第二加熱器的結(jié)構(gòu)實(shí)體圖；
[0030]圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的線形蒸發(fā)源的內(nèi)部部分結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031]圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的線形蒸發(fā)源的第一加熱器的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的線性蒸發(fā)源的坩禍的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。
[0033]附圖標(biāo)記:
[0034]1-坩禍11-子腔室
[0035]12-擋板21-第一加熱器
[0036]211-主加熱部212-輔加熱部
[0037]22-第二加熱器221-第一通孔
[0038]3-頂罩31-噴嘴
[0039]311-噴嘴蓋4-密封圈
[0040]51-第一擴(kuò)散板52-第二擴(kuò)散板
[0041]6-測(cè)量噴嘴7-外殼
[0042]71-頂蓋8-冷卻裝置
【具體實(shí)施方式】
[0043]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明專利保護(hù)的范圍。
[0044]如圖1和圖2所示，其中:圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的線形蒸發(fā)源一種結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的線形蒸發(fā)源的另一種結(jié)構(gòu)示意圖；本發(fā)明提供的線形蒸發(fā)源，包括:一端開口的坩禍1，坩禍1內(nèi)設(shè)有用于容置蒸鍍材料的中空腔室；包圍在坩禍1外偵叭為坩禍1提供熱量的第一加熱器21 ;蓋合坩禍1開口端的頂罩3，頂罩3上設(shè)有多個(gè)用于向待鍍基板噴射氣化的蒸鍍材料的噴嘴31 ;還包括:
[0045]為每個(gè)噴嘴31提供相同的熱量的第二加熱器22，第二加熱器22包括:與噴嘴31——對(duì)應(yīng)，且包裹在對(duì)應(yīng)的噴嘴31的外表面的加熱端。
[004