一種蒸鍍?cè)醇罢翦冄b置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種蒸鍍?cè)醇罢翦冄b置，涉及真空蒸發(fā)鍍膜領(lǐng)域。能夠節(jié)省在蒸鍍過(guò)程中更換噴嘴的時(shí)間，提高蒸鍍效率。該蒸鍍?cè)窗ㄓ糜谌菁{蒸鍍材料的坩堝，坩堝的上表面設(shè)置有坩堝開口，坩堝開口的上方安裝有噴嘴支架，噴嘴支架與坩堝的上表面接觸。噴嘴支架上設(shè)置有N個(gè)噴口，噴嘴支架用于相對(duì)于坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)或移動(dòng)，以使得坩堝開口與N個(gè)噴口中的一個(gè)重疊，N≥1，N為正整數(shù)。
【專利說(shuō)明】
一種蒸鍍?cè)醇罢翦冄b置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及真空蒸發(fā)鍍膜領(lǐng)域，尤其涉及一種蒸鍍?cè)醇罢翦冄b置。
【背景技術(shù)】
[0002]真空蒸鍍是指在真空環(huán)境中，將待成膜物質(zhì)加熱蒸發(fā)或升華后，使其在低溫工件或基片表面凝結(jié)或沉積，形成鍍層的工藝。在有機(jī)顯示領(lǐng)域，有機(jī)顯示器件的鍍膜工藝好壞是影響有機(jī)顯示器件功能優(yōu)劣的關(guān)鍵因素。
[0003]由于在蒸鍍過(guò)程中，為了適應(yīng)不同蒸鍍基片以及不同的蒸鍍要求，經(jīng)常需要在蒸鍍過(guò)程中更換蒸鍍?cè)闯隹谔幍牟煌螤钜?guī)格的噴嘴，在現(xiàn)有技術(shù)中，當(dāng)需要更換噴嘴時(shí)，必須停機(jī)并打開真空腔室，手動(dòng)拆卸更換噴嘴后，再重新抽真空并開機(jī)蒸鍍，頻繁的更換噴嘴會(huì)延長(zhǎng)蒸鍍裝置的蒸鍍時(shí)間，降低蒸鍍效率。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種蒸鍍?cè)醇罢翦冄b置，能夠節(jié)省在蒸鍍過(guò)程中更換噴嘴的時(shí)間，提高蒸鍍效率。
[0005]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
[0006]本實(shí)用新型實(shí)施例的一方面，提供一種蒸鍍?cè)?，包括用于容納蒸鍍材料的坩禍，坩禍的上表面設(shè)置有坩禍開口，坩禍開口的上方安裝有噴嘴支架，噴嘴支架與坩禍的上表面接觸。噴嘴支架上設(shè)置有N個(gè)噴口，噴嘴支架用于相對(duì)于坩禍轉(zhuǎn)動(dòng)或移動(dòng)，以使得坩禍開口與N個(gè)噴口中的一個(gè)重疊，N彡I，N為正整數(shù)。
[0007]優(yōu)選的，坩禍上設(shè)置有導(dǎo)向槽，噴嘴支架上設(shè)置有與導(dǎo)向槽相配合的導(dǎo)向塊;或，坩禍上設(shè)置有導(dǎo)向塊，噴嘴支架上設(shè)置有與導(dǎo)向塊相配合的導(dǎo)向槽。
[0008]優(yōu)選的，坩禍上設(shè)置有支撐軸，噴嘴支架上設(shè)置有與支撐軸相配合的安裝孔;或，坩禍上設(shè)置有安裝孔，噴嘴支架上設(shè)置有與安裝孔相配合的支撐軸。
[0009]優(yōu)選的，坩禍上設(shè)置有支撐軸，噴嘴支架上設(shè)置有與支撐軸相配合的安裝孔時(shí)，支撐軸上還安裝有軸承，軸承的外圈固定在安裝孔內(nèi)。
[0010]進(jìn)一步的，還包括固定在坩禍上的遮擋板，遮擋板包括上擋板，用于遮擋未與坩禍開口重疊的噴口的上表面。
[0011]更進(jìn)一步的，遮擋板還包括下?lián)醢?，用于遮擋未與坩禍開口重疊的噴口的下表面。
[0012]優(yōu)選的，在噴口內(nèi)設(shè)置噴嘴。
[0013]本實(shí)用新型實(shí)施例的另一方面，提供一種蒸鍍裝置，包括上述蒸鍍?cè)础?br>[0014]優(yōu)選的，當(dāng)所述噴嘴支架能夠相對(duì)于所述坩禍移動(dòng)時(shí)，所述蒸鍍裝置還包括直線電機(jī)，所述直線電機(jī)的次級(jí)連接所述導(dǎo)向塊。
[0015]優(yōu)選的，當(dāng)坩禍上設(shè)置有支撐軸時(shí)，蒸鍍裝置還包括旋轉(zhuǎn)電機(jī)，旋轉(zhuǎn)電機(jī)的輸出軸與支撐軸連接。
[0016]進(jìn)一步的，還包括設(shè)置于坩禍開口上方的探測(cè)器，用于檢測(cè)蒸鍍?cè)凑翦兂龅恼翦儾牧系乃俾省?br>[0017]本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種蒸鍍?cè)醇罢翦冄b置，包括用于容納蒸鍍材料的坩禍，坩禍的上表面設(shè)置有坩禍開口，坩禍開口的上方安裝有噴嘴支架，噴嘴支架與坩禍的上表面接觸。噴嘴支架上設(shè)置有N個(gè)噴口，噴嘴支架用于相對(duì)于坩禍轉(zhuǎn)動(dòng)或移動(dòng)，以使得坩禍開口與N個(gè)噴口中的一個(gè)重疊，N多I，N為正整數(shù)。通過(guò)在坩禍開口上設(shè)置與坩禍上表面接觸的包括至少一個(gè)噴口的噴嘴支架，噴嘴支架能夠相對(duì)于坩禍轉(zhuǎn)動(dòng)或移動(dòng)，以通過(guò)改變噴口與坩禍開口之間的重疊面積來(lái)調(diào)節(jié)蒸鍍?cè)吹恼翦兯俾剩蛲ㄟ^(guò)更換噴口使得能夠針對(duì)不同的蒸鍍要求使用不同的噴口。
【附圖說(shuō)明】
[0018]為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0019]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種蒸鍍?cè)吹慕Y(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種蒸鍍?cè)吹牧硪环N實(shí)施情形；
[0021]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種蒸鍍?cè)吹慕Y(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種蒸鍍?cè)吹牧硪环N實(shí)施情形；
[0023]圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種蒸鍍?cè)淳哂袑?dǎo)向槽和導(dǎo)向塊的情形；
[0024]圖6為圖5中坩禍的俯視圖；
[0025]圖7為圖5中噴嘴支架的仰視圖；
[0026]圖8為圖5中嗔嘴支架的仰視圖的另一種情形；
[0027]圖9為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種蒸鍍?cè)淳哂兄屋S和安裝孔的情形中，坩禍的俯視圖；
[0028]圖10為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種蒸鍍?cè)淳哂兄屋S和安裝孔的情形中，噴嘴支架的仰視圖；
[0029]圖11為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種蒸鍍?cè)吹闹屋S上安裝有軸承的情形；
[0030]圖12為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種蒸鍍?cè)吹膰娮熘Ъ苌显O(shè)置有上擋板的情形；
[0031]圖13為圖12的俯視圖；
[0032]圖14為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種蒸鍍?cè)吹膰娮熘Ъ苌线€設(shè)置有下?lián)醢宓那樾危?br>[0033]圖15為圖14的俯視圖(上擋板和下?lián)醢逶趫D中未示出)；
[0034]圖16為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種蒸鍍裝置設(shè)置有直線電機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0035]圖17為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種蒸鍍裝置設(shè)置有旋轉(zhuǎn)電機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0036]圖18為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種蒸鍍裝置還設(shè)置有探測(cè)器的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖19為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種蒸鍍裝置的探測(cè)器中處理器設(shè)置在真空腔室外的情形的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0038]附圖標(biāo)記:
[0039]1-坩禍;2-噴嘴支架;3-導(dǎo)向槽;4-導(dǎo)向塊;5-支撐軸；6_軸承；7_遮擋板;71-上擋板;7 2-下?lián)醢?8-噴嘴;9-直線電機(jī);91_次級(jí);92-初級(jí)；I O-旋轉(zhuǎn)電機(jī)；11-探測(cè)器；111_探頭；112-處理器;a-坩禍開口 ； b-噴口 ； C-安裝孔。
【具體實(shí)施方式】
[0040]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0041]本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種蒸鍍?cè)矗鐖D1所示，包括用于容納蒸鍍材料的坩禍I，坩禍I的上表面設(shè)置有坩禍開口 a，坩禍開口 a的上方安裝有噴嘴支架2，噴嘴支架2與坩禍I的上表面接觸。噴嘴支架2上設(shè)置有N個(gè)噴口 b，噴嘴支架2用于相對(duì)于坩禍I轉(zhuǎn)動(dòng)或移動(dòng)，以使得坩禍開口a與N個(gè)噴口b中的一個(gè)重疊，N彡I，N為正整數(shù)。
[0042]如圖1所示，為噴嘴支架2上設(shè)置有I個(gè)噴口b的情況，通過(guò)噴嘴支架2相對(duì)于坩禍I的移動(dòng)或轉(zhuǎn)動(dòng)，噴嘴支架2上的噴口b與坩禍開口a之間的重疊面積不同，如圖1所示為完全重疊，如圖2所示為部分重疊，以此來(lái)根據(jù)蒸鍍需要，調(diào)節(jié)同一坩禍I在蒸鍍時(shí)的蒸鍍速率。
[0043]如圖3所示，為噴嘴支架2上設(shè)置有N個(gè)噴口b(N= 2)的情況，噴嘴支架2上的第一個(gè)噴口 b與坩禍開口 a完全重疊；如圖4所示，通過(guò)噴嘴支架2相對(duì)于坩禍I的移動(dòng)或轉(zhuǎn)動(dòng)，噴嘴支架2上的第二個(gè)噴口 b與坩禍開口 a完全重疊，更換與坩禍開口 a重疊的噴口 b。
[0044]需要說(shuō)明的是，噴嘴支架2安裝于坩禍開口a的上方，且噴嘴支架2與坩禍I的上表面接觸，即噴嘴支架2與坩禍I的上表面貼合無(wú)縫隙，避免坩禍I內(nèi)的蒸鍍材料由噴嘴支架2與坩禍I之間漏出。
[0045]此外，噴嘴支架2相對(duì)于坩禍I轉(zhuǎn)動(dòng)或移動(dòng)，以使得坩禍開口a與N個(gè)噴口 b中的一個(gè)重疊，指的是，噴嘴支架2能夠相對(duì)于坩禍I以直線運(yùn)動(dòng)、轉(zhuǎn)動(dòng)等方式發(fā)生位置的移動(dòng)，以使得噴嘴支架2上設(shè)置的N個(gè)噴口 b中的任意一個(gè)，能夠與坩禍開口 a完全重疊或部分重疊，使得i甘禍I內(nèi)的蒸鍍材料由i甘禍開口 a與噴口 b的重疊部分噴出。
[0046]通過(guò)在坩禍開口a上設(shè)置與坩禍I上表面接觸的包括至少一個(gè)噴口 b的噴嘴支架2，噴嘴支架2能夠相對(duì)于坩禍I轉(zhuǎn)動(dòng)或移動(dòng)，以通過(guò)改變噴口 b與坩禍開口 a之間的重疊面積來(lái)調(diào)節(jié)蒸鍍?cè)吹恼翦兯俾?，或通過(guò)更換噴口 b使得能夠針對(duì)不同的蒸鍍要求使用不同的噴口b0
[0047]由于當(dāng)噴嘴支架2上僅有一個(gè)噴口b時(shí)，僅能夠改變噴口 b與坩禍開口 a之間的重疊面積，而當(dāng)噴嘴支架2上由至少兩個(gè)噴口 b時(shí)，不僅能夠改變噴口 b與坩禍開口 a之間的重疊面積，還可以更換與坩禍開口a重疊或部分重疊的噴口b，因此，以下均以噴嘴支架2上設(shè)置有兩個(gè)噴口 b為例進(jìn)行說(shuō)明。
[0048]具體的，如圖6所示，在坩禍I上設(shè)置有導(dǎo)向槽3，如圖7所示，在噴嘴支架2上設(shè)置有與導(dǎo)向槽3相配合的導(dǎo)向塊4，如圖5所示，導(dǎo)向塊4在導(dǎo)向槽3內(nèi)滑動(dòng)。在此情況下，如圖7所示，噴嘴支架2為矩形條狀。
[0049]這樣一來(lái)，當(dāng)由于噴口b堵塞需要更換時(shí)，通過(guò)推動(dòng)噴嘴支架2上的導(dǎo)向塊4在坩禍I上的導(dǎo)向槽3內(nèi)移動(dòng)，使得噴嘴支架2相對(duì)于坩禍I直線移動(dòng)，噴嘴支架2上的后一個(gè)噴口b可以替換前一個(gè)噴口 b與坩禍開口 a重疊繼續(xù)進(jìn)行蒸鍍。
[0050]如圖8所示，當(dāng)噴嘴支架2上設(shè)置的噴口b的開口大小不相同時(shí)，還可以根據(jù)蒸鍍需要，通過(guò)推動(dòng)噴嘴支架2上的導(dǎo)向塊4在坩禍I上的導(dǎo)向槽3內(nèi)移動(dòng)，更換噴口 b，或通過(guò)移動(dòng)改變坩禍開口 a與噴口 b之間的重疊面積，來(lái)改變蒸鍍速率。
[0051]或者可以在坩禍I上設(shè)置導(dǎo)向塊4，在噴嘴支架2上設(shè)置與導(dǎo)向塊4相配合的導(dǎo)向槽
3。這種安裝方式與上述在坩禍I上設(shè)置導(dǎo)向槽3，在噴嘴支架2上設(shè)置與導(dǎo)向槽3相配合的導(dǎo)向塊4的方式相比，不同之處僅在于，使得導(dǎo)向塊4固定不動(dòng)，通過(guò)推動(dòng)設(shè)置有導(dǎo)向槽3的噴嘴支架2，使得噴嘴支架2相對(duì)于坩禍I直線移動(dòng)，其原理和作用與上述方式相同，此處不再贅述。
[0052]具體的，如圖9所示，在坩禍I上設(shè)置有支撐軸5，如圖10所示(以下圖中，以噴嘴支架2上設(shè)置有3個(gè)噴口 b為例)，噴嘴支架2上設(shè)置有與支撐軸5相配合的安裝孔c，如圖11所示，支撐軸5的上端安裝于安裝孔c內(nèi)，并可以與安裝孔c相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)。在此情況下，如圖10所示，噴嘴支架2為圓盤狀，安裝孔c設(shè)置在噴嘴支架2的圓心位置處。
[0053]這樣一來(lái)，當(dāng)由于噴口b堵塞需要更換時(shí)，通過(guò)推動(dòng)噴嘴支架2，使得固定在坩禍I上的支撐軸5與噴嘴支架2上的安裝孔c之間相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)，使得噴嘴支架2相對(duì)于坩禍I轉(zhuǎn)動(dòng)，設(shè)置在噴嘴支架2的圓周上的后一個(gè)噴口 b可以替換前一個(gè)噴口 b與坩禍開口 a重疊繼續(xù)進(jìn)行蒸鍍。
[0054]同樣的，如圖10所示，當(dāng)噴嘴支架2上設(shè)置的噴口b的開口大小不相同時(shí)，還可以根據(jù)蒸鍍需要，通過(guò)推動(dòng)噴嘴支架2使得安裝孔c以支撐軸5為中心轉(zhuǎn)動(dòng)，更換噴口 b，或通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)改變坩禍開口 a與噴口 b之間的重疊面積，來(lái)改變蒸鍍速率。
[0055]或者可以在坩禍I上設(shè)置安裝孔C，在噴嘴支架2上設(shè)置與安裝孔c相配合的支撐軸
5。這種安裝方式與上述在坩禍I上設(shè)置支撐軸5，在噴嘴支架2上設(shè)置與支撐軸5相配合的安裝孔c的方式相比，不同之處僅在于，通過(guò)推動(dòng)噴嘴支架2，使得支撐軸5以安裝孔c為中心轉(zhuǎn)動(dòng)，使得噴嘴支架2相對(duì)于坩禍I轉(zhuǎn)動(dòng)，其原理和作用與上述方式相同，此處不再贅述。
[0056]進(jìn)一步的，如圖11所示，當(dāng)在坩禍I上設(shè)置有支撐軸5，在噴嘴支架2上設(shè)置有與支撐軸5相配合的安裝孔c時(shí)，支撐軸5上還安裝有軸承6，軸承6的外圈固定在安裝孔c內(nèi)。
[0057]支撐軸5與安裝孔c之間通過(guò)軸承6相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)，這樣一來(lái)一方面可以減小支撐軸5與安裝孔c之間在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)的摩擦力，另一方面，也能夠保證轉(zhuǎn)動(dòng)的精度。
[0058]進(jìn)一步的，如圖12和圖13所示(圖13為圖12的俯視圖)，還包括固定在坩禍I上的遮擋板7，遮擋板7包括上擋板71，用于遮擋未與坩禍開口 a重疊的噴口 b的上表面。以下圖中均以噴嘴支架2為圓盤狀，噴嘴支架上設(shè)置有3個(gè)噴口 b為例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0059]上擋板71固定安裝在坩禍I上，并且覆蓋未與坩禍開口a重疊的噴口 b的上表面，使得由坩禍I內(nèi)蒸鍍出的蒸鍍材料避免沉積在其他未使用的噴口 b的上表面，保證了其他未使用的噴口 b的上表面在使用前沒(méi)有蒸鍍材料沉積而影響使用。
[0060]更進(jìn)一步的，如圖14所示，遮擋板7還包括下?lián)醢?2，用于遮擋未與坩禍開口a重疊的噴口 b的下表面。
[0061]下?lián)醢?2固定安裝在坩禍I上，并且覆蓋未與坩禍開口a重疊的噴口 b的下表面，使得由坩禍I內(nèi)蒸鍍出的蒸鍍材料避免沉積在其他未使用的噴口 b的下表面，保證了其他未使用的噴口 b的下表面在使用前沒(méi)有蒸鍍材料沉積而影響使用。優(yōu)選的，上擋板71和下?lián)醢?2為一體結(jié)構(gòu)的遮擋板7，這樣可以便與遮擋板7在坩禍I上的固定以及上擋板71和下?lián)醢?2與未使用的噴口 b的上表面和下表面的對(duì)位。
[0062]為了便于噴嘴支架2以及噴嘴支架2上的噴口b的加工，進(jìn)一步的，如圖14和圖15所示，在噴嘴支架2的噴口 b內(nèi)設(shè)置噴嘴8。
[0063]這樣一來(lái)，在加工噴嘴支架2時(shí)可以將多個(gè)噴口b加工為相同的尺寸規(guī)格，當(dāng)需要向不同方向蒸鍍，或以不同開口大小蒸鍍時(shí)，僅需在噴口 b內(nèi)安裝不同的噴嘴8即可。此外，對(duì)于噴嘴8在蒸鍍過(guò)程中堵塞的情況，還可以不用清洗噴口 b，直接更換噴嘴8。
[0064]本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種蒸鍍裝置，包括上述蒸鍍?cè)础?br>[0065]手動(dòng)更換噴嘴8時(shí)，需要打開真空腔室，噴嘴8更換完成，再重新抽真空后才可以重新蒸鍍，浪費(fèi)工作時(shí)間，同時(shí)多次對(duì)真空腔室內(nèi)抽取真空，也導(dǎo)致資源浪費(fèi)。
[0066]因此，如圖16所示，當(dāng)噴嘴支架2能夠相對(duì)于坩禍I移動(dòng)時(shí)，蒸鍍裝置還包括直線電機(jī)9，直線電機(jī)9的初級(jí)92安裝于導(dǎo)向槽3內(nèi)，直線電機(jī)9的次級(jí)91連接導(dǎo)向塊4。
[0067]這樣一來(lái)，當(dāng)需要更換噴嘴8時(shí)，通過(guò)直線電機(jī)9的次級(jí)91帶動(dòng)導(dǎo)向塊4在導(dǎo)向槽3內(nèi)的直線電機(jī)9的初級(jí)92上直線移動(dòng)，使得噴嘴支架2相對(duì)于坩禍I移動(dòng)，即可更換噴嘴8，而不需要打開真空腔室，有效的節(jié)省了蒸鍍時(shí)更換噴嘴8的時(shí)間。優(yōu)選的，可將直線電機(jī)9的初級(jí)91直接加工與導(dǎo)向槽3內(nèi)，直線電機(jī)9的次級(jí)92與導(dǎo)向塊4連為一體或用直線電機(jī)9的次級(jí)92代替導(dǎo)向塊4，通過(guò)直線電機(jī)9帶動(dòng)噴嘴支架2相對(duì)于坩禍I移動(dòng)以更換噴嘴8，節(jié)省蒸鍍裝置的零件數(shù)量并保證零件之間的連接穩(wěn)定性。
[0068]此外，如圖17所示，當(dāng)坩禍I上設(shè)置有支撐軸5時(shí)，蒸鍍裝置還包括旋轉(zhuǎn)電機(jī)10，旋轉(zhuǎn)電機(jī)1的輸出軸與支撐軸5連接。
[0069]這樣一來(lái)，當(dāng)需要更換噴嘴8時(shí)，通過(guò)旋轉(zhuǎn)電機(jī)10的輸出軸帶動(dòng)支撐軸5旋轉(zhuǎn)，使得噴嘴支架2相對(duì)于坩禍I轉(zhuǎn)動(dòng)，即可更換噴嘴8，而不需要打開真空腔室，有效的節(jié)省了蒸鍍時(shí)更換噴嘴8的時(shí)間。優(yōu)選的，可將旋轉(zhuǎn)電機(jī)1的輸出軸與支撐軸5連為一體或用旋轉(zhuǎn)電機(jī)10的輸出軸代替支撐軸5，通過(guò)旋轉(zhuǎn)電機(jī)10帶動(dòng)噴嘴支架2相對(duì)于坩禍I轉(zhuǎn)動(dòng)以更換噴嘴8，節(jié)省蒸鍍裝置的零件數(shù)量并保證零件之間的連接穩(wěn)定性。
[0070]進(jìn)一步的，如圖18所示，本實(shí)用新型的蒸鍍裝置還包括設(shè)置于坩禍開口a上方的探測(cè)器11，探測(cè)器11通過(guò)數(shù)據(jù)線與直線電機(jī)9或旋轉(zhuǎn)電機(jī)10連接，用于檢測(cè)蒸鍍?cè)凑翦兂龅恼翦儾牧系乃俾省?br>[0071]探測(cè)器11包括探頭111和處理器112(在圖18中，探頭111和處理器112集成為一體結(jié)構(gòu)的探測(cè)器11)，探測(cè)器11設(shè)置于坩禍開口 a上方，用于檢測(cè)由噴嘴8噴出的蒸鍍材料的速率，當(dāng)測(cè)得的速率明顯減小時(shí)，說(shuō)明在使用中的噴頭8發(fā)生了堵塞，影響蒸鍍材料的噴出，則處理器通過(guò)數(shù)據(jù)線控制直線電機(jī)9或旋轉(zhuǎn)電機(jī)10啟動(dòng)，更換噴嘴8。
[0072]或者當(dāng)在同一次蒸鍍作業(yè)中，需要定時(shí)更換噴嘴8的噴射速率或噴射方向時(shí)，可以先將符合噴射速率和噴射方向要求的噴嘴8安裝在噴嘴支架2上，探測(cè)器11的處理器112在到達(dá)更換時(shí)間時(shí)，通過(guò)數(shù)據(jù)線發(fā)送信號(hào)至控制直線電機(jī)9或旋轉(zhuǎn)電機(jī)10，通過(guò)直線電機(jī)9或旋轉(zhuǎn)電機(jī)10更換噴嘴8或改變噴嘴8與坩禍開口a之間的重疊面積，以改變噴射出口的大小。
[0073]優(yōu)選的，本實(shí)用新型的蒸鍍裝置中，所使用的探測(cè)器11的探頭111為石英晶振片，處理器112為單片機(jī)。使用石英晶振片探測(cè)噴嘴8處的蒸鍍速率，并將探測(cè)結(jié)果傳輸至單片機(jī)，通過(guò)單片機(jī)控制電機(jī)的工作，這樣一來(lái)一方面，石英晶振片和單片機(jī)的體積較小，在坩禍開口a上方位置處占用的空間較少，可以忽略其對(duì)噴嘴8中蒸鍍出的蒸鍍材的阻擋，另一方面，石英晶振片的探測(cè)穩(wěn)定性好，精度高，單片機(jī)的處理速度快，工作穩(wěn)定。
[0074]進(jìn)一步的，如圖19所示，還可以將探測(cè)器11的探頭111與處理器112分開設(shè)置并通過(guò)數(shù)據(jù)線相連接，其中，探頭111設(shè)置于坩禍開口 a上方，處理器112設(shè)置于真空腔室外部，這樣一來(lái)可以進(jìn)一步減小探頭111在坩禍開口a上方位置處占用的空間，并且，當(dāng)為需要定時(shí)更換噴嘴8的情況時(shí)，可以不設(shè)置探頭111，僅通過(guò)真空腔室外部的處理器112定時(shí)通過(guò)數(shù)據(jù)線發(fā)送信號(hào)至控制直線電機(jī)9或旋轉(zhuǎn)電機(jī)10，更換噴嘴8或改變噴嘴8與坩禍開口 a之間的重疊面積。
[0075]此外，當(dāng)蒸鍍過(guò)程中需要使用角度板調(diào)節(jié)蒸鍍范圍時(shí)，可以將角度板固定安裝在坩禍I上表面或遮擋板7的上擋板71上。同樣的，對(duì)于蒸鍍過(guò)程中需要配合使用的其他部件，均可安裝在本實(shí)用新型蒸鍍?cè)椿蛘翦冄b置的相應(yīng)位置，不影響本實(shí)用新型的蒸鍍工作。
[0076]當(dāng)需要使用線型蒸鍍?cè)椿蛎嫘驼翦冊(cè)催M(jìn)行蒸鍍作業(yè)時(shí)，也可以通過(guò)將本實(shí)用新型的點(diǎn)蒸鍍?cè)匆跃€型或面型組合為線型蒸鍍?cè)椿蛎嫘驼翦冊(cè)础?br>[0077]以上所述，僅為本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種蒸鍍?cè)?，其特征在于，包括用于容納蒸鍍材料的坩禍，所述坩禍的上表面設(shè)置有坩禍開口，所述坩禍開口的上方安裝有噴嘴支架，所述噴嘴支架與所述坩禍的上表面接觸； 所述噴嘴支架上設(shè)置有N個(gè)噴口，所述噴嘴支架用于相對(duì)于坩禍轉(zhuǎn)動(dòng)或移動(dòng)，以使得所述坩禍開口與所述N個(gè)噴口中的一個(gè)重疊，N彡I，N為正整數(shù)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)?，其特征在于，所述坩禍上設(shè)置有導(dǎo)向槽，所述噴嘴支架上設(shè)置有與所述導(dǎo)向槽相配合的導(dǎo)向塊;或，所述坩禍上設(shè)置有導(dǎo)向塊，所述噴嘴支架上設(shè)置有與所述導(dǎo)向塊相配合的導(dǎo)向槽。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)矗涮卣髟谟?，所述坩禍上設(shè)置有支撐軸，所述噴嘴支架上設(shè)置有與所述支撐軸相配合的安裝孔;或，所述坩禍上設(shè)置有安裝孔，所述噴嘴支架上設(shè)置有與所述安裝孔相配合的支撐軸。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍?cè)矗涮卣髟谟?，?dāng)所述坩禍上設(shè)置有支撐軸，所述噴嘴支架上設(shè)置有與所述支撐軸相配合的安裝孔時(shí)，所述支撐軸上還安裝有軸承，所述軸承的外圈固定在安裝孔內(nèi)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)矗涮卣髟谟?，還包括固定在所述坩禍上的遮擋板，所述遮擋板包括上擋板，用于遮擋未與所述坩禍開口重疊的噴口的上表面。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸鍍?cè)矗涮卣髟谟?，所述遮擋板還包括下?lián)醢?，用于遮擋未與所述坩禍開口重疊的噴口的下表面。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍?cè)矗涮卣髟谟?，所述噴口?nèi)設(shè)置噴嘴。8.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1?7任一項(xiàng)所述的蒸鍍?cè)础?.根據(jù)權(quán)利要求8所述的蒸鍍裝置，其特征在于，當(dāng)所述坩禍上設(shè)置有導(dǎo)向槽，所述噴嘴支架上設(shè)置有與所述導(dǎo)向槽相配合的導(dǎo)向塊;或，所述坩禍上設(shè)置有導(dǎo)向塊，所述噴嘴支架上設(shè)置有與所述導(dǎo)向塊相配合的導(dǎo)向槽時(shí)，所述蒸鍍裝置還包括直線電機(jī)，所述直線電機(jī)的次級(jí)連接所述導(dǎo)向塊。10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的蒸鍍裝置，其特征在于，當(dāng)所述坩禍上設(shè)置有支撐軸時(shí)，所述蒸鍍裝置還包括旋轉(zhuǎn)電機(jī)，所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)的輸出軸與所述支撐軸連接。11.根據(jù)權(quán)利要求8?10任一項(xiàng)所述的蒸鍍裝置，其特征在于，還包括設(shè)置于坩禍開口上方的探測(cè)器，用于檢測(cè)所述蒸鍍?cè)凑翦兂龅恼翦儾牧系乃俾省?br>【文檔編號(hào)】C23C14/24GK205662589SQ201620444993
【公開日】2016年10月26日
【申請(qǐng)日】2016年5月16日
【發(fā)明人】張朝波, 劉亮亮, 唐亮, 田宏偉, 康峰, 白妮妮, 韓帥, 綽洛鵬, 賈敏慧, 閔天圭
【申請(qǐng)人】鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司