Oled蒸鍍用的屏蔽層及其制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種OLED蒸鍍用的屏蔽層及其制作方法，OLED蒸鍍用的屏蔽層包括框架與安裝于所述框架上的掩膜，所述掩膜具有開孔，所述框架的材料為聚合物或玻璃纖維，所述掩膜的材料為聚合物或聚合物與金屬的結(jié)合。OLED蒸鍍用的屏蔽層的制作方法包括以下步驟：分別將框架與掩膜制作完成，所述框架的材料為聚合物或玻璃纖維，所述掩膜的材料為聚合物或金屬與聚合物的結(jié)合；將所述掩膜安裝于所述框架上；用激光的方式在掩膜上方開孔，形成OLED蒸鍍用的屏蔽層。本發(fā)明避免了黃光刻蝕高精密掩膜良率過低的問題，并利用材質(zhì)相類似的非金屬材料來取代原有的金屬材料，使成本大幅降低。
【專利說明】
OLED蒸鍍用的屏蔽層及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種屏蔽層及其制作方法，特別是涉及一種OLED蒸鍍用的屏蔽層及其制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light-emitting D1de, 0LED)是一種薄膜多層器件，由碳分子或聚合物組成，它們的構(gòu)成是:(I)金屬箔、薄膜或平板(剛性或彈性)平臺；(2)電極層；(3)活性物質(zhì)層；(4)反電極層；(5)保護(hù)層，其中，至少一個電極必須是透明的。
[0003]在OLED中，為了顯示全色，可分別將紅色(R)、綠色(G)和藍(lán)色(B)發(fā)光層圖案化。為了將發(fā)光層圖案化，例如，可在小分子OLED的情況下利用陰影掩模(shadow mask)，可在聚合物OLED的情況下使用噴墨打印法或激光誘導(dǎo)熱成像(LITI)法。通過LITI法可將有機(jī)層精細(xì)地圖案化。對于大面積可使用LITI法，并且LITI法的優(yōu)勢在于高分辮率。噴墨打印法是濕法蝕刻工藝，而LITI法是干法工藝?，F(xiàn)有OLED用的FMM(Fine Metal ShadowMask，精細(xì)金屬掩膜)主要以黃光刻蝕為主要制程，并通過張網(wǎng)點(diǎn)焊的方式將掩膜(Mask)固定在框架(Frame)上，作為OLED蒸鍍用的屏蔽層，該方式會遇到用黃光刻蝕高精密Mask良率過低的問題。另外有其他技術(shù)利用聚合物(Polymer)加金屬混合的方式制作Mask并用激光開孔，來制作高精密Mask，然而該方式因為非金屬M(fèi)ask與金屬框架之間材質(zhì)的差異造成有制程與使用上的熱膨脹系數(shù)差異風(fēng)險。另外，上述兩種方式的制程復(fù)雜，制程良率低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種OLED蒸鍍用的屏蔽層及其制作方法，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中因非金屬掩膜與金屬框架之間材質(zhì)的差異存在熱膨脹系數(shù)差異風(fēng)險而致黃光刻蝕高精密掩膜良率過低等問題。
[0005]本發(fā)明是通過下述技術(shù)方案來解決上述技術(shù)問題的:一種OLED蒸鍍用的屏蔽層，其特征在于，包括:框架與安裝于所述框架上的掩膜，所述掩膜具有開孔，所述框架的材料為聚合物或玻璃纖維，所述掩膜的材料為聚合物或聚合物與金屬的結(jié)合。
[0006]優(yōu)選地，所述掩膜是利用黏著劑貼合于所述框架上。
[0007]優(yōu)選地，所述框架的形狀為矩形。
[0008]優(yōu)選地，所述掩膜的尺寸小于所述框架的尺寸。
[0009]本發(fā)明還提供一種OLED蒸鍍用的屏蔽層的制作方法，包括步驟:分別將框架與掩膜制作完成，所述框架的材料為聚合物或玻璃纖維，所述掩膜的材料為聚合物或金屬與聚合物的結(jié)合；將所述掩膜安裝于所述框架上；在所述掩膜上形成開孔，形成OLED蒸鍍用的屏蔽層。
[0010]優(yōu)選地，將所述掩膜安裝于所述框架上包括利用粘著劑將所述掩膜貼合于所述框架上。
[0011]優(yōu)選地，在所述掩膜上形成開孔是采用激光開孔的方式。
[0012]本發(fā)明的積極進(jìn)步效果在于:本發(fā)明避免了黃光刻蝕高精密Mask良率過低的問題，并利用材質(zhì)相類似的非金屬材料來取代原有的金屬材料，使成本大幅降低。
【附圖說明】
[0013]圖1為本發(fā)明OLED蒸鍍用的屏蔽層的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖給出本發(fā)明較佳實(shí)施例，以詳細(xì)說明本發(fā)明的技術(shù)方案。
[0015]如圖1所示，本發(fā)明OLED蒸鍍用的屏蔽層包括框架(Frame) I與安裝于所述框架I上的掩膜(Mask) 2，掩膜具有開孔。
[0016]在本實(shí)施例中，框架I的形狀為矩形，其材料為聚合物(Polymer)或玻璃纖維，掩膜2的材料為聚合物(Polymer)或聚合物(Polymer)與金屬的結(jié)合。掩膜2是利用黏著劑貼合于所述框架I上。掩膜的尺寸小于框架的尺寸，這樣制作方便。
[0017]本發(fā)明OLED蒸鍍用的屏蔽層的制作方法包括以下步驟:分別將框架與掩膜制作完成，所述框架的材料為聚合物或玻璃纖維，所述掩膜的材料為聚合物或金屬與聚合物的結(jié)合；將所述掩膜安裝于所述框架上；用激光的方式在掩膜上方開孔，形成OLED蒸鍍用的屏蔽層。其中，將所述掩膜安裝于所述框架上包括利用粘著劑將所述掩膜貼合于所述框架上。
[0018]本發(fā)明主要利用非金屬系的材料來制作掩膜(Mask)與框架(Frame)，并利用黏著劑將兩個性質(zhì)接近的非金屬材料(主要是非金屬材料)張網(wǎng)貼合，最后用激光的方式在掩膜(Mask)上方開洞制作高精密OLED蒸鍍用的屏蔽層。本發(fā)明避免了現(xiàn)有技術(shù)中因非金屬掩膜與金屬框架之間材質(zhì)的差異存在熱膨脹系數(shù)差異風(fēng)險而致黃光刻蝕高精密掩膜(Mask)良率過低等問題，可以相應(yīng)提高產(chǎn)品良率。另外，利用材質(zhì)相類似的非金屬材料來取代原有的金屬材料，使成本大幅降低，且具有制程簡單、制程良率高等優(yōu)點(diǎn)。
[0019]以上所述的具體實(shí)施例，對本發(fā)明的解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說明，所應(yīng)理解的是，以上所述僅為本發(fā)明的具體實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種OLED蒸鍍用的屏蔽層，其特征在于，包括:框架與安裝于所述框架上的掩膜，所述掩膜具有開孔，所述框架的材料為聚合物或玻璃纖維，所述掩膜的材料為聚合物或聚合物與金屬的結(jié)合。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的OLED蒸鍍用的屏蔽層，其特征在于，所述掩膜是利用黏著劑貼合于所述框架上。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的OLED蒸鍍用的屏蔽層，其特征在于，所述框架的形狀為矩形。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的OLED蒸鍍用的屏蔽層，其特征在于，所述掩膜的尺寸小于所述框架的尺寸。5.一種OLED蒸鍍用的屏蔽層的制作方法，其特征在于，包括步驟: 分別將框架與掩膜制作完成，所述框架的材料為聚合物或玻璃纖維，所述掩膜的材料為聚合物或金屬與聚合物的結(jié)合； 將所述掩膜安裝于所述框架上； 在所述掩膜上形成開孔，形成OLED蒸鍍用的屏蔽層。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的OLED蒸鍍用，其特征在于，將所述掩膜安裝于所述框架上包括利用粘著劑將所述掩膜貼合于所述框架上。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的OLED蒸鍍用，其特征在于，在所述掩膜上形成開孔是采用激光開孔的方式。
【文檔編號】C23C14/04GK105986225SQ201510084649
【公開日】2016年10月5日
【申請日】2015年2月16日
【發(fā)明人】施秉彝
【申請人】上海和輝光電有限公司