掩膜板組、彩膜基板及其制作方法、檢測(cè)裝置、顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種掩膜板組、彩膜基板及其制作方法、檢測(cè)裝置、顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]彩膜基板主要包括襯底基板、背板銦錫氧化物膜、黑矩陣、彩膜層、保護(hù)膜層以及隔墊物。為檢測(cè)每層的制備精度，如圖1所示，彩膜基板包括多個(gè)靠近其角部的標(biāo)記區(qū)，每個(gè)標(biāo)記區(qū)均設(shè)置多個(gè)黑矩陣標(biāo)記塊5和多個(gè)不同顏色的色阻標(biāo)記塊3，黑矩陣標(biāo)記塊5與黑矩陣同步形成，每種顏色的色阻標(biāo)記塊3與相應(yīng)顏色的色阻塊4同步形成。多個(gè)黑矩陣標(biāo)記塊5被不同顏色的色阻標(biāo)記塊3覆蓋。彩膜基板制備完成后，利用檢測(cè)裝置檢測(cè)每個(gè)色阻標(biāo)記塊3和相應(yīng)的黑矩陣標(biāo)記塊5的中心是否對(duì)齊，如果對(duì)齊，表明顯示區(qū)的濾光色阻塊位置相對(duì)應(yīng)，否則，表明顯示區(qū)的濾光色阻塊位置出現(xiàn)偏差。
[0003]為了降低彩膜基板的制作成本，在制作彩膜層時(shí)，共用一張圖2所示的掩膜板來(lái)制作不同顏色的色阻塊，該掩膜板的對(duì)應(yīng)于每個(gè)標(biāo)記區(qū)的位置均設(shè)置有一個(gè)第一透光孔la，用于形成每制作一種顏色的色阻塊，在襯底基板的標(biāo)記區(qū)同時(shí)形成了相應(yīng)顏色的色阻標(biāo)記塊，制作黑矩陣的掩膜板如圖3所示，對(duì)應(yīng)于每個(gè)標(biāo)記區(qū)的位置均設(shè)置有多個(gè)第二透光孔2a。因此，彩膜基板制作完成后，相鄰兩個(gè)色阻標(biāo)記塊3的中心間距dl等于同一行中相鄰兩個(gè)色阻塊4的中心間距d2。在利用檢測(cè)裝置進(jìn)行檢測(cè)時(shí)，視野內(nèi)會(huì)出現(xiàn)兩個(gè)黑矩陣標(biāo)記塊5和相應(yīng)的兩個(gè)色阻塊對(duì)位標(biāo)記3，如圖4所示，由于光線因素，無(wú)法對(duì)兩個(gè)色阻塊對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行區(qū)分，容易造成識(shí)別錯(cuò)誤，從而降低檢測(cè)結(jié)果準(zhǔn)確性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種掩膜板組、彩膜基板及其制作方法、檢測(cè)裝置、顯示裝置，以使得在不增加制作成本的前提下，提高彩膜基板的檢測(cè)準(zhǔn)確率。
[0005]本發(fā)明提供一種掩膜板組，用于制作彩膜基板，所述彩膜基板包括濾光區(qū)和多個(gè)標(biāo)記區(qū)，所述濾光區(qū)被劃分為多個(gè)像素單元，每個(gè)像素單元均包括沿行方向排列的多個(gè)不同顏色的子像素，所述掩膜板組包括:
[0006]第一掩膜板，所述第一掩膜板對(duì)應(yīng)于每個(gè)所述標(biāo)記區(qū)的位置均形成有多個(gè)黑矩陣第一標(biāo)記掩膜圖形，且距離最近的兩個(gè)所述黑矩陣第一標(biāo)記掩膜圖形的中心間距不小于同一行中相鄰兩個(gè)所述子像素的中心間距的兩倍；
[0007]第二掩膜板，所述第二掩膜板對(duì)應(yīng)于所述濾光區(qū)的位置形成有與其中一種顏色的多個(gè)子像素一一對(duì)應(yīng)的多個(gè)色阻塊掩膜圖形，所述第二掩膜板對(duì)應(yīng)于每個(gè)所述標(biāo)記區(qū)的位置均形成有沿列方向排列的至少兩個(gè)色阻標(biāo)記掩膜圖形；
[0008]當(dāng)所述第一掩膜板與所述彩膜基板的對(duì)正時(shí)，對(duì)應(yīng)于同一個(gè)標(biāo)記區(qū)的多個(gè)黑矩陣第一標(biāo)記掩膜圖形能夠在該標(biāo)記區(qū)形成多個(gè)第一投影，當(dāng)所述第二掩膜板的色阻塊掩膜圖形依次與各種顏色的子像素對(duì)正時(shí)，對(duì)應(yīng)于同一個(gè)標(biāo)記區(qū)的多個(gè)色阻標(biāo)記掩膜圖形能夠在該標(biāo)記區(qū)形成多列第二投影，同一個(gè)標(biāo)記區(qū)中，至少兩個(gè)第一投影分別對(duì)應(yīng)不同列的第二投影，且所述第一投影位于相應(yīng)的第二投影的范圍內(nèi)。
[0009]優(yōu)選地，在所述第一掩膜板的對(duì)應(yīng)于任意一個(gè)所述標(biāo)記區(qū)的位置，所述黑矩陣第一標(biāo)記掩膜圖形的個(gè)數(shù)等于所述像素單元內(nèi)子像素的顏色種類數(shù)，在同一標(biāo)記區(qū)中，多個(gè)所述第一投影分別與位于互不相同的列中的多個(gè)所述第二投影一一對(duì)應(yīng)。
[0010]優(yōu)選地，所述第二掩膜板對(duì)應(yīng)于每個(gè)所述標(biāo)記區(qū)的位置均形成有兩個(gè)所述色阻標(biāo)記掩膜圖形，所述第一掩膜板對(duì)應(yīng)于每個(gè)所述標(biāo)記區(qū)的位置均形成有三個(gè)所述黑矩陣第一標(biāo)記掩膜圖形，其中兩個(gè)所述黑矩陣第一標(biāo)記掩膜圖形位于同一行中，且該兩個(gè)黑矩陣第一標(biāo)記掩膜圖形中心連線的垂直平分線穿過(guò)第三個(gè)第一標(biāo)記掩膜圖形。
[0011]優(yōu)選地，所述掩膜板組還包括用于形成所述彩膜基板的隔墊物層的第三掩膜板，所述第三掩膜板的對(duì)應(yīng)于每個(gè)所述標(biāo)記區(qū)的位置均形成有至少一個(gè)隔墊物標(biāo)記掩膜圖形，所述第一掩膜板的對(duì)應(yīng)于所述標(biāo)記區(qū)的位置還形成有黑矩陣第二標(biāo)記掩膜圖形，當(dāng)所述第一掩膜板和所述第三掩膜板均與所述彩膜基板對(duì)正時(shí)，所述黑矩陣第二標(biāo)記掩膜圖形在所述彩膜基板上的正投影位于所述隔墊物標(biāo)記掩膜圖形在所述彩膜基板上的正投影范圍內(nèi)。
[0012]優(yōu)選地，所述黑矩陣第一標(biāo)記掩膜圖形的長(zhǎng)度和寬度均在45?50μπι之間；
[0013]所述黑矩陣第二標(biāo)記掩膜圖形的長(zhǎng)度和寬度均在45?50μπι之間。
[0014]優(yōu)選地，在所述第二掩膜板的對(duì)應(yīng)于同一個(gè)所述標(biāo)記區(qū)的位置，相鄰兩個(gè)所述色阻標(biāo)記掩膜圖形的中心間距在300?320μπι之間。
[0015]優(yōu)選地，所述色阻標(biāo)記掩膜圖形的長(zhǎng)度和寬度均在85?95μπι之間。
[0016]優(yōu)選地，所述第一掩膜板對(duì)應(yīng)于所述濾光區(qū)的位置還形成有網(wǎng)格狀的黑矩陣掩膜圖形。
[0017]相應(yīng)地，本發(fā)明還提供一種利用上述掩膜板組制作彩膜基板的制作方法，所述制作方法包括:
[0018]S1、形成黑矩陣材料層；
[0019]S2、利用所述第一掩膜板對(duì)所述黑矩陣材料層進(jìn)行曝光并顯影，以形成多個(gè)對(duì)應(yīng)于所述黑矩陣第一掩膜圖形的黑矩陣第一標(biāo)記塊；
[0020]S3、分別形成多種不同顏色的色阻塊，其中，每形成一種顏色的色阻塊均包括:
[0021]S3a、形成相應(yīng)顏色的色阻材料層；
[0022]S3b、利用所述第二掩膜板對(duì)所述色阻材料層進(jìn)行曝光并顯影，以形成相應(yīng)顏色的多個(gè)對(duì)應(yīng)于所述色阻掩膜圖形的色阻塊，同時(shí)形成相應(yīng)顏色的多個(gè)對(duì)應(yīng)于所述色阻標(biāo)記掩膜圖形的色阻標(biāo)記塊；
[0023]并且，同一個(gè)所述標(biāo)記區(qū)中的至少兩個(gè)黑矩陣第一標(biāo)記塊被不同顏色的色阻標(biāo)記塊覆蓋。
[0024]優(yōu)選地，在所述第一掩膜板的對(duì)應(yīng)于任意一個(gè)所述標(biāo)記區(qū)的位置，所述黑矩陣第一標(biāo)記掩膜圖形的個(gè)數(shù)等于待形成的色阻塊的顏色種類數(shù)，并使得在步驟S3結(jié)束后，同一個(gè)所述標(biāo)記區(qū)的多個(gè)黑矩陣第一標(biāo)記塊分別被顏色互不相同的多個(gè)色阻標(biāo)記塊覆蓋。
[0025]優(yōu)選地，所述第一掩膜板對(duì)應(yīng)于每個(gè)所述標(biāo)記區(qū)的位置還形成有黑矩陣第二標(biāo)記掩膜圖形，以使得在所述步驟S2中，還形成對(duì)應(yīng)于所述黑矩陣第二標(biāo)記掩膜圖形的黑矩陣第二標(biāo)記塊；
[0026]所述制作方法還包括在所述步驟S3之后進(jìn)行的:
[0027]S4、形成隔墊物材料層；
[0028]S5、對(duì)所述隔墊物材料層進(jìn)行曝光并顯影，以形成覆蓋所述黑矩陣第二標(biāo)記塊的隔墊物標(biāo)記塊。
[0029]相應(yīng)地，本發(fā)明還提供一種彩膜基板，包括濾光區(qū)和多個(gè)標(biāo)記區(qū)，所述濾光區(qū)被劃分為多個(gè)像素單元，每個(gè)像素單元內(nèi)均設(shè)置有沿行方向排列的顏色互不相同的多個(gè)色阻塊，其特征在于，
[0030]每個(gè)所述標(biāo)記區(qū)均設(shè)置有排列為至少兩行的多個(gè)色阻標(biāo)記塊，位于不同列的色阻標(biāo)記塊的顏色不同，同一列中的色阻標(biāo)記塊的顏色相同，同一行中相鄰兩個(gè)色阻標(biāo)記塊的中心間距等于同一行中相鄰兩個(gè)子像素的中心間距；
[0031]每個(gè)所述標(biāo)記區(qū)還設(shè)置有多個(gè)黑矩陣第一標(biāo)記塊，在同一個(gè)所述標(biāo)記區(qū)，至少兩個(gè)所述黑矩陣第一標(biāo)記塊分別被顏色不同的色阻標(biāo)記塊覆蓋，且距離最近的兩個(gè)所述黑矩陣第一標(biāo)記塊的中心間距不小于同一行中相鄰兩個(gè)所述色阻塊的中心間距的兩倍。
[0032]優(yōu)選地，在任意一個(gè)所述標(biāo)記區(qū)，所述黑矩陣第一標(biāo)記塊的個(gè)數(shù)等于所述像素單元內(nèi)色阻塊的顏色種類數(shù)，在同一個(gè)所述標(biāo)記區(qū)，多個(gè)所述黑矩陣第一標(biāo)記塊分別被顏色互不相同的多個(gè)色阻標(biāo)記塊覆蓋。
[0033]優(yōu)選地，每個(gè)像素單元內(nèi)均設(shè)置有三個(gè)所述色阻塊，每個(gè)所述標(biāo)記區(qū)均設(shè)置有三個(gè)所述黑矩陣第一標(biāo)記塊以及排列為兩行三列的多個(gè)所述色阻標(biāo)記塊，三個(gè)所述黑矩陣第一標(biāo)記塊分別被第一行中間的色阻標(biāo)記塊、第二行首尾兩個(gè)色阻標(biāo)記塊覆蓋。
[0034]優(yōu)選地，每個(gè)所述標(biāo)記區(qū)還設(shè)置有至少一個(gè)隔墊物標(biāo)記塊和與所述黑矩陣第一標(biāo)記塊同層設(shè)置的一個(gè)黑矩陣第二標(biāo)記塊，所述黑矩陣第二標(biāo)記塊被所述隔墊物標(biāo)記塊覆蓋，所述黑矩陣第二標(biāo)記塊和與其距離最近黑矩陣第一標(biāo)記塊的中心間距不小于同一行中相鄰兩個(gè)所述色阻塊的中心間距的兩倍。
[0035]優(yōu)選地，所述黑矩陣第一標(biāo)記塊的橫截面為長(zhǎng)度和寬度均在45?50μπι之間的矩形；
[0036]所述黑矩陣第二標(biāo)記塊的橫截面為長(zhǎng)度和寬度均在45?50μπι之間的矩形。
[0037]優(yōu)選地，在同一個(gè)所述標(biāo)記區(qū)，相鄰兩個(gè)顏色相同的色阻標(biāo)記塊的中心間距在300?320μηι之間。
[0038]優(yōu)選地，所述色阻標(biāo)記塊的橫截面為長(zhǎng)度和寬度均在85?95μπι之間的矩形。
[0039]優(yōu)選地，所述濾光區(qū)還設(shè)置有網(wǎng)格狀的黑矩陣，所述黑矩陣與所述黑矩陣第一標(biāo)記塊同層設(shè)置，所述網(wǎng)格狀的每個(gè)網(wǎng)格均對(duì)應(yīng)一個(gè)所述色阻塊。
[0040]相應(yīng)地，本發(fā)明還提供一種檢測(cè)裝置，用于檢測(cè)上述彩膜基板上的黑矩陣第一標(biāo)記塊與相應(yīng)的色阻標(biāo)記塊是否對(duì)正，所述檢測(cè)裝置包括圖像獲取窗口，用于獲取所述黑矩陣第一標(biāo)記塊和相應(yīng)的色阻標(biāo)記塊的圖像，所述圖像獲取窗口的寬度小于位于距離最近的兩個(gè)所述黑矩陣第一標(biāo)記塊的中心間距。
[0041]相應(yīng)地，本發(fā)明還提供一種顯示裝置，包括本發(fā)明提供的上述彩膜基板。
[0042]利用本發(fā)明提供的掩膜板組制作的彩膜基板，其任意一個(gè)標(biāo)記區(qū)，同一行的相鄰兩個(gè)色阻標(biāo)記塊的中心間距等于同一行中相鄰兩個(gè)色阻塊的中心間距，因此，在制作所述彩膜基板時(shí)，可以利用同一張掩膜板來(lái)制作不同顏色的色阻塊以及不同顏色的色阻標(biāo)記塊，從而節(jié)省了制作成本。并且距離最近的兩個(gè)黑矩陣第一標(biāo)記