掩膜板、顯示基板的制作方法、顯示基板及顯示裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種掩膜板、顯示基板的制作方法、顯示基板及顯示裝置，該掩膜板包括用于在襯底基板上制作顯示圖案的第一掩膜圖案，還包括第二掩膜圖案，所述第二掩膜圖案用于在所述襯底基板上制作標記圖案，所述標記圖案用于確定所述顯示圖案相對所述襯底基板的中心偏移量。本發(fā)明提供的掩膜板，通過增設第二掩膜圖案，在使該掩膜板在襯底基板上制作顯示圖案的同時可以在襯底基板上制作標記圖案，通過該標記圖案可以確定顯示圖案相對襯底基板的中心偏移量，相比現(xiàn)有的中心偏移量檢測方式，可以避免由于玻璃基板邊緣幾何形狀不好對測量結果的影響，并且可以實現(xiàn)對襯底基板上每一個曝光區(qū)域的中心偏移量進行測量。
【專利說明】
掩膜板、顯示基板的制作方法、顯示基板及顯示裝置
技術領域
[0001] 本發(fā)明涉及顯示領域，尤其涉及一種掩膜板、顯示基板的制作方法、顯示基板及顯 示裝置。
【背景技術】
[0002] 薄膜晶體管液晶顯不器（Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，簡稱 TFT-LCD)是一種尺寸范圍廣、低能耗、低輻射的顯示設備，在TFT-LCD制作工藝中的光刻 (PHOTO)制程中，對基準層(通常是玻璃基板上的第一層結構)進行光刻時，需確認基準層圖 案(pattern)的中心偏移量(center shift，即基準層的圖案中心相對玻璃基板中心的偏移 量），中心偏移量對后續(xù)光刻對位及陣列基板(TFT基板)與彩膜基板(CF基板)對合有很大影 響，某時間段產(chǎn)品中心偏移量大，則后續(xù)光刻進行光刻預對位時易發(fā)生對位報警，且在TFT 基板與CF基板對合時有對合NG(不良）風險。
[0003] 如圖1所示，當前測試center shift的方式是分別測試兩個玻璃基板ID圖案 (Glass ID pad)l'到玻璃基板2'的長邊和短邊的距離，之后經(jīng)過計算得出，其中，在X方向 的偏移量為(e_g)/2,在y方向的偏移量為(f_h)/2,然而，這種測試方式有以下缺陷：當玻璃 基板邊緣幾何形狀不好(如有突起或毛刺等)時，容易產(chǎn)生嚴重的誤測。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] (一)要解決的技術問題
[0005] 本發(fā)明要解決的技術問題是：如何解決在現(xiàn)有的陣列基板制作工藝中，在測量基 準層圖案的中心偏移量時由于玻璃基板邊緣幾何形狀不好容易產(chǎn)生嚴重誤測的問題。
[0006] (二)技術方案
[0007] 為解決上述技術問題，本發(fā)明的技術方案提供了一種掩膜板，包括用于在襯底基 板上制作顯示圖案的第一掩膜圖案，其特征在于，還包括第二掩膜圖案，所述第二掩膜圖案 用于在所述襯底基板上制作標記圖案，所述標記圖案用于確定所述顯示圖案相對所述襯底 基板的中心偏移量。
[0008] 優(yōu)選地，所述掩膜板包括中間區(qū)域以及位于所述中間區(qū)域周邊的邊緣區(qū)域，所述 第一掩膜圖案位于所述中間區(qū)域，所述第二掩膜圖案位于所述邊緣區(qū)域。
[0009] 優(yōu)選地，包括多個所述第二掩膜圖案，每一個所述第二掩膜圖案用于形成一個所 述標記圖案。
[0010] 優(yōu)選地，所述掩膜板為矩形，所述掩膜板的每一個直角位置處均設有所述第二掩 膜圖案。
[0011]優(yōu)選地，每一個所述標記圖案包括一個正方形框、設置在所述正方形框內(nèi)的若干 個同心圓框、設置在所述正方形框內(nèi)的兩個垂直且交疊設置的長方形圖案。
[0012] 為解決上述技術問題，本發(fā)明還提供了一種顯示基板的制作方法，包括：
[0013] 采用上述的掩膜板在所述襯底基板上同時制作所述顯示圖案和所述標記圖案；
[0014] 在所述襯底基板上的預設位置制作基板信息識別圖案；
[0015] 根據(jù)所述標記圖案相對于所述基板信息識別圖案的偏移來確認所述顯示圖案相 對所述襯底基板的中心偏移量。
[0016] 優(yōu)選地，所述預設位置為所述顯示圖案不發(fā)生偏移時所述標記圖案的中心位置。
[0017] 優(yōu)選地，所述基板信息識別圖案為二維碼圖案。
[0018]優(yōu)選地，所述掩膜板包括多個所述第二掩膜圖案，以在所述襯底基板上制作多個 所述標記圖案，所述方法還包括根據(jù)任意兩個所述標記圖案確定所述顯示圖案相對所述襯 底基板邊緣的偏轉(zhuǎn)角度。
[0019] 為解決上述技術問題，本發(fā)明還提供了一種顯示基板，由上述的方法制作而成。
[0020] 為解決上述技術問題，本發(fā)明還提供了一種顯示裝置，包括上述的顯示基板。
[0021](三)有益效果
[0022] 本發(fā)明實施方式提供的掩膜板，通過增設第二掩膜圖案，在使該掩膜板在襯底基 板上制作顯示圖案的同時可以在襯底基板上制作標記圖案，通過該標記圖案可以確定顯示 圖案相對襯底基板的中心偏移量，相比現(xiàn)有的中心偏移量檢測方式，可以避免由于玻璃基 板邊緣幾何形狀不好對測量結果的影響，并且可以實現(xiàn)對襯底基板上每一個曝光區(qū)域 (shot)的中心偏移量進行測量。
【附圖說明】
[0023] 圖1是現(xiàn)有的陣列基板制作工藝中測量基準層圖案的中心偏移量的示意圖；
[0024] 圖2是本發(fā)明實施方式提供的一種掩膜板的示意圖；
[0025] 圖3是本發(fā)明實施方式提供的一種基板信息識別圖案的示意圖；
[0026] 圖4是本發(fā)明實施方式提供的一種標記圖案的示意圖；
[0027] 圖5是本發(fā)明實施方式提供的當顯示圖案未發(fā)生偏移時標記圖案與基板信息識別 圖案的不意圖；
[0028] 圖6是本發(fā)明實施方式提供的當顯示圖案發(fā)生偏移時標記圖案與基板信息識別圖 案的不意圖；
[0029] 圖7是本發(fā)明實施方式提供的另一種掩膜板的示意圖；
[0030] 圖8是本發(fā)明實施方式提供的又一種掩膜板的示意圖。
【具體實施方式】
[0031] 下面結合附圖和實施例，對本發(fā)明的【具體實施方式】作進一步詳細描述。以下實施 例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。
[0032] 本發(fā)明實施方式提供了一種掩膜板，包括用于在襯底基板上制作顯示圖案的第一 掩膜圖案，還包括第二掩膜圖案，所述第二掩膜圖案用于在所述襯底基板上制作標記圖案， 所述標記圖案用于確定所述顯示圖案相對所述襯底基板的中心偏移量。
[0033] 本發(fā)明實施方式提供的掩膜板，通過增設第二掩膜圖案，在使該掩膜板在襯底基 板(如玻璃基板)上制作顯示圖案的同時可以在襯底基板上制作標記圖案，通過該標記圖案 可以確定顯示圖案相對襯底基板的中心偏移量(即顯示圖案中心相對襯底基板中心的偏移 量），相比現(xiàn)有的中心偏移量檢測方式，可以避免由于玻璃基板邊緣幾何形狀不好對測量結 果的影響，并且可以實現(xiàn)對襯底基板上每一個曝光區(qū)域(shot)的中心偏移量進行測量。
[0034] 參見圖2,圖2是本發(fā)明實施方式提供的掩膜板的示意圖，該掩膜板包括中間區(qū)域 以及位于所述中間區(qū)域周邊的邊緣區(qū)域，其中，掩膜板的中間區(qū)域設置有用于制作顯示圖 案的第一掩膜圖案1〇〇,掩膜板的邊緣區(qū)域設置有用于制作標記圖案的第二掩膜圖案 (center shift mark)200;
[0035] 在利用該掩膜板的第一掩膜圖案制作液晶顯示面板中陣列基板的第一層顯示圖 案（即基準層圖案)時，可以通過該掩膜板的第二掩膜圖案在陣列基板(TFT基板）的襯底基 板上同時制作標記圖案，在光刻工藝后，如果所制作的顯示圖案發(fā)生偏移，所制作的標記圖 案也會發(fā)生同樣的偏移，因此，可以通過制作的標記圖案確定顯示圖案的偏移量；
[0036] 例如，在陣列基板的制作過程中，通常會在在陣列基板的襯底基板上制作基板信 息識別圖案(Glass ID pad)，其制作方法為：以襯底基板的中心為原點建立坐標系，并在坐 標系內(nèi)選取坐標位置，之后利用打碼機在選取的坐標位置上制作基板信息識別圖案，因此， 可以通過確認標記圖案相對基板信息識別圖案的偏移來確認顯示圖案相對襯底基板的中 心偏移量，其中，基板信息識別圖案可以為如圖3所示的正方形二維碼圖案；
[0037]優(yōu)選地，通過掩膜板的第二掩膜區(qū)域制作的每一個標記圖案可以包括一個正方形 框、設置在所述正方形框內(nèi)的若干個同心圓框、設置在所述正方形框內(nèi)的兩個垂直且交疊 設置的長方形圖案，若干個同心圓框中半徑最大的圓框為正方形框的內(nèi)接圓，如圖4所示， 每一個所述標記圖案可以包括：
[0038] 正方形框201;
[0039] 設置在所述正方形框內(nèi)的若干個同心圓框，從內(nèi)至外依次為圓框2021、圓框2022 和圓框2023;
[0040]設置在所述正方形框內(nèi)的兩個垂直且交疊設置的長方形圖案，即長方形圖案203 和長方形圖案204;
[0041]其中，長方形圖案203與長方形圖案204的形狀相同，長方形圖案203與長方形圖案 204的寬為W，其可以與基板信息識別圖案的邊長相同，長方形圖案203與長方形圖案204的 長與正方向框201的邊長相同，均為W+2c，若干個同心圓框的中心為正方向框201的中心，圓 框2021的半經(jīng)為a+W/2,圓框2022的半經(jīng)為b+W/2,圓框2023為正方形框201的內(nèi)接圓，其半 經(jīng)為c+W/2,其中，圓框2021的半經(jīng)大于長方形圖案203與長方形圖案204交疊區(qū)域的外接圓 的半徑，即（a+W/2 ) > (及X W/2 )，c<陣列基板與彩膜基板對合的對合位置精度，各 同心圓框與長方形圖案相交處均標有刻度，刻度如圖4分布；
[0042]當通過打碼機在襯底基板上的預設位置上制作基板信息識別圖案后，該預設位置 為顯示圖案不發(fā)生偏移時標記圖案的中心位置，如圖5所示，若基板信息識別圖案300未超 出長方形圖案203與長方形圖案204的交疊區(qū)域，則說明顯示圖案沒有發(fā)生偏移，顯示圖案 相對襯底基板的中心偏移量為〇,如圖6所示，若基板信息識別圖案300超出長方形圖案203 與長方形圖案204的交疊區(qū)域，則說明顯示圖案發(fā)生偏移，并通過若干個同心圓框確定偏移 范圍，如圖6所示，基板信息識別圖案相對于標記圖案向左下方偏移，其X方向的偏移范圍：-b< Δ x<-a，y方向的偏移范圍為:_b< Δ y<-a，那么標記圖案相對于基板彳目息識別圖案在 X方向的偏移（即center shift)范圍為:a< Δ x<b，y方向的偏移范圍為:a< Δ y<b，由于 長方形圖案203與長方形圖案204上設置有刻度，故可準確讀取具體偏移量，其中，若基板信 息識別圖案任意位置偏移出正方形框201外，則判定NG(Center shift超出工藝要求范圍）， 需進行手動測量，從而進行大偏移量的補正。
[0043] 優(yōu)選地，可以在掩膜板上設置多個所述第二掩膜圖案，每一個所述第二掩膜圖案 用于形成一個所述標記圖案，從而提高測量精度，例如，可以如圖7所示，在掩膜板的短邊方 向上設置一個第二掩膜圖案200,在長邊方向上設置兩個第二掩膜圖案200,優(yōu)選地，可以如 圖8所示，掩膜板為矩形，可以在掩膜板的每一個直角位置處均設置一個第二掩膜圖案200。
[0044] 為實現(xiàn)偏移量的測量，可以采用圖像抓取的方法，通過微觀設備，在標記所在位置 處定點抓圖，即可判斷出中心偏移量情況；
[0045]另外，通過在掩膜板設置多個第二掩膜圖案，從而可以在襯底基板上制作多個標 記圖案，進而可以根據(jù)任意兩個標記圖案確定顯示圖案相對襯底基板邊緣的偏轉(zhuǎn)角度（即 顯示圖案在襯底基板的旋轉(zhuǎn)情況），例如，對于圖7所示的掩膜板，可以使位于長邊方向的兩 個第二掩膜圖案的中心連線與掩膜板的長邊方向平行(也即與第一掩膜圖案的對應邊緣平 行），在使用該掩膜板在襯底基板上制作顯示圖案和標記圖案后，可以利用上述位于長邊方 向的兩個第二掩膜圖案所制作的兩個標記圖案確定顯示圖案在襯底基板的旋轉(zhuǎn)情況，即可 以利用該兩個標記圖案的坐標位置，利用反三角函數(shù)法，計算該兩個標記圖案的中心連線 與襯底基板的對應邊緣之間的夾角，從而確定顯示圖案的旋轉(zhuǎn)情況，例如，若兩個標記圖案 的中心連線與襯底基板的對應邊緣之間的夾角為零（即兩者相平行），則說明所制作的顯示 圖案未發(fā)生旋轉(zhuǎn)，若兩個標記圖案的中心連線與襯底基板的對應邊緣之間夾角過大(例如 超過預設值），則需對光刻機進行相應參數(shù)補償。
[0046]本發(fā)明實施方式提供的掩膜板，通過增設第二掩膜圖案，在使該掩膜板在襯底基 板上制作顯示圖案的同時可以在襯底基板上制作標記圖案，通過該標記圖案可以確定各顯 示圖案（即襯底基板上的每一個曝光shot)相對襯底基板的中心偏移量，相比現(xiàn)有的中心偏 移量檢測方式，可以避免由于玻璃基板邊緣幾何形狀不好對測量結果的影響，并且可以實 現(xiàn)對襯底基板上每一個曝光區(qū)域（shot)的中心偏移量進行測量，避免對合工藝中NG的風 險。
[0047]本發(fā)明實施方式還提供了一種顯示基板的制作方法，包括：
[0048]采用上述的掩膜板在所述襯底基板上同時制作所述顯示圖案和所述標記圖案； [0049]在所述襯底基板上的預設位置制作基板信息識別圖案；
[0050] 根據(jù)所述標記圖案相對于所述基板信息識別圖案的偏移來確認所述顯示圖案相 對所述襯底基板的中心偏移量。
[0051] 優(yōu)選地，所述預設位置為所述顯示圖案不發(fā)生偏移時所述標記圖案的中心位置。
[0052] 優(yōu)選地，所述基板信息識別圖案為二維碼圖案。
[0053]優(yōu)選地，所述掩膜板包括多個所述第二掩膜圖案，以在所述襯底基板上制作多個 所述標記圖案，所述方法還包括根據(jù)任意兩個所述標記圖案確定所述顯示圖案相對所述襯 底基板邊緣的偏轉(zhuǎn)角度。
[0054]此外，本發(fā)明實施方式還提供了一種顯示基板，由上述的方法制作而成。
[0055]此外，本發(fā)明實施方式還提供了一種顯示裝置，包括上述的顯示基板。其中，本發(fā) 明實施方式提供的顯示裝置可以是筆記本電腦顯示屏、顯示器、電視、數(shù)碼相框、手機、平板 電腦等任何具有顯不功能的廣品或部件。
[0056]以上實施方式僅用于說明本發(fā)明，而并非對本發(fā)明的限制，有關技術領域的普通 技術人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有 等同的技術方案也屬于本發(fā)明的范疇，本發(fā)明的專利保護范圍應由權利要求限定。
【主權項】
1. 一種掩膜板，包括用于在襯底基板上制作顯示圖案的第一掩膜圖案，其特征在于，還 包括第二掩膜圖案，所述第二掩膜圖案用于在所述襯底基板上制作標記圖案，所述標記圖 案用于確定所述顯示圖案相對所述襯底基板的中心偏移量。2. 根據(jù)權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括中間區(qū)域以及位于所述 中間區(qū)域周邊的邊緣區(qū)域，所述第一掩膜圖案位于所述中間區(qū)域，所述第二掩膜圖案位于 所述邊緣區(qū)域。3. 根據(jù)權利要求2所述的掩膜板，其特征在于，包括多個所述第二掩膜圖案，每一個所 述第二掩膜圖案用于形成一個所述標記圖案。4. 根據(jù)權利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板為矩形，所述掩膜板的每一 個直角位置處均設有所述第二掩膜圖案。5. 根據(jù)權利要求1-4任一所述的掩膜板，其特征在于，每一個所述標記圖案包括一個正 方形框、設置在所述正方形框內(nèi)的若干個同心圓框、設置在所述正方形框內(nèi)的兩個垂直且 交疊設置的長方形圖案。6. -種顯示基板的制作方法，其特征在于，包括： 采用權利要求1-5任一所述的掩膜板在所述襯底基板上同時制作所述顯示圖案和所述 標記圖案； 在所述襯底基板上的預設位置制作基板信息識別圖案； 根據(jù)所述標記圖案相對于所述基板信息識別圖案的偏移來確認所述顯示圖案相對所 述襯底基板的中心偏移量。7. 根據(jù)權利要求6所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，所述預設位置為所述顯示 圖案不發(fā)生偏移時所述標記圖案的中心位置。8. 根據(jù)權利要求6所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，所述基板信息識別圖案為 二維碼圖案。9. 根據(jù)權利要求6所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，所述掩膜板包括多個所述 第二掩膜圖案，以在所述襯底基板上制作多個所述標記圖案，所述方法還包括根據(jù)任意兩 個所述標記圖案確定所述顯示圖案相對所述襯底基板邊緣的偏轉(zhuǎn)角度。10. -種顯示基板，其特征在于，由權利要求6-9任一所述的方法制作而成。11. 一種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求10所述的顯示基板。
【文檔編號】G03F1/84GK105867066SQ201610480008
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2016年6月27日
【發(fā)明人】張玉虎, 金宇
【申請人】京東方科技集團股份有限公司, 合肥京東方光電科技有限公司