彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、顯示裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、顯示裝置，屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域。彩膜基板的制造方法包括：采用光致色樹脂材料在襯底基板上形成光致色樹脂層，光致色樹脂材料含有多種不同吸收波長的光敏基團；通過構(gòu)圖工藝對光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，彩色濾光層包括多種濾光單元，彩色濾光層中任意相鄰的兩個濾光單元之間設(shè)置有黑矩陣。本發(fā)明解決了彩色濾光層的形成過程復(fù)雜，導(dǎo)致彩膜基板的制造過程復(fù)雜的問題，達到了簡化彩色濾光層的形成過程，進而簡化彩膜基板的制造過程的效果。本發(fā)明用于彩膜基板的制造。
【專利說明】
彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、顯示裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著顯示技術(shù)的不斷發(fā)展，顯示裝置廣泛應(yīng)用于顯示領(lǐng)域，顯示裝置可以為薄膜晶體管液晶顯不器(英文:Thin Film Transistor Liquid Crystal DisplayJI^tTFT-LCD) o
[0003]TFT-LCD通常包括彩膜基板，彩膜基板包括襯底基板和依次形成在襯底基板上的黑矩陣、彩色濾光層、上覆蓋層、公共電極層和隔墊物(英文:Photo Spacer;簡稱:PS)層，彩色濾光層包括紅色濾光單元、綠色濾光單元和藍色濾光單元，任意相鄰的兩個濾光單元之間設(shè)置有黑矩陣(英文:black matrix;簡稱:BM)。相關(guān)技術(shù)中，在制造彩膜基板時，可以通過一次構(gòu)圖工藝在襯底基板上形成黑矩陣，再通過三次構(gòu)圖工藝在形成有黑矩陣的襯底基板上分別形成紅色濾光單元、綠色濾光單元和藍色濾光單元得到彩色濾光層，之后在形成有彩色濾光層的襯底基板上依次形成上覆蓋層、公共電極層和PS層。其中，在形成紅色濾光單元、綠色濾光單元和藍色濾光單元中的任意一種濾光單元時，都需要先涂覆相應(yīng)的樹脂材料得到樹脂材料層，然后通過一次構(gòu)圖工藝對樹脂材料層進行處理得到相應(yīng)的濾光單元，也即是，形成彩色濾光層時，需要進行三次涂覆。
[0004]在實現(xiàn)本發(fā)明的過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)相關(guān)技術(shù)至少存在以下問題:
[0005]相關(guān)技術(shù)在形成彩色濾光層時，需要進行三次涂覆，因此，彩色濾光層的形成過程復(fù)雜，導(dǎo)致彩膜基板的制造過程復(fù)雜。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]為了解決彩色濾光層的形成過程復(fù)雜，導(dǎo)致彩膜基板的制造過程復(fù)雜的問題，本發(fā)明提供一種彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、顯示裝置。所述技術(shù)方案如下:
[0007]第一方面，提供一種彩膜基板的制造方法，所述方法包括:
[0008]采用光致色樹脂材料在襯底基板上形成光致色樹脂層，所述光致色樹脂材料含有多種不同吸收波長的光敏基團；
[0009]通過構(gòu)圖工藝對所述光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，所述彩色濾光層包括多種濾光單元，所述彩色濾光層中任意相鄰的兩個濾光單元之間設(shè)置有黑矩陣。
[0010]可選地，所述通過構(gòu)圖工藝對所述光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，包括:
[0011 ] 通過一次構(gòu)圖工藝對所述光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層；
[0012]或者，
[0013]通過多次構(gòu)圖工藝對所述光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層。
[0014]可選地，所述多種濾光單元包括紅色濾光單元、綠色濾光單元和藍色濾光單元；
[0015]所述多種不同吸收波長的光敏基團包括:紅光光敏基團、綠光光敏基團和藍光光敏基團，所述紅光光敏基團的吸收波長等于紅光波長，所述綠光光敏基團的吸收波長等于綠光波長，所述藍光光敏基團的吸收波長等于藍光波長；
[0016]所述通過一次構(gòu)圖工藝對所述光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，包括:
[0017]采用白光光源和偏振掩膜版對所述光致色樹脂層進行曝光處理，使所述光致色樹脂層形成非曝光區(qū)域、第一曝光區(qū)域、第二曝光區(qū)域和第三曝光區(qū)域，所述偏振掩膜版包括遮光區(qū)域、第一透光區(qū)域、第二透光區(qū)域和第三透光區(qū)域，所述第一透光區(qū)域設(shè)置有第一偏振片，所述第二透光區(qū)域設(shè)置有第二偏振片，所述第三透光區(qū)域設(shè)置有第三偏振片，所述第一偏振片的偏振方向與紅光的振動方向相同，所述第二偏振片的偏振方向與綠光的振動方向相同，所述第三偏振片的偏振方向與藍光的振動方向相同，所述非曝光區(qū)域與所述遮光區(qū)域?qū)?yīng)，所述第一曝光區(qū)域與所述第一偏振片對應(yīng)，所述第二曝光區(qū)域與所述第二偏振片對應(yīng)，所述第三曝光區(qū)域與所述第三偏振片對應(yīng)；
[0018]對曝光后的所述光致色樹脂層進行顯影處理，使所述非曝光區(qū)域的光致色樹脂層去除，所述第一曝光區(qū)域、所述第二曝光區(qū)域和所述第三曝光區(qū)域的光致色樹脂層保留，得到所述彩色濾光層。
[0019]可選地，所述多種濾光單元包括紅色濾光單元、綠色濾光單元和藍色濾光單元；
[0020]所述多種不同吸收波長的光敏基團包括:紅光光敏基團、綠光光敏基團和藍光光敏基團，所述紅光光敏基團的吸收波長等于紅光波長，所述綠光光敏基團的吸收波長等于綠光波長，所述藍光光敏基團的吸收波長等于藍光波長；
[0021]所述通過多次構(gòu)圖工藝對所述光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，包括:
[0022]采用紅光光源和第一掩膜版對所述光致色樹脂層進行曝光處理，使所述光致色樹脂層形成非曝光區(qū)域和第一曝光區(qū)域，所述第一掩膜版包括遮光區(qū)域和第一透光區(qū)域，所述第一曝光區(qū)域與所述第一透光區(qū)域?qū)?yīng)，所述非曝光區(qū)域與所述遮光區(qū)域?qū)?yīng)；
[0023]采用綠光光源和第二掩膜版對所述光致色樹脂層進行曝光處理，使所述光致色樹脂層形成非曝光區(qū)域和第二曝光區(qū)域，所述第二掩膜版包括遮光區(qū)域和第二透光區(qū)域，所述第二曝光區(qū)域與所述第二透光區(qū)域?qū)?yīng)，所述非曝光區(qū)域與所述遮光區(qū)域?qū)?yīng)；
[0024]采用藍光光源和第三掩膜版對所述光致色樹脂層進行曝光處理，使所述光致色樹脂層形成非曝光區(qū)域和第三曝光區(qū)域，所述第三掩膜版包括遮光區(qū)域和第三透光區(qū)域，所述第三曝光區(qū)域與所述第三透光區(qū)域?qū)?yīng)，所述非曝光區(qū)域與所述遮光區(qū)域?qū)?yīng)；
[0025]對曝光后的所述光致色樹脂層進行顯影處理，使所述非曝光區(qū)域的光致色樹脂層去除，所述第一曝光區(qū)域、所述第二曝光區(qū)域和所述第三曝光區(qū)域的光致色樹脂層保留，得到所述彩色濾光層。
[0026]可選地，所述采用白光光源和偏振掩膜版對所述光致色樹脂層進行曝光處理，包括:
[0027]將所述偏振掩膜版設(shè)置在所述光致色樹脂層的上方，使所述遮光區(qū)域在所述襯底基板上的正投影與所述黑矩陣在所述襯底基板上的正投影重合；
[0028]采用所述白光光源照射所述偏振掩膜版，使所述白光光源的光線分別透過所述第一偏振片、所述第二偏振片和所述第三偏振片照射到所述光致色樹脂層上；
[0029]其中，所述光致色樹脂層上與所述第一偏振片對應(yīng)的區(qū)域中的紅光光敏基團吸收透過所述第一偏振片的光線形成所述第一曝光區(qū)域，所述光致色樹脂層上與所述第二偏振片對應(yīng)的區(qū)域中的綠光光敏基團吸收透過所述第二偏振片的光線形成所述第二曝光區(qū)域，所述光致色樹脂層上與所述第三偏振片對應(yīng)的區(qū)域中的藍光光敏基團吸收透過所述第三偏振片的光線形成所述第三曝光區(qū)域。
[0030]可選地，在所述通過構(gòu)圖工藝對所述光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層之后，所述方法還包括:
[0031]在形成有所述彩色濾光層的襯底基板上依次形成上覆蓋層、公共電極層和隔墊物PS層。
[0032]第二方面，提供一種采用第一方面所述的方法制造的彩膜基板，所述彩膜基板包括:襯底基板，
[0033]所述襯底基板上形成彩色濾光層，所述彩色濾光層包括多種濾光單元，所述彩色濾光層中任意相鄰的兩個濾光單元之間設(shè)置有黑矩陣。
[0034]可選地，所述多種濾光單元包括紅色濾光單元、綠色濾光單元和藍色濾光單元。
[0035]可選地，形成有所述彩色濾光層的襯底基板上依次形成有上覆蓋層、公共電極層和隔墊物PS層。
[0036]第三方面，提供一種掩膜版，所述掩膜版包括:遮光區(qū)域和透光區(qū)域，所述透光區(qū)域設(shè)置有偏振片。
[0037]可選地，所述掩膜版包括:遮光區(qū)域和多種透光區(qū)域，每種所述透光區(qū)域設(shè)置有一種偏振片，且所述多種透光區(qū)域中任意兩種透光區(qū)域的偏振片的偏振方向不同。
[0038]可選地，所述多種透光區(qū)域包括:第一透光區(qū)域、第二透光區(qū)域和第三透光區(qū)域；
[0039]所述第一透光區(qū)域設(shè)置有第一偏振片，所述第二透光區(qū)域設(shè)置有第二偏振片，所述第三透光區(qū)域設(shè)置有第三偏振片，所述第一偏振片的偏振方向與紅光的振動方向相同，所述第二偏振片的偏振方向與綠光的振動方向相同，所述第三偏振片的偏振方向與藍光的振動方向相同。
[0040]第四方面，提供一種掩膜版的制造方法，用于制造第三方面所述的掩膜版，所述方法包括:
[0041]在掩膜版上形成遮光區(qū)域和透光區(qū)域；
[0042]提供偏振片；
[0043]將所述偏振片設(shè)置在所述透光區(qū)域上。
[0044]可選地，所述掩膜版包括:遮光區(qū)域和多種透光區(qū)域，每種所述透光區(qū)域設(shè)置有一種偏振片，且所述多種透光區(qū)域中任意兩種透光區(qū)域的偏振片的偏振方向不同，
[0045]所述在掩膜版上形成遮光區(qū)域和透光區(qū)域，包括:
[0046]在所述掩膜版上形成遮光區(qū)域和多種透光區(qū)域；
[0047]所述提供偏振片，包括:
[0048]提供多種偏振片，所述多種偏振片中任意兩種偏振片的偏振方向不同；
[0049]所述將所述偏振片設(shè)置在所述透光區(qū)域上，包括:
[0050]將所述多種偏振片設(shè)置在所述多種透光區(qū)域上，使每種所述透光區(qū)域?qū)?yīng)一種偏振片O
[0051]可選地，所述多種透光區(qū)域包括:第一透光區(qū)域、第二透光區(qū)域和第三透光區(qū)域；
[0052]所述多種偏振片包括:第一偏振片、第二偏振片和第三偏振片，所述第一偏振片的偏振方向與紅光的振動方向相同，所述第二偏振片的偏振方向與綠光的振動方向相同，所述第三偏振片的偏振方向與藍光的振動方向相同；
[0053]所述將所述多種偏振片設(shè)置在所述多種透光區(qū)域上，使每種所述透光區(qū)域?qū)?yīng)一種偏振片，包括:
[0054]將所述第一偏振片、所述第二偏振片和所述第三偏振片依次設(shè)置在所述第一透光區(qū)域、所述第二透光區(qū)域和所述第三透光區(qū)域上。
[0055]第五方面，提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包括:第二方面所述的彩膜基板。
[0056]本發(fā)明提供的技術(shù)方案帶來的有益效果是:
[0057]本發(fā)明提供的彩膜基板及其制造方法、掩膜版及其制造方法、顯示裝置，彩膜基板的制造方法包括:采用光致色樹脂材料在襯底基板上形成光致色樹脂層，光致色樹脂材料含有多種不同吸收波長的光敏基團；通過構(gòu)圖工藝對光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，彩色濾光層包括多種濾光單元，彩色濾光層中任意相鄰的兩個濾光單元之間設(shè)置有黑矩陣。由于經(jīng)過一次涂覆和構(gòu)圖工藝處理就能形成彩色濾光層，因此，解決了相關(guān)技術(shù)中彩色濾光層的形成過程復(fù)雜的導(dǎo)致彩膜基板的制造過程復(fù)雜的問題，達到了簡化彩色濾光層的形成過程，進而簡化彩膜基板的制造過程的效果。
[0058]應(yīng)當(dāng)理解的是，以上的一般描述和后文的細節(jié)描述僅是示例性的，并不能限制本發(fā)明。
【附圖說明】
[0059]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0060]圖1是相關(guān)技術(shù)提供的一種彩膜基板的制造流程示意圖；
[0061 ]圖2是本發(fā)明實施例提供的一種彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0062]圖3是本發(fā)明實施例提供的一種掩膜版的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0063 ]圖4是圖3所示的掩膜版的俯視圖；
[0064]圖5-1是本發(fā)明實施例提供的一種掩膜版的制造方法的流程圖；
[0065]圖5-2是圖5-1所示實施例提供的一種在掩膜版上形成遮光區(qū)域和透光區(qū)域后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0066]圖5-3是圖5-2的俯視圖；
[0067]圖6是本發(fā)明實施例提供的一種彩膜基板的制造方法的流程圖；
[0068]圖7-1是本發(fā)明實施例提供的另一種彩膜基板的制造方法的流程圖；
[0069]圖7-2是圖7-1所示實施例提供的一種在襯底基板上形成黑矩陣后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0070]圖7-3是圖7-1所示實施例提供的一種在形成有黑矩陣的襯底基板上形成光致色樹脂層后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0071]圖7-4是圖7-1所示實施例提供的一種通過一次構(gòu)圖工藝對光致色樹脂層進行處理的方法流程圖；
[0072]圖7-5是圖7-1所示實施例提供的一種采用白光光源和偏振掩膜版對光致色樹脂層進行曝光處理的方法流程圖；
[0073]圖7-6是圖7-1所示實施例提供的將掩膜版設(shè)置在光致色樹脂層的上方的示意圖；
[0074]圖7-7是圖7-1所示實施例提供的采用白光光源照射掩膜版的示意圖；
[0075]圖7-8是圖7-1所示實施例提供的一種對曝光后的光致色樹脂層進行顯影處理后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0076]圖7-9是圖7-1所示實施例提供的一種在形成有彩色濾光層的襯底基板上形成上覆蓋層后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0077]圖7-10是圖7-1所示實施例提供的一種在形成有上覆蓋層的襯底基板上形成公共電極層后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0078]圖8-1是本發(fā)明實施例提供的再一種彩膜基板的制造方法的流程圖；
[0079]圖8-2是圖8-1所示實施例提供的一種通過多次構(gòu)圖工藝對光致色樹脂層進行處理的方法流程圖；
[0080]圖8-3是圖8-1所示實施例提供的一種采用紅光光源和第一掩膜版對光致色樹脂層進行曝光處理的示意圖；
[0081]圖8-4是圖8-1所示實施例提供的一種采用綠光光源和第二掩膜版對光致色樹脂層進行曝光處理的示意圖；
[0082]圖8-5是圖8-1所示實施例提供的一種采用藍光光源和第三掩膜版對光致色樹脂層進行曝光處理的示意圖。
[0083]此處的附圖被并入說明書中并構(gòu)成本說明書的一部分，示出了符合本發(fā)明的實施例，并與說明書一起用于解釋本發(fā)明的原理。
【具體實施方式】
[0084]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步地詳細描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部份實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0085]請參考圖1，其示出了相關(guān)技術(shù)提供的一種彩膜基板的制造流程示意圖，其中，彩膜基板可以包括襯底基板和依次形成在襯底基板上的黑矩陣、彩色濾光層、上覆蓋層、公共電極層和PS層，彩色濾光層包括紅色濾光單元、綠色濾光單元和藍色濾光單元，任意相鄰的兩個濾光單元之間設(shè)置有黑矩陣。參見圖1，彩膜基板的具體形成過程可以包括如下19個工藝步驟:
[0086](I)清洗襯底基板，(2)形成黑色樹脂層，(3)對黑色樹脂層進行曝光，(4)對曝光后的黑色樹脂層進行顯影得到黑矩陣，(5)涂覆紅色樹脂材料得到紅色樹脂層，(6)對紅色樹脂層進行曝光，(7)對曝光后的紅色樹脂層進行顯影得到紅色濾光單元，(8)涂覆綠色樹脂材料得到綠色樹脂層，(9)對綠色樹脂層進行曝光，(10)對曝光后的綠色樹脂層進行顯影得到綠色濾光單元，(11)涂覆藍色樹脂材料得到藍色樹脂層，(12)對藍色樹脂層進行曝光，
(13)對曝光后的藍色樹脂層進行顯影得到藍色濾光單元，(14)形成上覆蓋層，(15)形成公共電極層，(16)形成PS樹脂層，(17)對PS樹脂層進行曝光，(18)對曝光后的PS樹脂層進行顯影得到PS，( 19)得到成品彩膜基板。
[0087]其中，在上述19個工藝步驟中，步驟(2)至(4)用于形成黑矩陣，步驟(5)至(13)用于形成彩色濾光層，步驟(14)用于形成上覆蓋層，步驟(15)用于形成公共電極層，步驟(16)至(18)用于形成PS。在上述步驟(5)至(13)中，步驟(5)至(7)用于形成紅色濾光單元，步驟
(8)至(10)用于形成綠色濾光單元，步驟(11)至(13)用于形成藍色濾光單元。參見以上可知，在形成彩色濾光層的過程中，需要進行三次涂覆，因此，彩色濾光層的形成過程復(fù)雜，導(dǎo)致彩膜基板的制造過程復(fù)雜。
[0088]請參考圖2，其示出的是本發(fā)明實施例提供的一種彩膜基板01的結(jié)構(gòu)示意圖，參見圖2，彩膜基板OI包括襯底基板010，襯底基板010上形成有彩色濾光層012，彩色濾光層012包括多種濾光單元，彩色濾光層中任意相鄰的兩個濾光單元之間設(shè)置有黑矩陣011。其中，襯底基板010可以為透明基板，其具體可以是采用玻璃、石英、透明樹脂等具有一定堅固性的導(dǎo)光且非金屬材料制成的基板。
[0089]可選地，如圖2所示，多種濾光單元包括紅色濾光單元0121、綠色濾光單元0122和藍色濾光單元0123。
[0090]進一步地，如圖2所示，形成有彩色濾光層012的襯底基板010上依次形成有上覆蓋層013、公共電極層014和PS層015。
[0091]綜上所述，本發(fā)明實施例提供的彩膜基板包括彩色濾光層，該彩色濾光層的多種濾光單元可以采用一次涂覆和構(gòu)圖工藝形成，因此，解決了相關(guān)技術(shù)中彩色濾光層的形成過程復(fù)雜，導(dǎo)致彩膜基板的制造過程復(fù)雜的問題，達到了簡化彩色濾光層的形成過程，進而簡化彩膜基板的制造過程的效果。
[0092]請參考圖3和圖4，其示出了本發(fā)明實施例提供的一種掩膜版02的結(jié)構(gòu)示意圖，其中，圖3為掩膜版O2的剖面圖，圖4為圖3的俯視圖，參見圖3和圖4，該掩膜版02包括:遮光區(qū)域021和透光區(qū)域(圖3中未標(biāo)出)，透光區(qū)域設(shè)置有偏振片022。
[0093]進一步地，掩膜版02包括:遮光區(qū)域021和多種透光區(qū)域(圖3中未標(biāo)出)，每種透光區(qū)域設(shè)置有一種偏振片，且多種透光區(qū)域中任意兩種透光區(qū)域的偏振片的偏振方向不同。
[0094]示例地，如圖3和4所示，多種透光區(qū)域包括:第一透光區(qū)域(圖3和圖4中未標(biāo)出)、第二透光區(qū)域(圖3和圖4中未標(biāo)出)和第三透光區(qū)域(圖3和圖4中未標(biāo)出)；第一透光區(qū)域設(shè)置有第一偏振片0221、第二透光區(qū)域設(shè)置有第二偏振片0222、第三透光區(qū)域設(shè)置有第三偏振片0223，第一偏振片0221的偏振方向與紅光的振動方向相同，第二偏振片0222的偏振方向與綠光的振動方向相同，第三偏振片0223的偏振方向與藍光的振動方向相同。
[0095]綜上所述，本發(fā)明實施例提供的掩膜版，包括遮光區(qū)域和透光區(qū)域，透光區(qū)域設(shè)置有偏光片，偏光片可以對光線進行篩選，進而采用該掩膜版進行曝光時可以通過一次涂覆和構(gòu)圖工藝形成彩膜基板的彩色濾光層，因此，解決了相關(guān)技術(shù)中彩色濾光層的形成過程復(fù)雜，導(dǎo)致彩膜基板的制造過程復(fù)雜的問題，達到了簡化彩色濾光層的形成過程，進而簡化彩膜基板的制造過程的效果。
[0096]本發(fā)明實施例提供的掩膜版可以應(yīng)用于下文的方法，本發(fā)明實施例中掩膜版的制造方法和制造原理可以參見下文各實施例中的描述。
[0097]請參考圖5-1，其示出了本發(fā)明實施例提供的一種掩膜版的制造方法的流程圖，該掩膜版的制造方法可以用于制造圖3和圖4所示的掩膜版。參見圖5-1，該方法可以包括:
[0098]步驟501、在掩膜版上形成遮光區(qū)域和透光區(qū)域。
[0099]步驟502、提供偏振片。
[0100]步驟503、將偏振片設(shè)置在透光區(qū)域上。
[0101]可選地，掩膜版包括:遮光區(qū)域和多種透光區(qū)域，可以提供多種偏振片，且使多種偏振片中任意兩種偏振片的偏振方向不同，然后在每種透光區(qū)域上設(shè)置一種偏振片。
[0102]示例地，多種透光區(qū)域包括:第一透光區(qū)域、第二透光區(qū)域和第三透光區(qū)域；多種偏振片包括:第一偏振片、第二偏振片和第三偏振片，第一偏振片的偏振方向與紅光的振動方向相同，第二偏振片的偏振方向與綠光的振動方向相同，第三偏振片的偏振方向與藍光的振動方向相同；
[0103]因此，如圖5-2和圖5-3所示，其中，圖5-2為掩膜版的剖面圖，圖5-3為圖5-2的俯視圖，可以在掩膜版上形成遮光區(qū)域Z、第一透光區(qū)域Tl、第二透光區(qū)域T2和第三透光區(qū)域T3，然后將第一偏振片、第二偏振片和第三偏振片依次設(shè)置在第一透光區(qū)域Tl、第二透光區(qū)域T2和第三透光區(qū)域T3上。其中，將第一偏振片、第二偏振片和第三偏振片依次設(shè)置在第一透光區(qū)域Tl、第二透光區(qū)域T2和第三透光區(qū)域T3上后的示意圖可以參考圖3和圖4，本發(fā)明實施例在此不再贅述。
[0104]綜上所述，本發(fā)明實施例提供的掩膜版的制造方法制造的掩膜版，包括遮光區(qū)域和透光區(qū)域，透光區(qū)域設(shè)置有偏光片，偏光片可以對光線進行篩選，進而采用該掩膜版進行曝光時可以通過一次涂覆和構(gòu)圖工藝形成彩膜基板的彩色濾光層，因此，解決了相關(guān)技術(shù)中彩色濾光層的形成過程復(fù)雜，導(dǎo)致彩膜基板的制造過程復(fù)雜的問題，達到了簡化彩色濾光層的形成過程，進而簡化彩膜基板的制造過程的效果。
[0105]本發(fā)明實施例提供的彩膜基板可以應(yīng)用于下文的方法，本發(fā)明實施例中彩膜基板的制造方法和制造原理可以參見下文各實施例中的描述。
[0106]請參考圖6，其示出了本發(fā)明實施例提供的一種彩膜基板的制造方法的流程圖，該彩膜基板的制造方法可以用于制造圖2所示的彩膜基板。參見圖6，該方法可以包括:
[0107]步驟601、采用光致色樹脂材料在襯底基板上形成光致色樹脂層，光致色樹脂材料含有多種不同吸收波長的光敏基團。
[0108]步驟602、通過構(gòu)圖工藝對光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，彩色濾光層包括多種濾光單元，彩色濾光層中任意相鄰的兩個濾光單元之間設(shè)置有黑矩陣。
[0109]綜上所述，本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制造方法，通過采用光致色樹脂材料在襯底基板上形成光致色樹脂層，光致色樹脂材料含有多種不同吸收波長的光敏基團，通過構(gòu)圖工藝對光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，彩色濾光層包括多種濾光單元。由于采用一次涂覆和構(gòu)圖工藝就可以形成彩色濾光層，因此，解決了相關(guān)技術(shù)中彩色濾光層的形成過程復(fù)雜，導(dǎo)致彩膜基板的制造過程復(fù)雜的問題，達到了簡化彩色濾光層的形成過程，進而簡化彩膜基板的制造過程的效果。
[0110]可選地，步驟602可以包括:
[0111]通過一次構(gòu)圖工藝對光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層;或者，
[0112]通過多次構(gòu)圖工藝對光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層。
[0113]可選地，多種濾光單元包括紅色濾光單元、綠色濾光單元和藍色濾光單元；
[0114]多種不同吸收波長的光敏基團包括:紅光光敏基團、綠光光敏基團和藍光光敏基團，紅光光敏基團的吸收波長等于紅光波長，綠光光敏基團的吸收波長等于綠光波長，藍光光敏基團的吸收波長等于藍光波長；
[0115]通過一次構(gòu)圖工藝對光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，包括:
[0116]采用白光光源和偏振掩膜版對光致色樹脂層進行曝光處理，使光致色樹脂層形成非曝光區(qū)域、第一曝光區(qū)域、第二曝光區(qū)域和第三曝光區(qū)域，偏振掩膜版包括遮光區(qū)域、第一透光區(qū)域、第二透光區(qū)域和第三透光區(qū)域，第一透光區(qū)域設(shè)置有第一偏振片，第二透光區(qū)域設(shè)置有第二偏振片，第三透光區(qū)域設(shè)置有第三偏振片，第一偏振片的偏振方向與紅光的振動方向相同，第二偏振片的偏振方向與綠光的振動方向相同，第三偏振片的偏振方向與藍光的振動方向相同，非曝光區(qū)域與遮光區(qū)域?qū)?yīng)，第一曝光區(qū)域與第一偏振片對應(yīng)，第二曝光區(qū)域與第二偏振片對應(yīng)，第三曝光區(qū)域與第三偏振片對應(yīng)；
[0117]對曝光后的光致色樹脂層進行顯影處理，使非曝光區(qū)域的光致色樹脂層去除，第一曝光區(qū)域、第二曝光區(qū)域和第三曝光區(qū)域的光致色樹脂層保留，得到彩色濾光層。
[0118]可選地，多種濾光單元包括紅色濾光單元、綠色濾光單元和藍色濾光單元；
[0119]多種不同吸收波長的光敏基團包括:紅光光敏基團、綠光光敏基團和藍光光敏基團，紅光光敏基團的吸收波長等于紅光波長，綠光光敏基團的吸收波長等于綠光波長，藍光光敏基團的吸收波長等于藍光波長；
[0120]通過多次構(gòu)圖工藝對光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，包括:
[0121]采用紅光光源和第一掩膜版對光致色樹脂層進行曝光處理，使光致色樹脂層形成非曝光區(qū)域和第一曝光區(qū)域，第一掩膜版包括遮光區(qū)域和第一透光區(qū)域，第一曝光區(qū)域與第一透光區(qū)域?qū)?yīng)，非曝光區(qū)域與遮光區(qū)域?qū)?yīng)；
[0122]采用綠光光源和第二掩膜版對光致色樹脂層進行曝光處理，使光致色樹脂層形成非曝光區(qū)域和第二曝光區(qū)域，第二掩膜版包括遮光區(qū)域和第二透光區(qū)域，第二曝光區(qū)域與第二透光區(qū)域?qū)?yīng)，非曝光區(qū)域與遮光區(qū)域?qū)?yīng)；
[0123]采用藍光光源和第三掩膜版對光致色樹脂層進行曝光處理，使光致色樹脂層形成非曝光區(qū)域和第三曝光區(qū)域，第三掩膜版包括遮光區(qū)域和第三透光區(qū)域，第三曝光區(qū)域與第三透光區(qū)域?qū)?yīng)，非曝光區(qū)域與遮光區(qū)域?qū)?yīng)；
[0124]對曝光后的光致色樹脂層進行顯影處理，使非曝光區(qū)域的光致色樹脂層去除，第一曝光區(qū)域、第二曝光區(qū)域和第三曝光區(qū)域的光致色樹脂層保留，得到彩色濾光層。
[0125]可選地，采用白光光源和偏振掩膜版對光致色樹脂層進行曝光處理，包括:
[0126]將偏振掩膜版設(shè)置在光致色樹脂層的上方，使遮光區(qū)域在襯底基板上的正投影與黑矩陣在襯底基板上的正投影重合；
[0127]米用白光光源照射偏振掩膜版，使白光光源的光線分別透過第一偏振片、第二偏振片和第三偏振片照射到光致色樹脂層上；
[0128]其中，光致色樹脂層上與第一偏振片對應(yīng)的區(qū)域中的紅光光敏基團吸收透過第一偏振片的光線形成第一曝光區(qū)域，光致色樹脂層上與第二偏振片對應(yīng)的區(qū)域中的綠光光敏基團吸收透過第二偏振片的光線形成第二曝光區(qū)域，光致色樹脂層上與第三偏振片對應(yīng)的區(qū)域中的藍光光敏基團吸收透過第三偏振片的光線形成第三曝光區(qū)域。
[0129]可選地，在步驟602之后，該方法還可以包括:
[0130]在形成有彩色濾光層的襯底基板上依次形成上覆蓋層、公共電極層和隔墊物PS層。
[0131]綜上所述，本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制造方法，通過采用光致色樹脂材料在襯底基板上形成光致色樹脂層，光致色樹脂材料含有多種不同吸收波長的光敏基團，通過構(gòu)圖工藝對光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，彩色濾光層包括多種濾光單元。由于采用一次涂覆和構(gòu)圖工藝就可以形成彩色濾光層，因此，解決了相關(guān)技術(shù)中彩色濾光層的形成過程復(fù)雜，導(dǎo)致彩膜基板的制造過程復(fù)雜的問題，達到了簡化彩色濾光層的形成過程，進而簡化彩膜基板的制造過程的效果。
[0132]請參考圖7-1，其示出了本發(fā)明實施例提供的另一種彩膜基板的制造方法的流程圖，該彩膜基板的制造方法可以用于制造圖2所示的彩膜基板。參見圖7-1，該方法可以包括:
[0133]步驟701、在襯底基板上形成黑矩陣。
[0134]不例地，請參考圖7_2，其不出的是圖7_1所不實施例提供的一種在襯底基板010上形成黑矩陣011后的結(jié)構(gòu)示意圖。其中，襯底基板010可以為透明基板，其具體可以是采用玻璃、石英、透明樹脂等具有一定堅固性的導(dǎo)光且非金屬材料制成的基板。黑矩陣011可以采用黑色樹脂材料形成，黑矩陣011的厚度可以根據(jù)實際需要設(shè)置，本發(fā)明實施例對此不作限定。
[0135]示例地，可以在襯底基板010上涂覆一層黑色樹脂材料，得到黑色樹脂層，然后采用掩膜版對黑色樹脂層進行曝光，使黑色樹脂層形成完全曝光區(qū)和非曝光區(qū)，之后采用顯影工藝處理，使完全曝光區(qū)的黑色樹脂被完全去除，非曝光區(qū)的黑色樹脂全部保留得到黑矩陣011。
[0136]需要說明的是，在本發(fā)明實施例中，黑色樹脂材料可以是黑色光刻膠，本發(fā)明實施例是以采用正性光刻膠形成黑矩陣011為例進行說明的，實際應(yīng)用中，還可以采用負性光刻膠形成黑矩陣011，本發(fā)明實施例對此不做限定。
[0137]步驟702、采用光致色樹脂材料在形成有黑矩陣的襯底基板上形成光致色樹脂層，光致色樹脂材料含有多種不同吸收波長的光敏基團。
[0138]示例地，請參考圖7-3，其示出的是圖7-1所示實施例提供的一種采用光致色樹脂材料在形成有黑矩陣011的襯底基板010上形成光致色樹脂層G后的結(jié)構(gòu)示意圖。其中，光致色樹脂材料含有多種不同吸收波長的光敏基團，每種光敏基團可以對波長等于其吸收波長的光線進行吸收從而使光致色樹脂層呈現(xiàn)相應(yīng)的顏色?？蛇x地，多種不同吸收波長的光敏基團可以包括:紅光光敏基團、綠光光敏基團和藍光光敏基團，紅光光敏基團的吸收波長等于紅光波長，綠光光敏基團的吸收波長等于綠光波長，藍光光敏基團的吸收波長等于藍光波長。紅光光敏基團可以對紅光進行吸收使光致色樹脂層呈現(xiàn)紅色，藍光光敏基團可以對藍光進行吸收使光致色樹脂層呈現(xiàn)藍色，綠光光敏基團可以對綠光進行吸收使光致色樹脂層呈現(xiàn)綠色。
[0139]在本發(fā)明實施例中，可以采用涂覆的方式在形成有黑矩陣011的襯底基板010上形成光致色樹脂層G，該光致色樹脂層G的厚度可以根據(jù)實際需要設(shè)置，本發(fā)明實施例對此不作限定。
[0140]步驟703、通過一次構(gòu)圖工藝對光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，彩色濾光層包括多種濾光單元，彩色濾光層中任意相鄰的兩個濾光單元之間設(shè)置有黑矩陣。
[0141 ]本發(fā)明實施例以多種濾光單元包括紅色濾光單元、綠色濾光單元和藍色濾光單元為例進行說明。示例地，請參考圖7-4，其示出的是圖7-1所示實施例提供的一種通過一次構(gòu)圖工藝對光致色樹脂層進行處理的方法流程圖，參見圖7-4，該方法可以包括:
[0142]子步驟7031、采用白光光源和偏振掩膜版對光致色樹脂層進行曝光處理，使光致色樹脂層形成非曝光區(qū)域、第一曝光區(qū)域、第二曝光區(qū)域和第三曝光區(qū)域，偏振掩膜版包括遮光區(qū)域、第一透光區(qū)域、第二透光區(qū)域和第三透光區(qū)域，第一透光區(qū)域設(shè)置有第一偏振片，第二透光區(qū)域設(shè)置有第二偏振片，第三透光區(qū)域設(shè)置有第三偏振片，第一偏振片的偏振方向與紅光的振動方向相同，第二偏振片的偏振方向與綠光的振動方向相同，第三偏振片的偏振方向與藍光的振動方向相同，非曝光區(qū)域與遮光區(qū)域?qū)?yīng)，第一曝光區(qū)域與第一偏振片對應(yīng)，第二曝光區(qū)域與第二偏振片對應(yīng)，第三曝光區(qū)域與第三偏振片對應(yīng)。
[0143]示例地，請參考圖7-5，其示出的是圖7-1所示實施例提供的一種采用白光光源和偏振掩膜版對光致色樹脂層進行曝光處理的方法流程圖，參見圖7-5，該方法可以包括:
[0144]子步驟70311、將偏振掩膜版設(shè)置在光致色樹脂層的上方，使遮光區(qū)域在襯底基板上的正投影與黑矩陣在襯底基板上的正投影重合。
[0145]其中，偏振掩膜版可以為圖3或圖4所示的掩膜版02，參見圖3和圖4，掩膜版02包括:遮光區(qū)域021、第一透光區(qū)域、第二透光區(qū)域和第三透光區(qū)域，第一透光區(qū)域設(shè)置有第一偏振片0221，第二透光區(qū)域設(shè)置有第二偏振片0222，第三透光區(qū)域設(shè)置有第三偏振片0223，第一偏振片0221的偏振方向與紅光的振動方向相同，第二偏振片0222的偏振方向與綠光的振動方向相同，第三偏振片0223的偏振方向與藍光的振動方向相同。
[0146]在本發(fā)明實施例中，可以將偏振掩膜版設(shè)置在光致色樹脂層的上方，使遮光區(qū)域在襯底基板上的正投影與黑矩陣在襯底基板上的正投影重合。示例地，請參考圖7-6，其示出的是圖7-1所示實施例提供的將掩膜版02設(shè)置在光致色樹脂層G的上方的示意圖，參見圖7-6，將掩膜版02設(shè)置在光致色樹脂層G的上方后，遮光區(qū)域021位于黑矩陣011的上方，第一偏振片0221、第二偏振片0222和第三偏振片0223都位于除黑矩陣011之外的區(qū)域的上方。優(yōu)選地，遮光區(qū)域021在襯底基板010上的正投影與黑矩陣011在襯底基板010上的正投影重合，具體地，遮光區(qū)域021與黑矩陣011對應(yīng)，第一偏振片0221與待形成的紅色濾光單元對應(yīng)，第二偏振片0222與待形成的綠色濾光單元對應(yīng)，第三偏振片0223與待形成的藍色色濾光單元對應(yīng)，本發(fā)明實施例在此不再贅述。
[0147]子步驟70312、采用白光光源照射偏振掩膜版，使白光光源的光線分別透過第一偏振片、第二偏振片和第三偏振片照射到光致色樹脂層上。
[0148]在本發(fā)明實施例中，白光光源可以為發(fā)出的光線為白色光線的光源，白光光源的形式多種多樣，包括點狀光源、板狀光源等等，其具體結(jié)構(gòu)可以參考相關(guān)技術(shù)，本發(fā)明實施例在此不再贅述。
[0149]將偏振掩膜版設(shè)置在光致色樹脂層的上方后，可以采用白光光源照射偏振掩膜版，使光致色樹脂層上與第一偏振片對應(yīng)的區(qū)域中的紅光光敏基團吸收透過第一偏振片的光線形成第一曝光區(qū)域，光致色樹脂層上與第二偏振片對應(yīng)的區(qū)域中的綠光光敏基團吸收透過第二偏振片的光線形成第二曝光區(qū)域，光致色樹脂層上與第三偏振片對應(yīng)的區(qū)域中的藍光光敏基團吸收透過第三偏振片的光線形成第三曝光區(qū)域。
[0150]示例地，請參考圖7-7，其示出的是圖7-1所示實施例提供的采用白光光源03照射掩膜版02的示意圖。可以將白光光源03設(shè)置在掩膜版02的上方來對掩膜版02進行照射。其中，由于掩膜版02上的第一偏振片0221的偏振方向與紅光的振動方向相同，第二偏振片0222的偏振方向與綠光的振動方向相同，第三偏振片0223的偏振方向與藍光的振動方向相同，因此采用白光光源03照射掩膜版02時，白光光源03中的紅光可以通過第一偏振片0221透過掩膜版02照射到光致色樹脂層G上并與光致色樹脂層G中的紅光光敏基團發(fā)生反應(yīng)，并被紅光光敏基團吸收，光致色樹脂層G上吸收紅光的區(qū)域形成第一曝光區(qū)域Gl，白光光源03中的綠光可以通過第二偏振片0222透過掩膜版02照射到光致色樹脂層G上并與光致色樹脂層G中的綠光光敏基團發(fā)生反應(yīng)，并被綠光光敏基團吸收，光致色樹脂層G上吸收綠光的區(qū)域形成第二曝光區(qū)域G2，白光光源03中的藍光可以通過第三偏振片0223透過掩膜版02照射到光致色樹脂層G上并與光致色樹脂層G中的藍光光敏基團發(fā)生反應(yīng)，并被藍光光敏基團吸收，光致色樹脂層G上吸收藍光的區(qū)域形成第三曝光區(qū)域G3，光致色樹脂層G上未被光線照射的區(qū)域為非曝光區(qū)G4。
[0151]子步驟7032、對曝光后的光致色樹脂層進行顯影處理，使非曝光區(qū)域的光致色樹脂層去除，第一曝光區(qū)域、第二曝光區(qū)域和第三曝光區(qū)域的光致色樹脂層保留，得到彩色濾光層。
[0152]采用白光光源和偏振掩膜版對光致色樹脂層進行曝光處理后，可以對曝光后的光致色樹脂層進行顯影處理，使非曝光區(qū)域的光致色樹脂層去除，第一曝光區(qū)域、第二曝光區(qū)域和第三曝光區(qū)域的光致色樹脂層保留，得到彩色濾光層。其中，顯影的具體實現(xiàn)過程可以參考相關(guān)技術(shù)，本發(fā)明實施例在此不再贅述。
[0153]示例地，請參考圖7-8，其示出的是圖7-1所示實施例提供的一種對曝光后的光致色樹脂層G進行顯影處理后的結(jié)構(gòu)示意圖，參見圖7-8，經(jīng)過顯影處理之后，非曝光區(qū)的光致色樹脂層上被完全去除，第一曝光區(qū)域、第二曝光區(qū)域和第三曝光區(qū)域的光致色樹脂層保留，第一曝光區(qū)域形成紅色濾光單元0121，第二曝光區(qū)域形成綠色濾光單元0122，第三曝光區(qū)域形成藍色濾光單元0123，形成紅色濾光單元0121、綠色濾光單元0122和藍色濾光單元0123后，即可得到彩色濾光層012。
[0154]步驟704、在形成有彩色濾光層的襯底基板上依次形成上覆蓋層、公共電極層和隔墊物PS層。
[0155]在形成有黑矩陣的襯底基板上形成彩色濾光層后，可以在形成有彩色濾光層的襯底基板上依次形成上覆蓋層、公共電極層和PS層。
[0156]示例地，請參考圖7-9，其示出了圖7-1所示實施例提供的一種在形成有彩色濾光層012的襯底基板010上形成上覆蓋層013后的結(jié)構(gòu)示意圖。其中，可以采用涂覆、磁控濺射、熱蒸發(fā)或者等離子體增強化學(xué)氣相沉積法(Plasma Enhanced Chemical VaporDeposit1n;簡稱:PECVD)等方法在形成有彩色濾光層012的襯底基板010上沉積一層樹脂材料，得到上覆蓋層013。實際應(yīng)用中，當(dāng)上覆蓋層013包括圖形時，還可以采用構(gòu)圖工藝對沉積的樹脂材料進行處理，本發(fā)明實施例在此不再贅述。
[0157]示例地，請參考圖7-10，其示出了圖7-1所示實施例提供的一種在形成有上覆蓋層013的襯底基板010上形成公共電極層014后的結(jié)構(gòu)示意圖。其中，可以采用涂覆、磁控濺射、熱蒸發(fā)或者PECVD等方法在形成有上覆蓋層013的襯底基板010沉積一層氧化銦錫(英文:Indium tin oxide;簡稱:ITO)材料得到ITO材質(zhì)層，然后通過一次構(gòu)圖工藝對ITO材質(zhì)層進行處理得到公共電極層014。其中，一次構(gòu)圖工藝包括:光刻膠(英文:Photoresist;簡稱:PR)涂覆、曝光、顯影、刻蝕和光刻膠剝離，因此，通過一次構(gòu)圖工藝對ITO材質(zhì)層進行處理得到公共電極層014可以包括:在ITO材質(zhì)層上涂覆一層具有一定厚度的光刻膠得到光刻膠層，采用掩膜版對光刻膠層進行曝光，使光刻膠層形成完全曝光區(qū)和非曝光區(qū)，之后采用顯影工藝處理，使完全曝光區(qū)的光刻膠被完全去除，非曝光區(qū)的光刻膠全部保留，采用刻蝕工藝對ITO材質(zhì)層上完全曝光區(qū)對應(yīng)的區(qū)域進行刻蝕，之后剝離非曝光區(qū)的光刻膠，ITO材質(zhì)層上非曝光區(qū)對應(yīng)的區(qū)域形成公共電極層014。需要說明的是，本發(fā)明實施例是以采用ITO材料形成公共電極層014為例進行說明的，實際應(yīng)用中，還可以采用氧化銦鋅(英文:Indiumzinc oxide;簡稱:1ZO)等其他材料形成公共電極層014，本發(fā)明實施例對此不作限定。
[0158]示例地，在形成有形成公共電極層014的襯底基板010上形成PS層015后的示意圖可以參考圖2，參見圖2，PS層015上包括多個柱狀的隔墊物。其中，可以采用涂覆、磁控濺射、熱蒸發(fā)或者PECVD等方法在形成有上覆蓋層013的襯底基板010沉積一層樹脂材料得到樹脂材料層，然后通過一次構(gòu)圖工藝對樹脂材料層進行處理得到PS層015，本發(fā)明實施例在此不再贅述。
[0159]綜上所述，本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制造方法，通過采用光致色樹脂材料在襯底基板上形成光致色樹脂層，光致色樹脂材料含有多種不同吸收波長的光敏基團，通過構(gòu)圖工藝對光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，彩色濾光層包括多種濾光單元。由于采用一次涂覆和構(gòu)圖工藝就可以形成彩色濾光層，因此，解決了相關(guān)技術(shù)中彩色濾光層的形成過程復(fù)雜，導(dǎo)致彩膜基板的制造過程復(fù)雜的問題，達到了簡化彩色濾光層的形成過程，進而簡化彩膜基板的制造過程的效果。
[0160]相關(guān)技術(shù)在形成彩色濾光層時，需要進行三次涂覆，導(dǎo)致彩色濾光層的形成過程耗時較長，本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制造方法，通過一次涂覆就可以形成彩色濾光層，因此，彩膜基板的形成過程耗時較短。
[0161]本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制造方法，可以節(jié)省樹脂材料，降低成本，提升工藝效率和產(chǎn)能。
[0162]請參考圖8-1，其示出了本發(fā)明實施例提供的另一種彩膜基板的制造方法的流程圖，該彩膜基板的制造方法可以用于制造圖2所示的彩膜基板。參見圖8-1，該方法可以包括:
[0163]步驟801、在襯底基板上形成黑矩陣。
[0164]步驟802、采用光致色樹脂材料在形成有黑矩陣的襯底基板上形成光致色樹脂層，光致色樹脂材料含有多種不同吸收波長的光敏基團。
[0165]該步驟801和步驟802的具體實現(xiàn)過程可以參考圖7-1所示實施例中的步驟701和步驟702，本發(fā)明實施例在此不再贅述。
[0166]步驟803、通過多次構(gòu)圖工藝對光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，彩色濾光層包括多種濾光單元，彩色濾光層中任意相鄰的兩個濾光單元之間設(shè)置有黑矩陣。
[0167]本發(fā)明實施例以多種濾光單元包括紅色濾光單元、綠色濾光單元和藍色濾光單元為例進行說明。示例地，請參考圖8-2，其示出的是圖8-1所示實施例提供的一種通過多次構(gòu)圖工藝對光致色樹脂層進行處理的方法流程圖，參見圖8-2，該方法可以包括:
[0168]子步驟8031、采用紅光光源和第一掩膜版對光致色樹脂層進行曝光處理，使光致色樹脂層形成非曝光區(qū)域和第一曝光區(qū)域，第一掩膜版包括遮光區(qū)域和第一透光區(qū)域，第一曝光區(qū)域與第一透光區(qū)域?qū)?yīng)，非曝光區(qū)域與遮光區(qū)域?qū)?yīng)。
[0169]在本發(fā)明實施例中，紅光光源可以為發(fā)出的光線為紅色光線的光源，紅光光源的形式多種多樣，包括點狀光源、板狀光源等等;第一掩膜版包括遮光區(qū)域和第一透光區(qū)域，遮光區(qū)域用于對光線進行遮擋，第一透光區(qū)域用于使光線透過第一掩膜版。其中，紅光光源的具體結(jié)構(gòu)和第一掩膜版的具體結(jié)構(gòu)均可以參考相關(guān)技術(shù)，本發(fā)明實施例在此不再贅述。
[0170]可選地，可以將第一掩膜版設(shè)置在光致色樹脂層的上方，然后將紅光光源設(shè)置在第一掩膜版的上方，并照射第一掩膜版，使紅光光源的光線透過第一掩膜版的第一透光區(qū)域照射到光致色樹脂層上。
[0171]示例地，請參考圖8-3，其示出了圖8-1所示實施例提供的一種采用紅光光源041和第一掩膜版051對光致色樹脂層G進行曝光處理的示意圖，參見圖8-3，第一掩膜版051包括遮光區(qū)域0511和第一透光區(qū)域0512，第一透光區(qū)域0512與光致色樹脂層G上待形成的紅色濾光單元對應(yīng)，遮光區(qū)域0511與光致色樹脂層G上除待形成的紅色濾光單元之外的區(qū)域?qū)?yīng)。采用紅光光源041照射第一掩膜版051時，紅光透過第一掩膜版051上的第一透光區(qū)域0512照射到光致色樹脂層G上，并與光致色樹脂層G中的紅光光敏基團發(fā)生反應(yīng)，紅光被紅光光敏基團吸收，光致色樹脂層G上吸收紅光的區(qū)域形成第一曝光區(qū)域(圖8-3中未標(biāo)出)，光致色樹脂層G上未被照射的區(qū)域為非曝光區(qū)域。
[0172]子步驟8032、采用綠光光源和第二掩膜版對光致色樹脂層進行曝光處理，使光致色樹脂層形成非曝光區(qū)域和第二曝光區(qū)域，第二掩膜版包括遮光區(qū)域和第二透光區(qū)域，第二曝光區(qū)域與第二透光區(qū)域?qū)?yīng)，非曝光區(qū)域與遮光區(qū)域?qū)?yīng)。
[0173]在本發(fā)明實施例中，綠光光源可以為發(fā)出的光線為綠色光線的光源，綠光光源的形式多種多樣，包括點狀光源、板狀光源等等;第二掩膜版包括遮光區(qū)域和第二透光區(qū)域，遮光區(qū)域用于對光線進行遮擋，第二透光區(qū)域用于使光線透過第一掩膜版。其中，綠光光源的具體結(jié)構(gòu)和第二掩膜版的具體結(jié)構(gòu)均可以參考相關(guān)技術(shù)，本發(fā)明實施例在此不再贅述。
[0174]可選地，可以將第二掩膜版設(shè)置在光致色樹脂層的上方，然后將綠光光源設(shè)置在第二掩膜版的上方，并照射第二掩膜版，使綠光光源的光線透過第二掩膜版的第二透光區(qū)域照射到光致色樹脂層上。
[0175]不例地，請參考圖8_4，其不出了圖8_1所不實施例提供的一種米用綠光光源042和第二掩膜版052對光致色樹脂層G進行曝光處理的示意圖，參見圖8-4，第二掩膜版052包括遮光區(qū)域0521和第二透光區(qū)域0522，第二透光區(qū)域0522與光致色樹脂層G上待形成的綠色濾光單元對應(yīng)，遮光區(qū)域0521與光致色樹脂層G上除待形成的綠色濾光單元之外的區(qū)域?qū)?yīng)。采用綠光光源042照射第二掩膜版052時，綠光透過第二掩膜版052上的第二透光區(qū)域0522照射到光致色樹脂層G上，并與光致色樹脂層G中的綠光光敏基團發(fā)生反應(yīng)，綠光被綠光光敏基團吸收，光致色樹脂層G上吸收綠光的區(qū)域形成第二曝光區(qū)域(圖8-4中未標(biāo)出)，光致色樹脂層G上未被照射的區(qū)域為非曝光區(qū)域。
[0176]子步驟8033、采用藍光光源和第三掩膜版對光致色樹脂層進行曝光處理，使光致色樹脂層形成非曝光區(qū)域和第三曝光區(qū)域，第三掩膜版包括遮光區(qū)域和第三透光區(qū)域，第三曝光區(qū)域與第三透光區(qū)域?qū)?yīng)，非曝光區(qū)域與遮光區(qū)域?qū)?yīng)。
[0177]在本發(fā)明實施例中，藍光光源可以為發(fā)出的光線為藍色光線的光源，藍光光源的形式多種多樣，包括點狀光源、板狀光源等等;第三掩膜版包括遮光區(qū)域和第三透光區(qū)域，遮光區(qū)域用于對光線進行遮擋，第三透光區(qū)域用于使光線透過第一掩膜版。其中，藍光光源的具體結(jié)構(gòu)和第三掩膜版的具體結(jié)構(gòu)均可以參考相關(guān)技術(shù)，本發(fā)明實施例在此不再贅述。
[0178]可選地，可以將第三掩膜版設(shè)置在光致色樹脂層的上方，然后將藍光光源設(shè)置在第三掩膜版的上方，并照射第三掩膜版，使藍光光源的光線透過第三掩膜版的第三透光區(qū)域照射到光致色樹脂層上。
[0179]示例地，請參考圖8-5，其示出了圖8-1所示實施例提供的一種采用藍光光源043和第三掩膜版053對光致色樹脂層G進行曝光處理的示意圖，參見圖8-5，第三掩膜版053包括遮光區(qū)域0531和第三透光區(qū)域0532，第三透光區(qū)域0532與光致色樹脂層G上待形成的藍色濾光單元對應(yīng)，遮光區(qū)域0531與光致色樹脂層G上除待形成的藍色濾光單元之外的區(qū)域?qū)?yīng)。采用藍光光源043照射第三掩膜版053時，藍光透過第三掩膜版053上的第三透光區(qū)域0532照射到光致色樹脂層G上，并與光致色樹脂層G中的藍光光敏基團發(fā)生反應(yīng)，藍光被藍光光敏基團吸收，光致色樹脂層G上吸收藍光的區(qū)域形成第三曝光區(qū)域(圖8-5中未標(biāo)出)，光致色樹脂層G上未被照射的區(qū)域為非曝光區(qū)域。
[0180]子步驟8034、對曝光后的光致色樹脂層進行顯影處理，使非曝光區(qū)域的光致色樹脂層去除，第一曝光區(qū)域、第二曝光區(qū)域和第三曝光區(qū)域的光致色樹脂層保留，得到彩色濾光層。
[0181]該子步驟8034的具體實現(xiàn)過程可以參考圖7-1所示實施例中的子步驟7032，本實施例在此不再贅述。
[0182]步驟804、在形成有彩色濾光層的襯底基板上依次形成上覆蓋層、公共電極層和隔墊物PS層。
[0183]該子步驟804的具體實現(xiàn)過程可以參考圖7-1所示實施例中的子步驟704，本實施例在此不再贅述。
[0184]需要說明的是，本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制造方法步驟的先后順序可以進行適當(dāng)調(diào)整，步驟也可以根據(jù)情況進行相應(yīng)增減，示例地，本發(fā)明實施例是以上述子步驟8031至子步驟8033按照先后順序進行的，實際應(yīng)用中，上述子步驟8031至子步驟8033中任意兩個子步驟之間的先后順序可以顛倒，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化的方法，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)，因此不再贅述。
[0185]綜上所述，本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制造方法，通過采用光致色樹脂材料在襯底基板上形成光致色樹脂層，光致色樹脂材料含有多種不同吸收波長的光敏基團，通過構(gòu)圖工藝對光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，彩色濾光層包括多種濾光單元。由于采用一次涂覆和構(gòu)圖工藝就可以形成彩色濾光層，因此，解決了相關(guān)技術(shù)中彩色濾光層的形成過程復(fù)雜，導(dǎo)致彩膜基板的制造過程復(fù)雜的問題，達到了簡化彩色濾光層的形成過程，進而簡化彩膜基板的制造過程的效果。
[0186]相關(guān)技術(shù)在形成彩色濾光層時，需要進行三次涂覆，導(dǎo)致彩色濾光層的形成過程耗時較長，本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制造方法，通過一次涂覆就可以形成彩色濾光層，因此，彩膜基板的形成過程耗時較短。
[0187]本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制造方法，可以節(jié)省樹脂材料，降低成本，提升工藝效率和產(chǎn)能。
[0188]本發(fā)明實施例還提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括圖2所示的彩膜基板，該顯示裝置可以為:液晶面板、電子紙、手機、平板電腦、電視機、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。
[0189]本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解實現(xiàn)上述實施例的全部或部分步驟可以通過硬件來完成，也可以通過程序來指令相關(guān)的硬件完成，所述的程序可以存儲于一種計算機可讀存儲介質(zhì)中，上述提到的存儲介質(zhì)可以是只讀存儲器，磁盤或光盤等。
[0190]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括: 采用光致色樹脂材料在襯底基板上形成光致色樹脂層，所述光致色樹脂材料含有多種不同吸收波長的光敏基團； 通過構(gòu)圖工藝對所述光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，所述彩色濾光層包括多種濾光單元，所述彩色濾光層中任意相鄰的兩個濾光單元之間設(shè)置有黑矩陣。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述通過構(gòu)圖工藝對所述光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，包括: 通過一次構(gòu)圖工藝對所述光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層； 或者， 通過多次構(gòu)圖工藝對所述光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于， 所述多種濾光單元包括紅色濾光單元、綠色濾光單元和藍色濾光單元； 所述多種不同吸收波長的光敏基團包括:紅光光敏基團、綠光光敏基團和藍光光敏基團，所述紅光光敏基團的吸收波長等于紅光波長，所述綠光光敏基團的吸收波長等于綠光波長，所述藍光光敏基團的吸收波長等于藍光波長； 所述通過一次構(gòu)圖工藝對所述光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，包括: 采用白光光源和偏振掩膜版對所述光致色樹脂層進行曝光處理，使所述光致色樹脂層形成非曝光區(qū)域、第一曝光區(qū)域、第二曝光區(qū)域和第三曝光區(qū)域，所述偏振掩膜版包括遮光區(qū)域、第一透光區(qū)域、第二透光區(qū)域和第三透光區(qū)域，所述第一透光區(qū)域設(shè)置有第一偏振片，所述第二透光區(qū)域設(shè)置有第二偏振片，所述第三透光區(qū)域設(shè)置有第三偏振片，所述第一偏振片的偏振方向與紅光的振動方向相同，所述第二偏振片的偏振方向與綠光的振動方向相同，所述第三偏振片的偏振方向與藍光的振動方向相同，所述非曝光區(qū)域與所述遮光區(qū)域?qū)?yīng)，所述第一曝光區(qū)域與所述第一偏振片對應(yīng)，所述第二曝光區(qū)域與所述第二偏振片對應(yīng)，所述第三曝光區(qū)域與所述第三偏振片對應(yīng)； 對曝光后的所述光致色樹脂層進行顯影處理，使所述非曝光區(qū)域的光致色樹脂層去除，所述第一曝光區(qū)域、所述第二曝光區(qū)域和所述第三曝光區(qū)域的光致色樹脂層保留，得到所述彩色濾光層。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于， 所述多種濾光單元包括紅色濾光單元、綠色濾光單元和藍色濾光單元； 所述多種不同吸收波長的光敏基團包括:紅光光敏基團、綠光光敏基團和藍光光敏基團，所述紅光光敏基團的吸收波長等于紅光波長，所述綠光光敏基團的吸收波長等于綠光波長，所述藍光光敏基團的吸收波長等于藍光波長； 所述通過多次構(gòu)圖工藝對所述光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層，包括: 采用紅光光源和第一掩膜版對所述光致色樹脂層進行曝光處理，使所述光致色樹脂層形成非曝光區(qū)域和第一曝光區(qū)域，所述第一掩膜版包括遮光區(qū)域和第一透光區(qū)域，所述第一曝光區(qū)域與所述第一透光區(qū)域?qū)?yīng)，所述非曝光區(qū)域與所述遮光區(qū)域?qū)?yīng)； 采用綠光光源和第二掩膜版對所述光致色樹脂層進行曝光處理，使所述光致色樹脂層形成非曝光區(qū)域和第二曝光區(qū)域，所述第二掩膜版包括遮光區(qū)域和第二透光區(qū)域，所述第二曝光區(qū)域與所述第二透光區(qū)域?qū)?yīng)，所述非曝光區(qū)域與所述遮光區(qū)域?qū)?yīng)； 采用藍光光源和第三掩膜版對所述光致色樹脂層進行曝光處理，使所述光致色樹脂層形成非曝光區(qū)域和第三曝光區(qū)域，所述第三掩膜版包括遮光區(qū)域和第三透光區(qū)域，所述第三曝光區(qū)域與所述第三透光區(qū)域?qū)?yīng)，所述非曝光區(qū)域與所述遮光區(qū)域?qū)?yīng)； 對曝光后的所述光致色樹脂層進行顯影處理，使所述非曝光區(qū)域的光致色樹脂層去除，所述第一曝光區(qū)域、所述第二曝光區(qū)域和所述第三曝光區(qū)域的光致色樹脂層保留，得到所述彩色濾光層。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述采用白光光源和偏振掩膜版對所述光致色樹脂層進行曝光處理，包括: 將所述偏振掩膜版設(shè)置在所述光致色樹脂層的上方，使所述遮光區(qū)域在所述襯底基板上的正投影與所述黑矩陣在所述襯底基板上的正投影重合； 采用所述白光光源照射所述偏振掩膜版，使所述白光光源的光線分別透過所述第一偏振片、所述第二偏振片和所述第三偏振片照射到所述光致色樹脂層上； 其中，所述光致色樹脂層上與所述第一偏振片對應(yīng)的區(qū)域中的紅光光敏基團吸收透過所述第一偏振片的光線形成所述第一曝光區(qū)域，所述光致色樹脂層上與所述第二偏振片對應(yīng)的區(qū)域中的綠光光敏基團吸收透過所述第二偏振片的光線形成所述第二曝光區(qū)域，所述光致色樹脂層上與所述第三偏振片對應(yīng)的區(qū)域中的藍光光敏基團吸收透過所述第三偏振片的光線形成所述第三曝光區(qū)域。6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一所述的方法，其特征在于，在所述通過構(gòu)圖工藝對所述光致色樹脂層進行處理，得到彩色濾光層之后，所述方法還包括: 在形成有所述彩色濾光層的襯底基板上依次形成上覆蓋層、公共電極層和隔墊物PS層。7.—種彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板采用權(quán)利要求1至6任一所述的方法制造而成，所述彩膜基板包括:襯底基板， 所述襯底基板上形成彩色濾光層，所述彩色濾光層包括多種濾光單元，所述彩色濾光層中任意相鄰的兩個濾光單元之間設(shè)置有黑矩陣。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的彩膜基板，其特征在于， 所述多種濾光單元包括紅色濾光單元、綠色濾光單元和藍色濾光單元。9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的彩膜基板，其特征在于， 形成有所述彩色濾光層的襯底基板上依次形成有上覆蓋層、公共電極層和隔墊物PS層。10.—種掩膜版，其特征在于，所述掩膜版包括:遮光區(qū)域和透光區(qū)域，所述透光區(qū)域設(shè)置有偏振片。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版包括:遮光區(qū)域和多種透光區(qū)域，每種所述透光區(qū)域設(shè)置有一種偏振片，且所述多種透光區(qū)域中任意兩種透光區(qū)域的偏振片的偏振方向不同。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的掩膜版，其特征在于， 所述多種透光區(qū)域包括:第一透光區(qū)域、第二透光區(qū)域和第三透光區(qū)域； 所述第一透光區(qū)域設(shè)置有第一偏振片，所述第二透光區(qū)域設(shè)置有第二偏振片，所述第三透光區(qū)域設(shè)置有第三偏振片，所述第一偏振片的偏振方向與紅光的振動方向相同，所述第二偏振片的偏振方向與綠光的振動方向相同，所述第三偏振片的偏振方向與藍光的振動方向相同。13.—種掩膜版的制造方法，其特征在于，用于制造權(quán)利要求10至12任一所述的掩膜版，所述方法包括: 在掩膜版上形成遮光區(qū)域和透光區(qū)域； 提供偏振片； 將所述偏振片設(shè)置在所述透光區(qū)域上。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其特征在于， 所述掩膜版包括:遮光區(qū)域和多種透光區(qū)域，每種所述透光區(qū)域設(shè)置有一種偏振片，且所述多種透光區(qū)域中任意兩種透光區(qū)域的偏振片的偏振方向不同， 所述在掩膜版上形成遮光區(qū)域和透光區(qū)域，包括: 在所述掩膜版上形成遮光區(qū)域和多種透光區(qū)域； 所述提供偏振片，包括: 提供多種偏振片，所述多種偏振片中任意兩種偏振片的偏振方向不同； 所述將所述偏振片設(shè)置在所述透光區(qū)域上，包括: 將所述多種偏振片設(shè)置在所述多種透光區(qū)域上，使每種所述透光區(qū)域?qū)?yīng)一種偏振片。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于， 所述多種透光區(qū)域包括:第一透光區(qū)域、第二透光區(qū)域和第三透光區(qū)域； 所述多種偏振片包括:第一偏振片、第二偏振片和第三偏振片，所述第一偏振片的偏振方向與紅光的振動方向相同，所述第二偏振片的偏振方向與綠光的振動方向相同，所述第三偏振片的偏振方向與藍光的振動方向相同； 所述將所述多種偏振片設(shè)置在所述多種透光區(qū)域上，使每種所述透光區(qū)域?qū)?yīng)一種偏振片，包括: 將所述第一偏振片、所述第二偏振片和所述第三偏振片依次設(shè)置在所述第一透光區(qū)域、所述第二透光區(qū)域和所述第三透光區(qū)域上。16.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括:權(quán)利要求7至9任一所述的彩膜基板。
【文檔編號】G02F1/1335GK105974653SQ201610581676
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年7月21日
【發(fā)明人】祝政委, 陳傳寶, 張軍
【申請人】京東方科技集團股份有限公司, 合肥京東方光電科技有限公司