本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種顯示面板的制備方法及顯示面板。

背景技術(shù)：

隨著顯示技術(shù)的發(fā)展，各種液晶顯示設(shè)備逐漸向輕薄化發(fā)展，而在使液晶顯示設(shè)備更輕薄的同時(shí)，面板的顯示質(zhì)量也需要得到保證。在實(shí)際顯示中，面板易產(chǎn)生碎亮點(diǎn)，就嚴(yán)重影響了面板的顯示質(zhì)量。

本技術(shù)：
的發(fā)明人在長(zhǎng)期的研發(fā)中發(fā)現(xiàn)，液晶顯示面板產(chǎn)生碎亮點(diǎn)的原因之一在于彩膜基板上的間隔支撐物與陣列基板之間的間隙過大。具體的說，在制備液晶顯示面板的過程中，將設(shè)有間隔支撐物的彩膜基板和陣列基板對(duì)組后，即進(jìn)入下一步工序。而對(duì)組完成后，間隔支撐物與陣列基板的之間的間隙在0.2μm(微米)左右，甚至更高。由于間隔支撐物與陣列基板的間隙較大，間隔支撐物不能完全支撐陣列基板，當(dāng)液晶顯示面板在運(yùn)輸或者被觸碰的過程中，陣列基板與間隔支撐物容易產(chǎn)生摩擦，造成基板刮傷，從而產(chǎn)生碎亮點(diǎn)，影響液晶顯示面板的顯示質(zhì)量。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明解決的主要技術(shù)問題是提供一種顯示面板的制備方法，能夠提高間隔支撐物的支撐效果，減少碎亮點(diǎn)的產(chǎn)生，改善面板的顯示效果。

本發(fā)明解決的另一技術(shù)問題是提供一種顯示面板，該顯示面板的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，碎亮點(diǎn)較少，顯示效果佳。

為解決上述主要技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種顯示面板的制備方法，包括將設(shè)有間隔支撐物的彩膜基板和陣列基板對(duì)組；對(duì)對(duì)組后的彩膜基板和陣列基板進(jìn)行熱處理，使所述間隔支撐物與所述陣列基板的間隔減小至0.1μm以內(nèi)。

本發(fā)明的顯示面板的制備方法具有如下有益效果：對(duì)對(duì)組后的彩膜基板和陣列基板進(jìn)行熱處理后，間隔支撐物與所述陣列基板的間隔減小至0.1μm以內(nèi)，提高了間隔支撐物的支撐效果，降低了二者間發(fā)生摩擦的可能性，從而減少碎亮點(diǎn)的產(chǎn)生，改善面板的顯示效果。

為解決上述另一技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種顯示面板，包括設(shè)有間隔支撐物的彩膜基板和陣列基板；所述間隔支撐物與所述陣列基板的間隔小于0.1μm。

本發(fā)明的顯示面板具有如下有益效果：彩膜基板上的間隔支撐物與陣列基板的間隔與現(xiàn)有技術(shù)相比明顯減小，結(jié)構(gòu)更穩(wěn)定，降低了二者間發(fā)生摩擦的可能性，從而減少碎亮點(diǎn)的產(chǎn)生，改善面板的顯示效果。

附圖說明

圖1是本發(fā)明顯示面板的制備方法實(shí)施例的流程示意圖；

圖2是本發(fā)明顯示面板的制備方法制得的顯示面板實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。

參見圖1和圖2，本發(fā)明顯示面板的制備方法實(shí)施例包括：

s101、在基板101上依次覆蓋黑色矩陣102、彩色光阻層103、保護(hù)層104和間隔支撐物105，形成彩膜基板10；

可選的，黑色矩陣102、彩色光阻層103、保護(hù)層104和間隔支撐物105的制備可以通過染色法、電著法、印刷法、顏料分散法或噴墨等方法制備。

本實(shí)施例中，間隔支撐物的成分包括60％-80％重量份的溶劑，5％-20％重量份的丙烯酸樹脂，10％-20％重量份的丙烯酸酯，1％-2％重量份的光引發(fā)劑和10％-15％重量份的粘合劑。

s102、在陣列基板20上制備定向?qū)?01；

可選的，定向?qū)?01可以通過噴墨印刷等方法制備。

s103、將彩膜基板和陣列基板對(duì)組；

可選的，彩膜基板和陣列基板可以通過標(biāo)記對(duì)組、膠水固定對(duì)組等方式進(jìn)行對(duì)組。

s104、對(duì)對(duì)組后的彩膜基板和陣列基板進(jìn)行熱處理，使間隔支撐物與陣列基板的間隔減小至0.1μm以內(nèi)。

可選的，對(duì)彩膜基板和陣列基板進(jìn)行熱處理的方法可以是曝光或烘烤等方法。

可選的，曝光時(shí)，將紫外光透過陣列基板20，對(duì)間隔支撐物105靠近陣列基板20的一端進(jìn)行曝光，使間隔支撐物105靠近陣列基板20的一端發(fā)生反應(yīng)，而另一端和側(cè)面不發(fā)生反應(yīng)。間隔支撐物105的高度增加而寬度不變，不會(huì)對(duì)顯示面板的顯示質(zhì)量產(chǎn)生影響。

可選的，對(duì)彩膜基板10與陣列基板20整體進(jìn)行曝光，由于間隔支撐物105對(duì)應(yīng)設(shè)置于黑色矩陣102的上方，且間隔支撐物105與對(duì)應(yīng)的黑色矩陣102的中心連線與發(fā)光方向平行，經(jīng)過曝光或烘烤制程后，間隔支撐物105的寬度小于或等于黑色矩陣102的寬度，不影響顯示面板的顯示質(zhì)量。

本實(shí)施例中，基于間隔支撐物的特性，曝光使用的是紫外光，波長(zhǎng)為300nm(納米)-360nm，能量為5000mj(毫焦)-10000mj。

本實(shí)施例中，基于間隔支撐物的特性，烘烤的溫度為225℃(攝氏度)-235℃，烘烤時(shí)間為10分鐘-20分鐘。

可以理解的是，在其他實(shí)施例中，基于不同間隔支撐物的不同組分和比重，曝光或烘烤等熱處理方式的具體參數(shù)會(huì)相應(yīng)的發(fā)生改變。

本實(shí)施例中，對(duì)對(duì)組后的彩膜基板10和陣列基板20進(jìn)行熱處理后，間隔支撐物105受到熱處理的激發(fā)，引發(fā)丙烯酸樹脂與丙烯酸酯反應(yīng)，使間隔支撐物105的高度增加，與定向?qū)?01的間隔減小，提高了間隔支撐物105的支撐效果，降低了二者間發(fā)生摩擦的可能性，從而減少碎亮點(diǎn)的產(chǎn)生，改善面板的顯示效果。

參見圖2，通過上述方法制得的顯示面板，包括設(shè)有間隔支撐物105的彩膜基板10和陣列基板20，間隔支撐物105與陣列基板20的間隔小于0.1μm。

本實(shí)施例中，彩膜基板上的間隔支撐物與陣列基板的間隔與現(xiàn)有技術(shù)相比明顯減小，結(jié)構(gòu)更穩(wěn)定，降低了二者間發(fā)生摩擦的可能性，從而減少碎亮點(diǎn)的產(chǎn)生，改善面板的顯示效果。

以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施方式，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種顯示面板的制備方法及顯示面板,所述方法包括將設(shè)有間隔支撐物的彩膜基板和陣列基板對(duì)組；對(duì)對(duì)組后的彩膜基板和陣列基板進(jìn)行熱處理，使所述間隔支撐物與所述陣列基板的間隔減小至0.1μm以內(nèi)。本發(fā)明能夠提高間隔支撐物的支撐效果，減少碎亮點(diǎn)的產(chǎn)生，改善面板的顯示效果。

技術(shù)研發(fā)人員：楊超群;黃長(zhǎng)治
受保護(hù)的技術(shù)使用者：武漢華星光電技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.06.01
技術(shù)公布日：2017.09.12