本發(fā)明申請(qǐng)是國(guó)際申請(qǐng)日為2015年3月31日、國(guó)際申請(qǐng)?zhí)枮閜ct/jp2015/060079、進(jìn)入中國(guó)國(guó)家階段的國(guó)家申請(qǐng)?zhí)枮?01580017855.8、發(fā)明名稱為“基板處理裝置、器件制造方法及基板處理方法”的發(fā)明申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。

本發(fā)明涉及用于在基板上形成精細(xì)電子器件的構(gòu)造體的基板處理裝置、器件制造方法及基板處理方法。

背景技術(shù)：

以往，作為基板處理裝置，已知有在片狀介質(zhì)(基板)上的規(guī)定位置進(jìn)行描繪的制造裝置(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。專利文獻(xiàn)1中記載的制造裝置通過對(duì)易在寬度方向上伸縮的撓性的長(zhǎng)條片狀基板檢測(cè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記來測(cè)量片狀基板的伸縮，并根據(jù)伸縮來修正描繪位置(加工位置)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1:日本特開2010-91990號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

專利文獻(xiàn)1的制造裝置中，通過一邊沿搬送方向搬送基板一邊切換空間調(diào)制元件(dmd：digitalmicromirrordevice)來進(jìn)行曝光，利用多個(gè)描繪單元在基板上描繪圖案。專利文獻(xiàn)1的制造裝置中，利用多個(gè)描繪單元以使在基板的寬度方向上相鄰的圖案彼此接合的方式進(jìn)行曝光，但是為了抑制接合曝光的誤差，對(duì)進(jìn)行測(cè)試曝光和顯影而生成的接合部處的圖案的位置誤差的測(cè)量結(jié)果進(jìn)行反饋。然而，這樣的包含測(cè)試曝光、顯影、測(cè)量等作業(yè)在內(nèi)的反饋工序雖然也因其頻率而異，但是會(huì)導(dǎo)致生產(chǎn)線臨時(shí)停止，有可能降低產(chǎn)品生產(chǎn)率并且造成基板浪費(fèi)。

本發(fā)明的方案是鑒于上述課題而完成的，其目的在于，提供一種基板處理裝置、器件制造方法及基板處理方法，即使使用多個(gè)描繪單元在基板的寬度方向上以接合圖案的形式進(jìn)行曝光(描繪)的情況下，也能夠降低圖案彼此的接合誤差，高精度且穩(wěn)定地在基板上描繪出大面積的圖案。

根據(jù)本發(fā)明的第1方案，提供一種基板處理裝置，具有：搬送裝置，其一邊通過具有彎曲的支承面的支承部件沿基板的長(zhǎng)度方向支承長(zhǎng)條片狀的所述基板的一部分，一邊使所述基板沿所述長(zhǎng)度方向移動(dòng)；和描繪裝置，其具有多個(gè)描繪單元，該多個(gè)描繪單元向由所述支承面支承的所述基板上投射經(jīng)調(diào)制的描繪光束，同時(shí)在與所述長(zhǎng)度方向交叉的所述基板的寬度方向上以比該基板的寬度小的范圍進(jìn)行掃描，并沿著通過該掃描得到的描繪線描繪出規(guī)定的圖案，所述描繪裝置中的所述多個(gè)描繪單元沿所述基板的寬度方向配置，以使得通過該多個(gè)描繪單元的各描繪線在所述基板上描繪出的圖案彼此伴隨著所述基板向長(zhǎng)度方向的移動(dòng)而在所述基板的寬度方向上接合在一起；移動(dòng)測(cè)量裝置，其輸出與基于所述搬送裝置的所述基板的移動(dòng)量或移動(dòng)位置相對(duì)應(yīng)的移動(dòng)信息；以及控制部，其預(yù)先存儲(chǔ)有與所述描繪線的相互的位置關(guān)系有關(guān)的校準(zhǔn)信息，并且基于該校準(zhǔn)信息和從所述移動(dòng)測(cè)量裝置輸出的移動(dòng)信息來調(diào)整通過所述多個(gè)描繪單元各自的所述描繪光束而在所述基板上形成的圖案的描繪位置，其中，所述描繪線是由所述多個(gè)描繪單元分別形成在所述基板上的。

根據(jù)本發(fā)明的第2方案，提供一種器件制造方法，使用本發(fā)明的第1方案的基板處理裝置來在所述基板上形成所述圖案。

根據(jù)本發(fā)明的第3方案，為一種基板處理方法，在長(zhǎng)條的片狀基板上描繪出電子器件的圖案，包括以下處理：沿所述片狀基板的長(zhǎng)度方向以規(guī)定速度輸送所述片狀基板；使從脈沖光源裝置以頻率fz脈沖振蕩出的紫外波段的光束在所述片狀基板的表面聚集成點(diǎn)光，并且通過光掃描器使所述光束移動(dòng)，由此使所述點(diǎn)光沿著在與長(zhǎng)度方向交叉的寬度方向上延伸的長(zhǎng)度lbl的描繪線進(jìn)行掃描；以及在所述點(diǎn)光的掃描期間，基于與所述圖案對(duì)應(yīng)的描繪數(shù)據(jù)來對(duì)所述點(diǎn)光的強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)制，在將所述光束的1脈沖的聚光所形成的點(diǎn)光與下一脈沖的聚光所形成的點(diǎn)光之間沿所述描繪線的間隔設(shè)為cxs、將所述點(diǎn)光沿著所述描繪線的實(shí)效尺寸設(shè)為xs、將所述點(diǎn)光掃描出所述長(zhǎng)度lbl的掃描時(shí)間設(shè)為ts時(shí)，被設(shè)定為滿足以下關(guān)系：xs＞cxs，并且，fz＞lbl/(ts·xs)。

根據(jù)本發(fā)明的第4方案，為一種基板處理方法，在長(zhǎng)條的片狀基板上描繪出電子器件的圖案，包括以下工序：沿所述片狀基板的長(zhǎng)度方向以規(guī)定速度輸送所述片狀基板的工序；使從脈沖光源裝置以頻率fz脈沖振蕩出的紫外波段的光束在所述片狀基板的表面聚集成點(diǎn)光，并且使所述點(diǎn)光沿著在與所述片狀基板的長(zhǎng)度方向交叉的寬度方向上延伸的描繪線進(jìn)行掃描的工序；以及在所述點(diǎn)光的掃描期間，基于將所述圖案按像素單位分割得到的描繪數(shù)據(jù)，通過光切換元件對(duì)所述光束的強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)制的工序，將所述光切換元件的調(diào)制時(shí)的響應(yīng)頻率fss和所述光束的脈沖振蕩的頻率fz被設(shè)定為fz＞fss的關(guān)系。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明的方案，能夠提供如下的基板處理裝置、器件制造方法，能夠降低使用多個(gè)描繪單元在基板的寬度方向上對(duì)圖案進(jìn)行接合曝光時(shí)的接合誤差，并且能夠?qū)搴线m地進(jìn)行基于多個(gè)描繪單元的描繪。而且，還能夠提供使1個(gè)描繪單元沿著描繪線描繪圖案時(shí)的描繪精度(曝光量的均勻性等)和保真度得到了提高的基板處理方法。

附圖說明

圖1是表示第1實(shí)施方式的曝光裝置(基板處理裝置)的整體結(jié)構(gòu)的圖。

圖2是表示圖1的曝光裝置的主要部分的配置的立體圖。

圖3是基板上的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡與描繪線的配置關(guān)系的圖。

圖4是表示圖1的曝光裝置的旋轉(zhuǎn)筒及描繪裝置的結(jié)構(gòu)的圖。

圖5是表示圖1的曝光裝置的主要部分的配置的俯視圖。

圖6是表示圖1的曝光裝置的分支光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的立體圖。

圖7是表示圖1的曝光裝置的多個(gè)掃描器的配置關(guān)系的圖。

圖8是說明用于消除因掃描器的反射面的傾斜所引線的描繪線錯(cuò)位的光學(xué)結(jié)構(gòu)的圖。

圖9是表示基板上的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡、描繪線以及編碼器讀頭之間的配置關(guān)系的立體圖。

圖10是表示圖1的曝光裝置的旋轉(zhuǎn)筒的表面構(gòu)造的立體圖。

圖11是表示基板上的描繪線與描繪圖案的位置關(guān)系的說明圖。

圖12是表示光束點(diǎn)與描繪線的關(guān)系的說明圖。

圖13是對(duì)由在基板上得到的2脈沖量的光束點(diǎn)的重疊量所引起的強(qiáng)度分布變化進(jìn)行模擬得到的圖表。

圖14是關(guān)于第1實(shí)施方式的曝光裝置的調(diào)整方法的流程圖。

圖15是示意性地示出旋轉(zhuǎn)筒的基準(zhǔn)圖案與描繪線的關(guān)系的說明圖。

圖16是示意性地示出在明視野接收來自旋轉(zhuǎn)筒的基準(zhǔn)圖案的反射光的光電傳感器輸出的信號(hào)的說明圖。

圖17是示意性地示出在暗視野接收來自旋轉(zhuǎn)筒的基準(zhǔn)圖案的反射光的光電傳感器的說明圖。

圖18是示意性地示出從在暗視野接收來自旋轉(zhuǎn)筒的基準(zhǔn)圖案的反射光的光電傳感器輸出的信號(hào)的說明圖。

圖19是示意性地示出旋轉(zhuǎn)筒的基準(zhǔn)圖案彼此的位置關(guān)系的說明圖。

圖20是示意性地示出多條描繪線的相對(duì)位置關(guān)系的說明圖。

圖21是示意性地示出基板每單位時(shí)間的移動(dòng)距離與移動(dòng)距離內(nèi)所含有的描繪線條數(shù)之間的關(guān)系的說明圖。

圖22是示意性地說明與脈沖光源的系統(tǒng)時(shí)鐘同步的脈沖光的說明圖。

圖23是說明用于生成脈沖光源的系統(tǒng)時(shí)鐘的電路結(jié)構(gòu)的一例的框圖。

圖24是表示圖23的電路結(jié)構(gòu)中的各部分的信號(hào)遷移的時(shí)序圖。

圖25是表示各器件制造方法的流程圖。

具體實(shí)施方式

關(guān)于用于實(shí)施本發(fā)明的方式(實(shí)施方式)，參照附圖詳細(xì)說明。不通過以下實(shí)施方式記載的內(nèi)容來限定本發(fā)明。另外，以下記載的結(jié)構(gòu)要素中包含本領(lǐng)域技術(shù)人員容易想到、且實(shí)質(zhì)上相同的要素。而且，以下記載的結(jié)構(gòu)要素能夠適當(dāng)組合。另外，在不脫離本發(fā)明主旨的范圍內(nèi)能夠?qū)Y(jié)構(gòu)要素進(jìn)行的各種省略、置換或變更。

[第1實(shí)施方式]

圖1是表示第1實(shí)施方式的曝光裝置(基板處理裝置)的整體結(jié)構(gòu)的圖。第1實(shí)施方式的基板處理裝置是對(duì)基板p實(shí)施曝光處理的曝光裝置ex，曝光裝置ex組裝在對(duì)曝光后的基板p實(shí)施各種處理來制造器件的器件制造系統(tǒng)1中。首先，說明器件制造系統(tǒng)1。

＜器件制造系統(tǒng)＞

器件制造系統(tǒng)1是制造作為器件的柔性顯示器的生產(chǎn)線(柔性顯示器生產(chǎn)線)。作為柔性顯示器，例如有有機(jī)el顯示器等。該器件制造系統(tǒng)1為所謂的卷對(duì)卷(rolltoroll)方式，即從將撓性(flexible)的長(zhǎng)條基板p卷繞成輥狀的未圖示的供給用輥送出該基板p，并對(duì)送出的基板p連續(xù)實(shí)施各種處理，然后將處理后的基板p作為撓性器件而卷繞到未圖示的回收用輥上。在第1實(shí)施方式的器件制造系統(tǒng)1中，示出了作為薄膜狀片材的基板p被從供給用輥送出，且從供給用輥送出的基板p依次經(jīng)過處理裝置u1、曝光裝置ex、處理裝置u2直至被卷繞于回收用輥為止的例子。在此，對(duì)成為器件制造系統(tǒng)1的處理對(duì)象的基板p進(jìn)行說明。

基板p例如使用樹脂薄膜、由不銹鋼等金屬或合金形成的箔(foil)等。作為樹脂薄膜的材質(zhì)，例如含有以下樹脂中的一種或兩種以上，即，聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚酯樹脂、乙烯乙烯酯共聚物樹脂、聚氯乙烯樹脂、纖維素樹脂、聚酰胺樹脂、聚酰亞胺樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、醋酸乙烯酯樹脂。

優(yōu)選的是，對(duì)基板p選擇熱膨脹系數(shù)不顯著大的基板，以使得例如實(shí)質(zhì)上能夠忽視因在對(duì)基板p實(shí)施的各種處理中受熱而產(chǎn)生的變形量。熱膨脹系數(shù)例如可以通過在樹脂薄膜中混合無機(jī)填料來設(shè)定為比與工藝溫度等相應(yīng)的閾值小。無機(jī)填料可以是例如氧化鈦、氧化鋅、氧化鋁、氧化硅等。另外，基板p可以是利用浮制法等制造的厚度為100μm左右的極薄玻璃的單層體，也可以是在該極薄玻璃上貼合上述的樹脂薄膜、箔等而成的層疊體。

如此構(gòu)成的基板p被卷繞成輥狀而成為供給用輥，該供給用輥安裝在器件制造系統(tǒng)1中。安裝有供給用輥的器件制造系統(tǒng)1對(duì)從供給用輥沿長(zhǎng)度方向送出的基板p重復(fù)執(zhí)行用于制造器件的各種處理。因此，在處理后的基板p上在長(zhǎng)度方向上以固定間隔連續(xù)的狀態(tài)形成有多個(gè)電子器件(顯示面板、印刷基板等)用的圖案。也就是說，從供給用輥送出的基板p成為多件同時(shí)處理用的基板。此外，基板p可以是預(yù)先通過規(guī)定的前處理對(duì)其表面改性而使其活性化的基板，也可以是在表面上形成有用于精密圖案化的精細(xì)隔壁構(gòu)造(利用壓印法形成的凹凸構(gòu)造)的基板。

處理后的基板p被卷繞成輥狀而作為回收用輥回收?；厥沼幂伆惭b在未圖示的切割裝置上。安裝有回收用輥的切割裝置將處理后的基板p按每個(gè)器件分割(切割)而成為多個(gè)器件。基板p的尺寸例如為，寬度方向(成為短邊的方向)上的尺寸為10cm～2m左右，長(zhǎng)度方向(成為長(zhǎng)邊的方向)上的尺寸為10m以上。此外，基板p的尺寸不限于上述尺寸。

接下來，參照?qǐng)D1對(duì)器件制造系統(tǒng)1進(jìn)行說明。器件制造系統(tǒng)1具有處理裝置u1、曝光裝置ex和處理裝置u2。此外，在圖1中，采用x方向、y方向及z方向正交的正交坐標(biāo)系。x方向是在水平面內(nèi)從處理裝置u1經(jīng)由曝光裝置ex朝向處理裝置u2的方向。y方向是在水平面內(nèi)與x方向正交的方向，是基板p的寬度方向。z方向是與x方向和y方向正交的方向(鉛垂方向)，xy面與供曝光裝置ex設(shè)置的生產(chǎn)線的設(shè)置面e平行。

處理裝置u1對(duì)要被曝光裝置ex實(shí)施曝光處理的基板p進(jìn)行前工序的處理(前處理)。處理裝置u1將進(jìn)行了前處理的基板p朝向曝光裝置ex輸送。此時(shí)，送向曝光裝置ex的基板p成為在其表面形成有感光性功能層(光感應(yīng)層)的基板(感光基板)p。

此處，感光性功能層作為溶液涂敷到基板p上并干燥而成為層(膜)。感光性功能層的典型例子是光致抗蝕劑，而作為不需要顯影處理的材料，有受紫外線照射的部分的親疏液性被改性的感光性硅烷耦合材料(sam)、或者在受紫外線照射的部分露出鍍敷還原基的感光性還原材料等。在作為感光性功能層使用感光性硅烷耦合材料的情況下，由于基板p上經(jīng)紫外線曝光的圖案部分由疏液性改性為親液性，所以在成為親液性的部分上選擇性地涂敷導(dǎo)電性墨水(含銀或銅等導(dǎo)電性納米粒子的墨水)，而形成圖案層。在作為感光性功能層使用感光性還原材料的情況下，由于基板上經(jīng)紫外線曝光的圖案部分露出鍍敷還原基，所以曝光后立即將基板p浸漬到含有鈀離子等的鍍敷液中并浸漬規(guī)定時(shí)間，由此形成(析出)由鈀形成的圖案層。

曝光裝置ex對(duì)從處理裝置u1供給來的基板p描繪出例如顯示面板用的各種電路或各種布線等的圖案。該曝光裝置ex通過分別使各描繪光束lb沿規(guī)定的掃描方向掃描而得到的多條描繪線ll1～ll5在基板p上曝光出規(guī)定的圖案，描繪光束lb是分別從多個(gè)描繪單元uw1～uw5向基板p投射的光束，詳細(xì)內(nèi)容將在后敘述。

處理裝置u2接收在曝光裝置ex中經(jīng)曝光處理的基板p，并對(duì)基板p進(jìn)行后工序的處理(后處理)。在基板p的感光性功能層為光致抗蝕劑的情況下，處理裝置u2進(jìn)行基板p的玻璃轉(zhuǎn)移溫度以下的烘烤處理、顯影處理、清洗處理、干燥處理等。另外，在基板p的感光性功能層為感光性鍍敷還原材料的情況下，處理裝置u2進(jìn)行無電解鍍敷處理、清洗處理、干燥處理等。而且，在基板p的感光性功能層為感光性硅烷耦合材料的情況下，處理裝置u2進(jìn)行向基板p上的成為親液性的部分有選擇地涂敷液狀墨水的選擇性涂敷處理、干燥處理等。經(jīng)過這樣的處理裝置u2的處理，在基板p上形成器件的圖案層。

＜曝光裝置(基板處理裝置)＞

接著，參照?qǐng)D1至圖10來說明曝光裝置ex。圖2是表示圖1的曝光裝置的主要部分的配置的立體圖。圖3是表示基板上的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡與描繪線的配置關(guān)系的圖。圖4是表示圖1的曝光裝置的旋轉(zhuǎn)筒及描繪裝置(描繪單元)的結(jié)構(gòu)的圖。圖5是表示圖1的曝光裝置的主要部分的配置的俯視圖。圖6是表示圖1的曝光裝置的分支光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖7是表示圖1的曝光裝置的多個(gè)描繪單元內(nèi)的掃描器的配置關(guān)系的圖。圖8是說明用于消除因掃描器的反射面的傾斜而導(dǎo)致的描繪線錯(cuò)位的光學(xué)結(jié)構(gòu)的圖。圖9是表示基板上的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡、描繪線和編碼器讀頭之間的配置關(guān)系的立體圖。圖10是表示圖1的曝光裝置的旋轉(zhuǎn)筒的表面構(gòu)造的一例的立體圖。

如圖1所示，曝光裝置ex是不使用光罩的曝光裝置、即所謂的無光罩方式的描繪曝光裝置，在本實(shí)施方式中是光柵掃描(rasterscan)方式的直接描繪曝光裝置，即，一邊沿搬送方向(長(zhǎng)度方向)以規(guī)定的速度連續(xù)搬送基板p，一邊在規(guī)定的掃描方向(基板p的寬度方向)對(duì)描繪光束lb的點(diǎn)(spot)光進(jìn)行高速掃描，由此，對(duì)基板p的表面進(jìn)行描繪而在基板p上形成規(guī)定的圖案。

如圖1所示，曝光裝置ex具有：描繪裝置11、基板搬送機(jī)構(gòu)12、對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2和控制部16。描繪裝置11具有多個(gè)描繪單元uw1～uw5。另外，描繪裝置11通過多個(gè)描繪單元uw1～uw5在以緊貼支承在圓筒狀的旋轉(zhuǎn)筒dr外周面上方的狀態(tài)下被搬送的基板p的一部分上描繪出規(guī)定的圖案，圓筒狀的旋轉(zhuǎn)筒dr還作為基板搬送機(jī)構(gòu)12的一部分?；灏崴蜋C(jī)構(gòu)12以規(guī)定的速度將從前工序的處理裝置u1搬送來的基板p向后工序的處理裝置u2搬送。對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2為了使要描繪在基板p上的圖案與基板p相對(duì)地對(duì)位(對(duì)準(zhǔn))，而檢測(cè)預(yù)先形成在基板p上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記等。包含計(jì)算機(jī)、微型計(jì)算機(jī)、cpu、fpga等的控制部16控制曝光裝置ex的各部分，使各部分執(zhí)行處理?？刂撇?6可以是控制器件制造系統(tǒng)1的上位的控制裝置的一部分或者是該整個(gè)上位的控制裝置。另外，控制部16受上位的控制裝置控制。所謂上位的控制裝置，可以是例如管理生產(chǎn)線的主計(jì)算機(jī)等其他裝置。

另外，如圖2所示，曝光裝置ex具有支承描繪裝置11及基板搬送機(jī)構(gòu)12的至少一部分(旋轉(zhuǎn)筒dr等)的裝置框架13，在該裝置框架13上安裝有：檢測(cè)旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)角度位置和/或旋轉(zhuǎn)速度、旋轉(zhuǎn)軸方向上的位移等的旋轉(zhuǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)(圖4及圖9所示的編碼器讀頭等)、圖1(或圖3、圖9)所示的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2等。而且，如圖4、圖5所示，在曝光裝置ex內(nèi)設(shè)置有射出作為描繪光束lb的紫外激光(脈沖光)的光源裝置cnt。該曝光裝置ex將從光源裝置cnt射出的描繪光束lb以大致均等的光量(照度)分配給構(gòu)成描繪裝置11的多個(gè)描繪單元uw1～uw5的每一個(gè)。

如圖1所示，曝光裝置ex收容在調(diào)溫腔室evc內(nèi)。調(diào)溫腔室evc經(jīng)由被動(dòng)或主動(dòng)的防振單元su1、su2設(shè)置在制造工廠的設(shè)置面(地板面)e上。防振單元su1、su2設(shè)置在設(shè)置面e上，降低來自設(shè)置面e的振動(dòng)。調(diào)溫腔室evc將內(nèi)部保持為規(guī)定的溫度，由此能夠抑制在內(nèi)部搬送的基板p因溫度所導(dǎo)致的形狀變化。

曝光裝置ex的基板搬送機(jī)構(gòu)12從基板p的搬送方向的上游側(cè)起依次具有：邊緣位置控制器epc、驅(qū)動(dòng)輥dr4、張力調(diào)整輥rt1、旋轉(zhuǎn)筒(圓筒滾筒)dr、張力調(diào)整輥rt2、驅(qū)動(dòng)輥dr6及驅(qū)動(dòng)輥dr7。

邊緣位置控制器epc調(diào)整從處理裝置u1搬送來的基板p的寬度方向(y方向)上的位置。邊緣位置控制器epc以使從處理裝置u1送來的基板p的寬度方向上的端部(邊緣)位置相對(duì)于目標(biāo)位置收斂在±十幾μm～幾十μm左右的范圍內(nèi)的方式，使基板p在寬度方向上微動(dòng)，以修正基板p的寬度方向上的位置。

夾持方式的驅(qū)動(dòng)輥dr4一邊夾持從邊緣位置控制器epc搬送來的基板p的表背兩面一邊旋轉(zhuǎn)，將基板p向搬送方向的下游側(cè)送出，由此將基板p朝向旋轉(zhuǎn)筒dr搬送。旋轉(zhuǎn)筒dr將基板p上要被圖案曝光的部分以緊貼的方式支承在從沿y方向延伸的旋轉(zhuǎn)中心線(旋轉(zhuǎn)軸)ax2具有規(guī)定半徑的圓筒狀的外周面上，并繞旋轉(zhuǎn)中心線ax2旋轉(zhuǎn)，由此沿長(zhǎng)度方向搬送基板p。

為了使這樣的旋轉(zhuǎn)筒dr繞旋轉(zhuǎn)中心線ax2旋轉(zhuǎn)，在旋轉(zhuǎn)筒dr的兩側(cè)設(shè)有與旋轉(zhuǎn)中心線ax2同軸的軸部sf2，軸部sf2如圖2所示經(jīng)由軸承而被軸支承在裝置框架13上。對(duì)該軸部sf2賦予來自未圖示的驅(qū)動(dòng)源(馬達(dá)和/或減速齒輪機(jī)構(gòu)等)的旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)矩。此外，使含有旋轉(zhuǎn)中心線ax2并與yz面平行的面為中心面p3。

兩組張力調(diào)整輥rt1、rt2對(duì)卷繞并支承在旋轉(zhuǎn)筒dr上的基板p賦予規(guī)定的張力。兩組夾持式的驅(qū)動(dòng)輥dr6、dr7在基板p的搬送方向上隔開規(guī)定間隔地配置，對(duì)曝光后的基板p賦予規(guī)定的松弛(余裕)dl。驅(qū)動(dòng)輥dr6夾持搬送來的基板p的上游側(cè)并旋轉(zhuǎn)，驅(qū)動(dòng)輥dr7夾持搬送來的基板p的下游側(cè)并旋轉(zhuǎn)，由此將基板p向處理裝置u2搬送。此時(shí)，基板p被賦予有松弛dl，所以能夠吸收與驅(qū)動(dòng)輥dr6相比在搬送方向下游側(cè)所產(chǎn)生的基板p的搬送速度的變動(dòng)，能夠阻斷因搬送速度的變動(dòng)而對(duì)基板p的曝光處理產(chǎn)生的影響。

因此，基板搬送機(jī)構(gòu)12通過邊緣位置控制器epc而調(diào)整從處理裝置u1搬送來的基板p的寬度方向上的位置?；灏崴蜋C(jī)構(gòu)12通過驅(qū)動(dòng)輥dr4將被調(diào)整了寬度方向位置的基板p向張力調(diào)整輥rt1搬送，并將通過了張力調(diào)整輥rt1的基板p向旋轉(zhuǎn)筒dr搬送?；灏崴蜋C(jī)構(gòu)12使旋轉(zhuǎn)筒dr旋轉(zhuǎn)而由此使被支承在旋轉(zhuǎn)筒dr上的基板p向張力調(diào)整輥rt2搬送?；灏崴蜋C(jī)構(gòu)12將搬送到張力調(diào)整輥rt2的基板p向驅(qū)動(dòng)輥dr6搬送，再將被搬送到驅(qū)動(dòng)輥dr6的基板p向驅(qū)動(dòng)輥dr7搬送。然后，基板搬送機(jī)構(gòu)12通過驅(qū)動(dòng)輥dr6及驅(qū)動(dòng)輥dr7一邊對(duì)基板p賦予松弛dl，一邊將基板p向處理裝置u2搬送。

再次參照?qǐng)D2，對(duì)曝光裝置ex的裝置框架13進(jìn)行說明。圖2中，為x方向、y方向及z方向正交的正交坐標(biāo)系，是與圖1相同的正交坐標(biāo)系。

如圖2所示，裝置框架13從z方向的下方側(cè)起依次具有：主體框架21、作為支承機(jī)構(gòu)的三點(diǎn)座22、第1光學(xué)平臺(tái)23、移動(dòng)機(jī)構(gòu)24和第2光學(xué)平臺(tái)25。主體框架21是經(jīng)由防振單元su1、su2設(shè)置在設(shè)置面e上的部分。主體框架21以能夠旋轉(zhuǎn)的方式軸支承(支承)旋轉(zhuǎn)筒dr及張力調(diào)整輥rt1(未圖示)、rt2。第1光學(xué)平臺(tái)23設(shè)置在旋轉(zhuǎn)筒dr的鉛垂方向的上方側(cè)，經(jīng)由三點(diǎn)座22設(shè)置在主體框架21上。三點(diǎn)座22通過3個(gè)支承點(diǎn)來支承第1光學(xué)平臺(tái)23，能夠調(diào)整各支承點(diǎn)處的z方向的位置(高度位置)。因此，三點(diǎn)座22能夠?qū)⒌?光學(xué)平臺(tái)23的平臺(tái)面相對(duì)于水平面的斜度調(diào)整為規(guī)定的斜度。此外，在組裝裝置框架13時(shí)，主體框架21與三點(diǎn)座22之間能夠在xy面內(nèi)沿x方向及y方向進(jìn)行位置調(diào)整。另一方面，在組裝好裝置框架13后，主體框架21與三點(diǎn)座22之間成為在xy面內(nèi)被固定的狀態(tài)(剛性狀態(tài))。

第2光學(xué)平臺(tái)25設(shè)置在第1光學(xué)平臺(tái)23的鉛垂方向的上方側(cè)，并經(jīng)由移動(dòng)機(jī)構(gòu)24設(shè)置在第1光學(xué)平臺(tái)23上。第2光學(xué)平臺(tái)25的平臺(tái)面與第1光學(xué)平臺(tái)23的平臺(tái)面平行。描繪裝置11的多個(gè)描繪單元uw1～uw5設(shè)置在第2光學(xué)平臺(tái)25上。移動(dòng)機(jī)構(gòu)24能夠在將第1光學(xué)平臺(tái)23及第2光學(xué)平臺(tái)25各自的平臺(tái)面保持為平行的狀態(tài)下，以沿鉛垂方向延伸的規(guī)定的旋轉(zhuǎn)軸i為中心使第2光學(xué)平臺(tái)25相對(duì)于第1光學(xué)平臺(tái)23精密地微小旋轉(zhuǎn)。其旋轉(zhuǎn)范圍例如相對(duì)于基準(zhǔn)位置為±幾百毫米弧度左右，成為能夠以1～幾毫米弧度的分辨率進(jìn)行角度設(shè)定的構(gòu)造。另外，移動(dòng)機(jī)構(gòu)24還具有在將第1光學(xué)平臺(tái)23及第2光學(xué)平臺(tái)25各自的平臺(tái)面保持為平行的狀態(tài)下使第2光學(xué)平臺(tái)25相對(duì)于第1光學(xué)平臺(tái)23沿x方向及y方向的至少一方精密且微小地位移移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，從而能夠使旋轉(zhuǎn)軸i從基準(zhǔn)位置沿x方向或y方向以μm級(jí)別的分辨率微小位移。該旋轉(zhuǎn)軸i在基準(zhǔn)位置處在中心面p3內(nèi)沿鉛垂方向延伸，并且從卷繞在旋轉(zhuǎn)筒dr上的基板p的表面(順著圓周面彎曲的描繪面)內(nèi)的規(guī)定點(diǎn)(基板p的寬度方向上的中點(diǎn))通過(參照?qǐng)D3)。通過這樣的移動(dòng)機(jī)構(gòu)24使第2光學(xué)平臺(tái)25相對(duì)于第1光學(xué)平臺(tái)23旋轉(zhuǎn)或者位移移動(dòng)，由此能夠一體地調(diào)整多個(gè)描繪單元uw1～uw5相對(duì)于旋轉(zhuǎn)筒dr、或纏繞在旋轉(zhuǎn)筒dr上的基板p的位置。

接著，參照?qǐng)D5說明光源裝置cnt。光源裝置cnt設(shè)置在裝置框架13的主體框架21上。光源裝置cnt射出向基板p投射的作為描繪光束lb的激光。光源裝置cnt具有光源，該光源射出與基板p上的感光性功能層的曝光相適的規(guī)定波段的、光活性作用強(qiáng)的紫外域的光。作為光源，能夠使用例如以連續(xù)振蕩出或以幾khz～幾百mhz左右脈沖振蕩出yag的第三高次諧波激光(波長(zhǎng)355nm)的激光光源。

光源裝置cnt具有激光產(chǎn)生部cu1及波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換部cu2。激光產(chǎn)生部cu1具有激光光源osc、光纖放大器fb1、fb2。激光產(chǎn)生部cu1射出基本波激光ls。光纖放大器fb1、fb2利用光纖放大基本波激光ls。激光產(chǎn)生部cu1使放大的基本波激光lr入射至波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換部cu2。在波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換部cu2中設(shè)置有波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換光學(xué)元件、分光鏡和/或偏振光分束器、棱鏡等，通過使用這些光(波長(zhǎng))選擇部件來取出作為第三高次諧波激光的355nm的激光(描繪光束lb)。此時(shí)，使產(chǎn)生種子光的激光光源osc與系統(tǒng)時(shí)鐘等同步地脈沖點(diǎn)亮，由此光源裝置cnt產(chǎn)生波長(zhǎng)355nm的描繪光束lb來作為幾khz～幾百mhz左右的脈沖光。另外，在使用這種光纖放大器的情況下，通過激光光源osc的脈沖驅(qū)動(dòng)的方式，能夠使最終輸出的激光(lr和/或lb)的1脈沖的發(fā)光時(shí)間為皮秒級(jí)別。

此外，作為光源，能夠使用例如具有紫外域的亮線(g線、h線、i線等)的水銀燈等的燈光源、在波長(zhǎng)450nm以下的紫外域具有振蕩峰值的激光二極管、發(fā)光二極管(led)等的固體光源、或者振蕩出遠(yuǎn)紫外光(duv光)的krf準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)248nm)、arf準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)193nm)、xecl準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)308nm)等的氣體激光光源。

此處，從光源裝置cnt射出的描繪光束lb如后述那樣經(jīng)由設(shè)在各描繪單元uw1～uw5內(nèi)的偏振光分束器pbs而投射在基板p上。通常，偏振光分束器pbs使成為s偏振光的直線偏振光的光束反射，并使成為p偏振光的直線偏振光的光束透射。因此，優(yōu)選在光源裝置cnt中射出使入射至偏振光分束器pbs的描繪光束lb成為直線偏振光(s偏振光)的光束那樣的激光。另外，由于激光的能量密度高，所以能夠適當(dāng)?shù)卮_保投射至基板p的光束的照度。

接下來，還參照?qǐng)D3說明曝光裝置ex的描繪裝置11。描繪裝置11為使用了多個(gè)描繪單元uw1～uw5的、所謂的多光束型的描繪裝置11。該描繪裝置11使從光源裝置cnt射出的描繪光束lb分支為多個(gè)，并使分支得到的多個(gè)描繪光束lb沿著圖3那樣的基板p上的多條(在第1實(shí)施方式中例如為5條)描繪線ll1～ll5而分別聚光為微小的點(diǎn)光(幾μm直徑)并掃描。然后，描繪裝置11使通過多條描繪線ll1～ll5的每一條而描繪在基板p上的圖案彼此在基板p的寬度方向上接合。首先，參照?qǐng)D3，對(duì)通過描繪裝置11以多個(gè)描繪光束lb進(jìn)行掃描而由此在基板p上形成的多條描繪線ll1～ll5(點(diǎn)光的掃描軌跡)進(jìn)行說明。

如圖3所示，多條描繪線ll1～ll5隔著中心面p3在旋轉(zhuǎn)筒dr的周向配置成2列。在旋轉(zhuǎn)方向的上游側(cè)的基板p上與y軸平行地配置有第奇數(shù)條的第1描繪線ll1、第3描繪線ll3及第5描繪線ll5。在旋轉(zhuǎn)方向的下游側(cè)的基板p上與y軸平行地配置有第偶數(shù)條的第2描繪線ll2及第4描繪線ll4。

各描繪線ll1～ll5沿著基板p的寬度方向(y方向)、即旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)中心線ax2大致平行地形成，且比寬度方向上的基板p的尺寸短。更嚴(yán)密地說，各描繪線ll1～ll5可以相對(duì)于旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)中心線ax2的延伸方向(軸向或?qū)挾确较?以規(guī)定的角度傾斜，以使得在利用基板搬送機(jī)構(gòu)12以基準(zhǔn)速度搬送基板p時(shí)通過多條描繪線ll1～ll5得到的圖案的接合誤差成為最小。

第奇數(shù)條的第1描繪線ll1、第3描繪線ll3及第5描繪線ll5在旋轉(zhuǎn)筒dr的中心線ax2方向上隔開規(guī)定間隔地配置。另外，第偶數(shù)條的第2描繪線ll2及第4描繪線ll4在旋轉(zhuǎn)筒dr的中心線ax2方向上隔開規(guī)定間隔地配置。此時(shí)，第2描繪線ll2在中心線ax2方向上配置在第1描繪線ll1與第3描繪線ll3之間。同樣地，第3描繪線ll3在中心線ax2方向上配置在第2描繪線ll2與第4描繪線ll4之間。第4描繪線ll4在中心線ax2方向上配置在第3描繪線ll3與第5描繪線ll5之間。并且，第1～第5描繪線ll1～ll5配置成將描繪在基板p上的曝光區(qū)域a7的寬度方向(軸向)的整個(gè)寬度覆蓋。

沿著第奇數(shù)條的第1描繪線ll1、第3描繪線ll3及第5描繪線ll5掃描的描繪光束lb的點(diǎn)光的掃描方向?yàn)橐痪S的方向，成為相同的方向。另外，沿著第偶數(shù)條的第2描繪線ll2及第4描繪線ll4掃描的描繪光束lb的點(diǎn)光的掃描方向?yàn)橐痪S的方向，成為相同的方向。此時(shí)，沿著第奇數(shù)條描繪線ll1、ll3、ll5掃描的描繪光束lb的點(diǎn)光的掃描方向(+y方向)和沿著第偶數(shù)條描繪線ll2、ll4掃描的描繪光束lb的點(diǎn)光的掃描方向(－y方向)如圖3中的箭頭所示那樣成為相反方向。這是因?yàn)?，描繪單元uw1～uw5分別為相同結(jié)構(gòu)，且第奇數(shù)個(gè)描繪單元與第偶數(shù)個(gè)描繪單元在xy面內(nèi)旋轉(zhuǎn)180°而相面對(duì)地配置，并且使設(shè)在各描繪單元uw1～uw5中的作為光束掃描器的旋轉(zhuǎn)多面鏡沿同一方向旋轉(zhuǎn)。因此，從基板p的搬送方向來看，第奇數(shù)條描繪線ll3、ll5的描繪開始位置與第偶數(shù)條描繪線ll2、ll4的描繪開始位置關(guān)于y方向以點(diǎn)光的直徑尺寸以下的誤差相鄰(或者一致)，同樣地，第奇數(shù)條描繪線ll1、ll3的描繪結(jié)束位置與第偶數(shù)條描繪線ll2、ll4的描繪結(jié)束位置關(guān)于y方向以點(diǎn)光的直徑尺寸以下的誤差相鄰(或者一致)。

如以上說明那樣，第奇數(shù)條描繪線ll1、ll3、ll5以分別在基板p上與旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)中心線ax2大致平行的方式在基板p的寬度方向上配置成一列。并且，偶數(shù)條描繪線ll2、ll4以分別在基板p上與旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)中心線ax2大致平行的方式在基板p的寬度方向上配置成一列。

接下來，參照?qǐng)D4至圖7對(duì)描繪裝置11進(jìn)行說明。描繪裝置11具有上述多個(gè)描繪單元uw1～uw5、將來自光源裝置cnt的描繪光束lb分支并導(dǎo)向描繪單元uw1～uw5的分支光學(xué)系統(tǒng)sl、和用于進(jìn)行校準(zhǔn)的校準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)31。

分支光學(xué)系統(tǒng)sl將從光源裝置cnt射出的描繪光束lb分支為多個(gè)，并將分支得到的多個(gè)描繪光束lb分別向多個(gè)描繪單元uw1～uw5引導(dǎo)。分支光學(xué)系統(tǒng)sl具有：將從光源裝置cnt射出的描繪光束lb分支為2個(gè)的第1光學(xué)系統(tǒng)41、供由第1光學(xué)系統(tǒng)41分支得到的一方的描繪光束lb入射的第2光學(xué)系統(tǒng)42、和供由第1光學(xué)系統(tǒng)41分支得到的另一方的描繪光束lb入射的第3光學(xué)系統(tǒng)43。另外，在分支光學(xué)系統(tǒng)sl的第1光學(xué)系統(tǒng)41中設(shè)有在與描繪光束lb的行進(jìn)軸正交的面內(nèi)使描繪光束lb二維地橫向位移的光束位移機(jī)構(gòu)44，在分支光學(xué)系統(tǒng)sl的第3光學(xué)系統(tǒng)43中設(shè)有使描繪光束lb二維地橫向位移的光束位移機(jī)構(gòu)45。分支光學(xué)系統(tǒng)sl的位于光源裝置cnt側(cè)的一部分設(shè)置在主體框架21上，而其位于描繪單元uw1～uw5側(cè)的另一部分設(shè)置在第2光學(xué)平臺(tái)25上。

第1光學(xué)系統(tǒng)41具有1/2波片51、偏振鏡(偏振光分束器)52、散光器(beamdiffuser)53、第1反射鏡54、第1中繼透鏡55、第2中繼透鏡56、光束位移機(jī)構(gòu)44、第2反射鏡57、第3反射鏡58、第4反射鏡59和第1分束器60。此外，在圖4、圖5中難以判斷這些各部件的配置關(guān)系，因此，還參照?qǐng)D6的立體圖來進(jìn)行說明。

如圖6所示，從光源裝置cnt沿+x方向射出的描繪光束lb入射到1/2波片51。1/2波片51能夠在描繪光束lb的入射面內(nèi)旋轉(zhuǎn)。入射到1/2波片51的描繪光束lb的偏振方向成為與1/2波片51的旋轉(zhuǎn)位置(角度)相應(yīng)的規(guī)定的偏振方向。通過了1/2波片51的描繪光束lb入射至偏振鏡52。偏振鏡52使描繪光束lb所含有的規(guī)定的偏振方向的光成分透射，另一方面使其以外的偏振方向的光成分向+y方向反射。因此，能夠通過1/2波片51及偏振鏡52的協(xié)作，根據(jù)1/2波片51的旋轉(zhuǎn)位置來調(diào)整偏振鏡52反射的描繪光束lb的強(qiáng)度。

透射過偏振鏡52的描繪光束lb的一部分(不需要的光成分)被照射至散光器(捕光)53。散光器53吸收入射來的描繪光束lb的一部分光成分，從而抑制該光成分泄漏到外部。而且，還用于在進(jìn)行描繪光束lb所通過的各種光學(xué)系統(tǒng)的調(diào)整作業(yè)時(shí)，若保持激光功率最大則功率過強(qiáng)比較危險(xiǎn)，因此以使散光器53吸收描繪光束lb的大量的光成分的方式改變1/2波片51的旋轉(zhuǎn)位置(角度)，而使朝向描繪單元uw1～uw5的描繪光束lb的功率大幅衰減。

由偏振鏡52向+y方向反射的描繪光束lb通過第1反射鏡54而向+x方向反射，經(jīng)由第1中繼透鏡55及第2中繼透鏡56入射至光束位移機(jī)構(gòu)44，并到達(dá)至第2反射鏡57。

第1中繼透鏡55使來自光源裝置cnt的描繪光束lb(大致平行光束)收斂而形成光束收細(xì)(光束腰)，第2中繼透鏡56使收斂后發(fā)散的描繪光束lb再次成為平行光束。

如圖6所示，光束位移機(jī)構(gòu)44含有沿著描繪光束lb的行進(jìn)方向(+x方向)配置的2片平行平面板(石英)，該平行平面板的一方被設(shè)置為能夠繞與y軸平行的軸傾斜，另一方的平行平面板被設(shè)置為能夠繞與z軸平行的軸傾斜。根據(jù)各平行平面板的傾斜角度，使描繪光束lb在zy面內(nèi)橫向位移并從光束位移機(jī)構(gòu)44射出。

然后，描繪光束lb被第2反射鏡57朝－y方向反射而到達(dá)至第3反射鏡58，并被第3反射鏡58朝－z方向反射而到達(dá)至第4反射鏡59。通過第4反射鏡59使描繪光束lb朝+y方向反射而入射到第1分束器60。第1分束器60將描繪光束lb的一部分光量成分朝－x方向反射而導(dǎo)向第2光學(xué)系統(tǒng)42，并且使描繪光束lb的其余的光量成分導(dǎo)向第3光學(xué)系統(tǒng)43。在本實(shí)施方式的情況下，導(dǎo)向第2光學(xué)系統(tǒng)42的描繪光束lb之后被分配給3個(gè)描繪單元uw1、uw3、uw5，導(dǎo)向第3光學(xué)系統(tǒng)43的描繪光束lb之后被分配給2個(gè)描繪單元uw2、uw4。因此，優(yōu)選的是，第1分束器60在光分割面的反射率與透射率之比為3：2(反射率60％、透射率40％)，但不一定必須如此，也可以是1：1。

在此，第3反射鏡58和第4反射鏡59在移動(dòng)機(jī)構(gòu)24的旋轉(zhuǎn)軸i上隔開規(guī)定間隔地設(shè)置。即，由第3反射鏡58反射而朝向第4反射鏡59的描繪光束lb(平行光束)的中心線被設(shè)定成與旋轉(zhuǎn)軸i一致(成為同軸)。

另外，到包含第3反射鏡58的光源裝置cnt為止的結(jié)構(gòu)(在圖4的z方向的上方側(cè)由雙點(diǎn)劃線包圍的部分)設(shè)置在主體框架21側(cè)，另一方面，到包含第4反射鏡59的多個(gè)描繪單元uw1～uw5為止的結(jié)構(gòu)(在圖4的z方向的下方側(cè)由雙點(diǎn)劃線包圍的部分)設(shè)置在第2光學(xué)平臺(tái)25側(cè)。因此，第3反射鏡58和第4反射鏡59被設(shè)置成：即使通過移動(dòng)機(jī)構(gòu)24使第1光學(xué)平臺(tái)23與第2光學(xué)平臺(tái)25相對(duì)旋轉(zhuǎn)，描繪光束lb也與旋轉(zhuǎn)軸i同軸地通過，因此從第4反射鏡59至第1分束器60的描繪光束lb的光路不會(huì)被改變。從而，即使通過移動(dòng)機(jī)構(gòu)24使第2光學(xué)平臺(tái)25相對(duì)于第1光學(xué)平臺(tái)23旋轉(zhuǎn)，也能夠?qū)脑O(shè)在主體框架21側(cè)的光源裝置cnt射出的描繪光束lb合適且穩(wěn)定地引導(dǎo)至設(shè)在第2光學(xué)平臺(tái)25側(cè)的多個(gè)描繪單元uw1～uw5。

第2光學(xué)系統(tǒng)42將由第1光學(xué)系統(tǒng)41的第1分束器60分支的一方的描繪光束lb分支而朝后述的第奇數(shù)個(gè)描繪單元uw1、uw3、uw5引導(dǎo)。第2光學(xué)系統(tǒng)42具有第5反射鏡61、第2分束器62、第3分束器63和第6反射鏡64。

由第1光學(xué)系統(tǒng)41的第1分束器60朝－x方向反射的描繪光束lb被第5反射鏡61朝－y方向反射，而入射到第2分束器62。入射到第2分束器62的描繪光束lb的一部分被朝－z方向反射，而被引導(dǎo)至第奇數(shù)個(gè)描繪單元中的1個(gè)描繪單元uw5(參照?qǐng)D5)。透射過第2分束器62的描繪光束lb向第3分束器63入射。入射到第3分束器63的描繪光束lb的一部分被朝－z方向反射，而被引導(dǎo)至第奇數(shù)個(gè)描繪單元中的1個(gè)描繪單元uw3(參照?qǐng)D5)。并且，透射過第3分束器63的描繪光束lb的一部分被第6反射鏡64朝－z方向反射，而被引導(dǎo)至第奇數(shù)個(gè)描繪單元中的1個(gè)描繪單元uw1(參照?qǐng)D5)。此外，在第2光學(xué)系統(tǒng)42中，向第奇數(shù)個(gè)描繪單元uw1、uw3、uw5照射的描繪光束lb相對(duì)于－z方向稍微傾斜。

另外，為了有效利用描繪光束lb的功率，優(yōu)選使第2分束器62的反射率與透射率之比接近1：2，使第3分束器63的反射率與透射率之比接近1：1。

另一方面，第3光學(xué)系統(tǒng)43將由第1光學(xué)系統(tǒng)41的第1分束器60分支得到的另一方的描繪光束lb分支而朝向后述的第偶數(shù)個(gè)描繪單元uw2、uw4引導(dǎo)。第3光學(xué)系統(tǒng)43具有第7反射鏡71、光束位移機(jī)構(gòu)45、第8反射鏡72、第4分束器73和第9反射鏡74。

通過第1光學(xué)系統(tǒng)41的第1分束器60沿+y方向透射的描繪光束lb被第7反射鏡71朝+x方向反射，而后從光束位移機(jī)構(gòu)45透射而入射到第8反射鏡72。光束位移機(jī)構(gòu)45由與光束位移機(jī)構(gòu)44同樣的、能夠傾斜的2片平行平面板(石英)構(gòu)成，使沿+x方向朝第8反射鏡72行進(jìn)的描繪光束lb在zy面內(nèi)橫向位移。

由第8反射鏡72朝－y方向反射的描繪光束lb朝第4分束器73入射。照射到第4分束器73的描繪光束lb的一部分被朝－z方向反射，而被引導(dǎo)至第偶個(gè)描繪單元中的1個(gè)描繪單元uw4(參照?qǐng)D5)。透射過了第4分束器73的描繪光束lb被第9反射鏡74朝－z方向反射，而被引導(dǎo)至第偶個(gè)描繪單元中的1個(gè)描繪單元uw2。此外，在第3光學(xué)系統(tǒng)43中，向第偶數(shù)個(gè)描繪單元uw2、uw4照射的描繪光束lb也是相對(duì)于－z方向稍微傾斜。

像這樣，在分支光學(xué)系統(tǒng)sl中，將來自光源裝置cnt的描繪光束lb朝向多個(gè)描繪單元uw1～uw5而分支為多個(gè)。此時(shí)，第1分束器60、第2分束器62、第3分束器63及第4分束器73以使向多個(gè)描繪單元uw1～uw5照射的描繪光束lb的光束強(qiáng)度成為相同強(qiáng)度的方式使其反射率(透射率)成為對(duì)應(yīng)于描繪光束lb的分支數(shù)的合適的反射率。

另外，光束位移機(jī)構(gòu)44配置在第2中繼透鏡56與第2反射鏡57之間。光束位移機(jī)構(gòu)44能夠在基板p的描繪面內(nèi)以μm級(jí)別微調(diào)形成在基板p上的所有描繪線ll1～ll5的位置。

另外，光束位移機(jī)構(gòu)45能夠在基板p的描繪面內(nèi)以μm級(jí)別微調(diào)形成在基板p上的描繪線ll1～ll5中的第偶數(shù)條的第2描繪線ll2及第4描繪線ll4。

進(jìn)一步參照?qǐng)D4、圖5及圖7來說明多個(gè)描繪單元uw1～uw5。如圖4(及圖1)所示，多個(gè)描繪單元uw1～uw5隔著中心面p3而在旋轉(zhuǎn)筒dr的周向配置為2列。多個(gè)描繪單元uw1～uw5中，在隔著中心面p3而配置有第1、第3、第5描繪線ll1、ll3、ll5這一側(cè)(圖5的－x方向側(cè))配置有第1描繪單元uw1、第3描繪單元uw3及第5描繪單元uw5。第1描繪單元uw1、第3描繪單元uw3及第5描繪單元uw5沿y方向隔開規(guī)定間隔地配置。另外，多個(gè)描繪單元uw1～uw5中，在隔著中心面p3而配置有第2、第4描繪線ll2、ll4這一側(cè)(圖5的+x方向側(cè))配置有第2描繪單元uw2及第4描繪單元uw4。第2描繪單元uw2及第4描繪單元uw4沿y方向隔開規(guī)定間隔地配置。此時(shí)，如之前的圖2或圖5所示，第2描繪單元uw2在y方向上位于第1描繪單元uw1與第3描繪單元uw3之間。同樣地，第3描繪單元uw3在y方向上位于第2描繪單元uw2與第4描繪單元uw4之間。第4描繪單元uw4在y方向上位于第3描繪單元uw3與第5描繪單元uw5之間。另外，如圖4所示，第1描繪單元uw1、第3描繪單元uw3及第5描繪單元uw5、和第2描繪單元uw2及第4描繪單元uw4在從y方向觀察時(shí)以中心面p3為中心對(duì)稱地配置。

接下來，參照?qǐng)D4說明各描繪單元uw1～uw5內(nèi)的光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)。此外，由于各描繪單元uw1～uw5為相同的結(jié)構(gòu)，所以以第1描繪單元uw1(以下，僅稱為描繪單元uw1)為例進(jìn)行說明。

圖4所示的描繪單元uw1具有：用于沿著描繪線ll1(第1描繪線ll1)以描繪光束lb的點(diǎn)光掃描的、光偏轉(zhuǎn)器81、偏振光分束器pbs、1/4波片82、掃描器83、彎折鏡84、f－θ透鏡系統(tǒng)85和包含柱面透鏡86的y倍率修正用光學(xué)部件(透鏡組)86b。另外，與偏振光分束器pbs相鄰地設(shè)置有校準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)31。

光偏轉(zhuǎn)器81使用例如聲光元件(aom：acoustoopticmodulator；聲光調(diào)制器)。aom是通過是否在內(nèi)部利用超聲波(高頻信號(hào))生成衍射格柵來切換為使入射的描繪光束的1次衍射光以規(guī)定的衍射角方向產(chǎn)生的接通狀態(tài)(on狀態(tài))和不產(chǎn)生一次衍射光的斷開狀態(tài)(off狀態(tài))的光切換元件。

圖1所示的控制部16通過將光偏轉(zhuǎn)器81切換為接通/斷開而快速地切換描繪光束lb向基板p的投射/非投射。具體來說，在光偏轉(zhuǎn)器81上經(jīng)由中繼透鏡91相對(duì)于－z方向稍微傾斜地照射有通過分支光學(xué)系統(tǒng)sl分配的描繪光束lb中的一個(gè)。在光偏轉(zhuǎn)器81切換為斷開時(shí)，描繪光束lb以傾斜的狀態(tài)前進(jìn)，并被在通過了光偏轉(zhuǎn)器81的前方設(shè)置的遮光板92遮光。另一方面，在光偏轉(zhuǎn)器81切換為接通時(shí)，描繪光束lb(1次衍射光)被向－z方向偏轉(zhuǎn)，通過光偏轉(zhuǎn)器81而照射到設(shè)于光偏轉(zhuǎn)器81的z方向上的偏振光分束器pbs上。因此，在光偏轉(zhuǎn)器81切換為接通時(shí)，描繪光束lb的點(diǎn)光投射在基板p上，在光偏轉(zhuǎn)器81切換為斷開時(shí)，描繪光束lb的點(diǎn)光不投射在基板p上。

此外，aom配置在通過中繼透鏡91而收斂的描繪光束lb的光束收細(xì)的位置，因此從光偏轉(zhuǎn)器81射出的描繪光束lb(1次衍射光)是發(fā)散的。為此，在光偏轉(zhuǎn)器81之后，設(shè)有使發(fā)散的描繪光束lb恢復(fù)為平行光束的中繼透鏡93。

偏振光分束器pbs將從光偏轉(zhuǎn)器81經(jīng)由中繼透鏡93而照射的描繪光束lb反射。從偏振光分束器pbs射出的描繪光束lb依次進(jìn)入到1/4波片82、掃描器83(旋轉(zhuǎn)多面鏡)、彎折鏡84、f－θ透鏡系統(tǒng)85、y倍率修正用光學(xué)部件86b、及柱面透鏡86，并作為掃描點(diǎn)光聚光在基板p上。

另一方面，偏振光分束器pbs與設(shè)置在偏振光分束器pbs與掃描器83之間的1/4波片82協(xié)作，使得投射在基板p或其下的旋轉(zhuǎn)筒dr的外周面上的描繪光束lb的反射光依次反向進(jìn)入y倍率修正用光學(xué)部件86b、柱面透鏡86、f－θ透鏡系統(tǒng)85、彎折鏡84、掃描器83，因此能夠使反射光透射。也就是說，從光偏轉(zhuǎn)器81向偏振光分束器pbs照射的描繪光束lb是成為s偏振光的直線偏振光的激光，被偏振光分束器pbs反射。另外，被偏振光分束器pbs反射的描繪光束lb通過1/4波片82、掃描器83、彎折鏡84、f－θ透鏡系統(tǒng)85、y倍率修正用光學(xué)部件86b、柱面透鏡86而照射在基板p上，且聚光在基板p上的描繪光束lb的點(diǎn)光成為圓偏振光。來自基板p(或旋轉(zhuǎn)筒dr的外周面)的反射光反向進(jìn)入至描繪光束lb的送光光路并再次通過1/4波片82，由此變成成為p偏振光的直線偏振光的激光。因此，從基板p(或旋轉(zhuǎn)筒dr)到達(dá)至偏振光分束器pbs的反射光透射過偏振光分束器pbs，經(jīng)由中繼透鏡94而照射在校準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)31的光電傳感器31cs上。

像這樣，偏光向分束器pbs是配置在包含掃描器83的掃描光學(xué)系統(tǒng)與校準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)31之間的光分割器。校準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)31共用使描繪光束lb射向基板p的送光光學(xué)系統(tǒng)的大量部分，因此成為容易且緊湊的光學(xué)系統(tǒng)。

如圖4及圖7所示，掃描器83具有反射鏡96、旋轉(zhuǎn)多面鏡(polygonmirror)97和原點(diǎn)檢測(cè)器98。通過了1/4波片82的描繪光束lb(平行光束)經(jīng)由柱面透鏡95后被反射鏡96在xy面內(nèi)反射，而照射到旋轉(zhuǎn)多面鏡97上。旋轉(zhuǎn)多面鏡97構(gòu)成為包含沿z方向延伸的旋轉(zhuǎn)軸97a、和在旋轉(zhuǎn)軸97a周圍形成的多個(gè)反射面97b。旋轉(zhuǎn)多面鏡97以旋轉(zhuǎn)軸97a為中心繞規(guī)定的旋轉(zhuǎn)方向旋轉(zhuǎn)，由此使照射在反射面97b上的描繪光束lb(被光偏轉(zhuǎn)器81進(jìn)行了強(qiáng)度調(diào)制后的光束)的反射角在xy面內(nèi)連續(xù)的變化，由此，反射的描繪光束lb通過彎折鏡84、f－θ透鏡系統(tǒng)85、第2柱面透鏡86(及y倍率修正用光學(xué)部件86b)而聚光于點(diǎn)光，并沿著基板p上的描繪線ll1(同樣地沿ll2～ll5)掃描。原點(diǎn)檢測(cè)器98檢測(cè)沿著基板p的描繪線ll1(同樣地沿ll2～ll5)掃描的描繪光束lb的原點(diǎn)。原點(diǎn)檢測(cè)器98隔著由各反射面97b反射的描繪光束lb而配置在反射鏡96的相反測(cè)。

圖7中為了簡(jiǎn)化說明，關(guān)于原點(diǎn)檢測(cè)器98僅圖示了光電檢測(cè)器，但實(shí)際上，還設(shè)置有向被投射描繪光束lb的旋轉(zhuǎn)多面鏡97的反射面97b投射檢測(cè)用光束的led和/或半導(dǎo)體激光等的檢測(cè)用光源，原點(diǎn)檢測(cè)器98經(jīng)由細(xì)窄的狹縫來光電檢測(cè)該檢測(cè)用光束的在反射面97b反射的反射光。

由此，原點(diǎn)檢測(cè)器98被設(shè)定成：總是在相對(duì)于使點(diǎn)光照射于基板p上的描繪線ll1(ll2～ll5)的描繪開始位置的定時(shí)提早一定時(shí)間地，輸出表示原點(diǎn)的脈沖信號(hào)。

從掃描器83照射到彎折鏡84的描繪光束lb被彎折鏡84朝－z方向反射，而入射到f－θ透鏡系統(tǒng)85、柱面透鏡86(及y倍率修正用光學(xué)部件86b)。

另外，若旋轉(zhuǎn)多面鏡97的各反射面97b與旋轉(zhuǎn)軸97a的中心線并沒有嚴(yán)格地平行，而是稍微傾斜(面傾斜)，則使基于投射在基板p上的點(diǎn)光所形成的描繪線(ll1～ll5)按每個(gè)反射面97b在基板p上沿x方向移動(dòng)。為此，使用圖8說明通過設(shè)置2個(gè)柱面透鏡95、86來減少或消除針對(duì)旋轉(zhuǎn)多面鏡97的各反射面97b的面傾斜所采取的描繪線ll1～ll5沿x方向的移動(dòng)。

圖8的左側(cè)示出了將柱面透鏡95、掃描器83、f－θ透鏡系統(tǒng)85、柱面透鏡86的光路展開于xy平面的情形，圖8的右側(cè)示出了將該光路展開于xz平面的情形。作為基本的光學(xué)配置，旋轉(zhuǎn)多面鏡97的被照射描繪光束lb的反射面97b被配置成位于f-θ透鏡系統(tǒng)85的入射光瞳位置(前側(cè)焦點(diǎn)位置)。由此，相對(duì)于旋轉(zhuǎn)多面鏡97的旋轉(zhuǎn)角θp/2，入射至f－θ透鏡系統(tǒng)85的描繪光束lb的入射角成為θp，與該入射角θp成比例地決定投射在基板p(被照射面)上的點(diǎn)光的像高位置。另外，由于使反射面97b成為f－θ透鏡系統(tǒng)85的前側(cè)焦點(diǎn)位置，從而投射在基板p上的描繪光束lb無論在描繪線上的哪個(gè)位置均為遠(yuǎn)心狀態(tài)(成為點(diǎn)光的描繪光束的主光線始終與f－θ透鏡系統(tǒng)85的光軸axf平行的狀態(tài))。

如圖8所示，2個(gè)柱面透鏡95、86在與旋轉(zhuǎn)多面鏡97的旋轉(zhuǎn)軸97a垂直的面(xy面)內(nèi)均作為折射力(功率)為零的平行平板玻璃而發(fā)揮作用，并在旋轉(zhuǎn)軸97a所延伸的z方向(xz面內(nèi))均作為具有一定的正折射力的凸透鏡而發(fā)揮作用。入射到第1柱面透鏡95的描繪光束lb(大致平行光束)的截面形狀為幾mm左右的圓形，但是若將柱面透鏡95的xz面內(nèi)的焦點(diǎn)位置經(jīng)由反射鏡96設(shè)定在旋轉(zhuǎn)多面鏡97的反射面97b上，則在xy面內(nèi)具有幾mm的光束寬度、在z方向上收斂的狹縫狀的點(diǎn)光沿旋轉(zhuǎn)方向延伸地聚光在反射面97b上。

由旋轉(zhuǎn)多面鏡97的反射面97b反射的描繪光束lb在xy面內(nèi)是平行光束，但在xz面內(nèi)(旋轉(zhuǎn)軸97a的延伸方向)，成為發(fā)散光束而入射至f－θ透鏡系統(tǒng)85。因此，剛從f－θ透鏡系統(tǒng)85射出的描繪光束lb在xz面內(nèi)(旋轉(zhuǎn)軸97a的延伸方向)成為大致平行光束，但因第2柱面透鏡86的作用，關(guān)于xz面內(nèi)、即基板p上與描繪線ll1～ll5的延伸方向正交的基板p的搬送方向，也聚光為點(diǎn)光。其結(jié)果為，在基板p上的各描繪線上透射有圓形的小點(diǎn)光。

通過設(shè)置柱面透鏡86，如圖8的右側(cè)所示那樣，能夠在xz面內(nèi)將旋轉(zhuǎn)多面鏡97的反射面97b和基板p(被照射面)設(shè)定為光學(xué)上像共軛關(guān)系。因此，旋轉(zhuǎn)多面鏡97的各反射面97b即使相對(duì)于與描繪光束lb的掃描方向正交的非掃描方向(旋轉(zhuǎn)軸97a的延伸方向)具有傾斜誤差，基板p上的描繪線(ll1～ll5)的位置也不會(huì)在點(diǎn)光的非掃描方向(基板p的搬送方向)上發(fā)生偏移。像這樣，通過在旋轉(zhuǎn)多面鏡97之前和之后設(shè)置柱面透鏡95、86，能夠構(gòu)成針對(duì)非掃描方向的多面反射面的面傾斜修正光學(xué)系統(tǒng)。

在此，如圖7所示，多個(gè)描繪單元uw1～uw5的各掃描器83成為相對(duì)于中心面p3對(duì)稱的結(jié)構(gòu)。多個(gè)掃描器83中與描繪單元uw1、uw3、uw5對(duì)應(yīng)的3個(gè)掃描器83配置在旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)方向的上游側(cè)(圖7的－x方向側(cè))，與描繪單元uw2、uw4對(duì)應(yīng)的2個(gè)掃描器83配置在旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)方向的下游側(cè)(圖7的+x方向側(cè))。而且，上游側(cè)的3個(gè)掃描器83和下游側(cè)的2個(gè)掃描器83夾著中心面p3相對(duì)地配置。像這樣，上游側(cè)的3個(gè)掃描器83和下游側(cè)的2個(gè)掃描器83成為以旋轉(zhuǎn)軸i(z軸)為中心旋轉(zhuǎn)180°的配置關(guān)系。因此，若上游側(cè)的3個(gè)旋轉(zhuǎn)多面鏡97一邊例如向左旋轉(zhuǎn)、一邊使描繪光束lb照射至旋轉(zhuǎn)多面鏡97上，則由旋轉(zhuǎn)多面鏡97反射的描繪光束lb從描繪開始位置向描繪結(jié)束位置沿規(guī)定的掃描方向(例如圖7的+y方向)掃描。另一方面，若下游側(cè)的2個(gè)旋轉(zhuǎn)多面鏡97一邊向左旋轉(zhuǎn)、一邊使描繪光束lb照射至旋轉(zhuǎn)多面鏡97上，則由旋轉(zhuǎn)多面鏡97反射的描繪光束lb從描繪開始位置向描繪結(jié)束位置沿著與上游側(cè)的3個(gè)旋轉(zhuǎn)多面鏡97相反的掃描方向(例如圖7的－y方向)掃描。

在此，在圖4的xz面內(nèi)觀察時(shí)，從第奇數(shù)個(gè)描繪單元uw1、uw3、uw5到達(dá)基板p的描繪光束lb的軸線成為與設(shè)置方位線le1一致的方向。也就是說，設(shè)置方位線le1在xz面內(nèi)成為連結(jié)第奇數(shù)條描繪線ll1、ll3、ll5和旋轉(zhuǎn)中心線ax2而成的線。同樣地，在圖4的xz面內(nèi)觀察時(shí)，從第偶數(shù)個(gè)描繪單元uw2、uw4到達(dá)基板p的描繪光束lb的軸線成為與設(shè)置方位線le2一致的方向。也就是說，設(shè)置方位線le2在xz面內(nèi)成為連結(jié)第偶數(shù)條描繪線ll2、ll4和旋轉(zhuǎn)中心線ax2而成的線。因此，在基板p上成為點(diǎn)光投射的描繪光束lb的各行進(jìn)方向(主光線)均被設(shè)定為朝向旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)中心線ax2。

y倍率修正用光學(xué)部件86b配置在f－θ透鏡系統(tǒng)85與基板p之間。y倍率修正用光學(xué)部件86b能夠使利用各描繪單元uw1～uw5形成的描繪線ll1～ll5在y方向上各向同性地以微少量擴(kuò)大或縮小。

具體來說，能夠使用如下的機(jī)構(gòu)，即，使分別覆蓋描繪線ll1～ll5的具有一定厚度的透射性的平行平面板(石英)關(guān)于描繪線的延伸方向機(jī)械地彎曲(bending)而使描繪線的y方向的倍率(掃描長(zhǎng))可變的機(jī)構(gòu)、或者使凸透鏡、凹透鏡、凸透鏡這3組透鏡系統(tǒng)的一部分沿光軸方向移動(dòng)而使描繪線的y方向的倍率(掃描長(zhǎng))可變的機(jī)構(gòu)等。

如此構(gòu)成的描繪裝置11的各部分由控制部16控制，由此在基板p上描繪出規(guī)定的圖案。也就是說，控制部16在投射于基板p的描繪光束lb向掃描方向掃描的期間中，基于應(yīng)在基板p上描繪的圖案的cad信息來對(duì)光偏轉(zhuǎn)器81進(jìn)行接通/斷開調(diào)制，由此使描繪光束lb偏轉(zhuǎn)，在基板p的光感應(yīng)層上描繪出圖案。另外，控制部16通過使沿著描繪線ll1掃描的描繪光束lb的掃描方向和基于旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)所進(jìn)行的基板p的搬送方向的移動(dòng)同步來在曝光區(qū)域a7中的與描繪線ll1對(duì)應(yīng)的部分描繪出規(guī)定的圖案。

接下來，參照?qǐng)D3及圖9來說明對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2。對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2檢測(cè)預(yù)先形成于基板p上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記、或者形成于旋轉(zhuǎn)筒dr上的基準(zhǔn)標(biāo)記和/或基準(zhǔn)圖案等。以下，將基板p的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記及旋轉(zhuǎn)筒dr的基準(zhǔn)標(biāo)記和/或基準(zhǔn)圖案簡(jiǎn)稱為標(biāo)記。對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2用于使基板p和要描繪在基板p上的規(guī)定的圖案對(duì)位(對(duì)準(zhǔn))、或者對(duì)旋轉(zhuǎn)筒dr和描繪裝置11進(jìn)行校準(zhǔn)。

對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2與通過描繪裝置11形成的描繪線ll1～ll5相比設(shè)置在旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)方向(基板p的搬送方向)的上游側(cè)。另外，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1與對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am2相比配置在旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)方向的上游側(cè)。

對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2由將照明光向基板p或旋轉(zhuǎn)筒dr投射，并且使標(biāo)記處產(chǎn)生的光入射的作為檢測(cè)探針的物鏡系統(tǒng)ga(圖9中代表性地示出為對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am2的物鏡系統(tǒng)ga4)、和通過二維ccd、cmos等對(duì)經(jīng)由物鏡系統(tǒng)ga而接收的標(biāo)記的像(亮視野像、暗視野像、熒光像等)進(jìn)行拍攝的拍攝系統(tǒng)gd(圖9中代表性地示出為對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am2的拍攝系統(tǒng)gd4)等構(gòu)成。此外，對(duì)準(zhǔn)用的照明光是對(duì)于基板p上的光感應(yīng)層而言幾乎不具有靈敏度的波段的光、例如波長(zhǎng)500～800nm左右的光。

對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1在y方向(基板p的寬度方向)沿一列排列地設(shè)有多個(gè)(例如3個(gè))。同樣地，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am2在y方向(基板p的寬度方向)沿一列排列地設(shè)有多個(gè)(例如3個(gè))。也就是說，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2共計(jì)設(shè)有6個(gè)。

圖3中，為了容易判斷，示出了6個(gè)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2的各物鏡系統(tǒng)ga中的、3個(gè)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1的各物鏡系統(tǒng)ga1～ga3的配置?；?個(gè)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1的各物鏡系統(tǒng)ga1～ga3而形成的基板p(或旋轉(zhuǎn)筒dr的外周面)上的觀察區(qū)域(檢測(cè)位置)vw1～vw3如圖3所示那樣在與旋轉(zhuǎn)中心線ax2平行的y方向上以規(guī)定的間隔配置。如圖9所示，通過各觀察區(qū)域vw1～vw3的中心的各物鏡系統(tǒng)ga1～ga3的光軸la1～la3均與xz面平行。同樣地，基于3個(gè)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am2的各物鏡系統(tǒng)ga而形成的基板p(或旋轉(zhuǎn)筒dr的外周面)上的觀察區(qū)域vw4～vw6如圖3所示那樣在與旋轉(zhuǎn)中心線ax2平行的y方向上以規(guī)定的間隔配置。如圖9所示，通過各觀察區(qū)域vw4～vw6的中心的各物鏡系統(tǒng)ga的光軸la4～la6也均與xz面平行。而且，觀察區(qū)域vw1～vw3和觀察區(qū)域vw4～vw6在旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)方向上以規(guī)定的間隔配置。

基于該對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2對(duì)標(biāo)記的觀察區(qū)域vw1～vw6在基板p和/旋轉(zhuǎn)筒dr上設(shè)定在例如500～200μm方形左右的范圍內(nèi)。在此，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1的光軸la1～la3、即物鏡系統(tǒng)ga的光軸la1～la3與從旋轉(zhuǎn)中心線ax2向旋轉(zhuǎn)筒dr的徑向的延伸設(shè)置方位線le3設(shè)定為相同的方向。像這樣，設(shè)置方位線le3在圖9的xz面內(nèi)觀察時(shí)成為連結(jié)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1的觀察區(qū)域vw1～vw3和旋轉(zhuǎn)中心線ax2而成的線。同樣地，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am2的光軸la4～la6、即物鏡系統(tǒng)ga的光軸la4～la6與從旋轉(zhuǎn)中心線ax2朝旋轉(zhuǎn)筒dr的徑向延伸的設(shè)置方位線le4設(shè)定為相同的方向。像這樣，設(shè)置方位線le4在從圖9的xz面內(nèi)觀察時(shí)成為連結(jié)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am2的觀察區(qū)域vw4～vw6與旋轉(zhuǎn)中心線ax2而成的線。此時(shí)，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1與對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am2相比配置在旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)方向的上游側(cè)，因此中心面p3與設(shè)置方位線le3所成的角度大于中心面p3與設(shè)置方位線le4所成的角度。

如圖3所示，在基板p上沿x方向隔開規(guī)定間隔地配置有通過5條描繪線ll1～ll5的每一條所描繪出的曝光區(qū)域a7。在基板p上的曝光區(qū)域a7的周圍例如呈十字狀地形成有用于對(duì)位的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ks1～ks3(以下，簡(jiǎn)稱為標(biāo)記)。

圖3中，標(biāo)記ks1在曝光區(qū)域a7的－y側(cè)的周邊區(qū)域沿x方向以一定的間隔設(shè)置，標(biāo)記ks3在曝光區(qū)域a7的+y側(cè)的周邊區(qū)域沿x方向以一定的間隔設(shè)置。而且，標(biāo)記ks2在沿x方向相鄰的2個(gè)曝光區(qū)域a7之間的空白區(qū)域處設(shè)置在y方向的中央。

并且，標(biāo)記ks1形成為在輸送基板p期間依次在對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1的物鏡系統(tǒng)ga1的觀察區(qū)域vw1內(nèi)、及對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am2的物鏡系統(tǒng)ga的觀察區(qū)域vw4內(nèi)被捕捉到。另外，標(biāo)記ks3形成為在輸送基板p期間依次在對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1的物鏡系統(tǒng)ga3的觀察區(qū)域vw3內(nèi)、及對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am2的物鏡系統(tǒng)ga的觀察區(qū)域vw6內(nèi)被捕捉到。而且，標(biāo)記ks2形成為在輸送基板p期間分別依次在對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1的物鏡系統(tǒng)ga2的觀察區(qū)域vw2內(nèi)、及對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am2的物鏡系統(tǒng)ga的觀察區(qū)域vw5內(nèi)被捕捉到。

因此，3個(gè)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2中的、旋轉(zhuǎn)筒dr的y方向的兩側(cè)的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2能夠始終觀察或檢測(cè)到形成于基板p的寬度方向的兩側(cè)標(biāo)記ks1、ks3。另外，3個(gè)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2中的、旋轉(zhuǎn)筒dr的y方向的中央的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2能夠始終觀察或檢測(cè)到在基板p上描繪的曝光區(qū)域a7彼此之間的空白部等處所形成的標(biāo)記ks2。

在此，曝光裝置ex是所謂的多光束型的描繪裝置，因此為了在y方向合適地接合通過多個(gè)描繪單元uw1～uw5的各描繪線ll1～ll5在基板p上描繪的多個(gè)圖案彼此，需要用于將基于多個(gè)描繪單元uw1～uw5的接合精度抑制在允許范圍內(nèi)的校準(zhǔn)。另外，需要通過基線管理精密地求出對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2的觀察區(qū)域vw1～vw6相對(duì)于多個(gè)描繪單元uw1～uw5的各描繪線ll1～ll5的相對(duì)位置關(guān)系。為了該基線管理，也需要校準(zhǔn)。

在用于確認(rèn)基于多個(gè)描繪單元uw1～uw5的接合精度的校準(zhǔn)、及用于對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2的基線管理的校準(zhǔn)中，需要在支承基板p的旋轉(zhuǎn)筒dr的外周面的至少一部分設(shè)置基準(zhǔn)標(biāo)記和/或基準(zhǔn)圖案。為此，如圖10所示，在曝光裝置ex中使用了在外周面設(shè)有基準(zhǔn)標(biāo)記和/或基準(zhǔn)圖案的旋轉(zhuǎn)筒dr。

旋轉(zhuǎn)筒dr在其外周面的兩端側(cè)與圖3、圖9同樣地形成有構(gòu)成后述的旋轉(zhuǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)14的一部分的標(biāo)尺部gpa、gpb。另外，旋轉(zhuǎn)筒dr在標(biāo)尺部gpa、gpb的內(nèi)側(cè)在整周范圍內(nèi)刻設(shè)有由凹狀的槽、或者凸?fàn)畹睦咝纬傻恼南拗茙la、clb?；錺的y方向上的寬度設(shè)定得比該2條限制帶cla、clb的y方向上的間隔小，并且基板p被旋轉(zhuǎn)筒dr的外周面中的、由限制帶cla、clb夾持的內(nèi)側(cè)的區(qū)域緊貼地支承。

旋轉(zhuǎn)筒dr在由限制帶cla、clb所夾持的外周面上設(shè)有網(wǎng)格狀的基準(zhǔn)圖案(也能夠用作基準(zhǔn)標(biāo)記)rmp，該基準(zhǔn)圖案rmp中，以一定的間距(周期)pf1、pf2反復(fù)刻設(shè)有相對(duì)于旋轉(zhuǎn)中心線ax2以+45度傾斜的多個(gè)線圖案rl1(linepattern)和相對(duì)于旋轉(zhuǎn)中心線ax2以－45度傾斜的多個(gè)線圖案rl2(linepattern)。此外，線圖案rl1及線圖案rl2的寬度為lw。

基準(zhǔn)圖案rmp以在基板p與旋轉(zhuǎn)筒dr的外周面接觸的部分處摩擦力和/或基板p的張力等不發(fā)生變化的方式成為整面均勻的斜圖案(斜格狀圖案)。此外，線圖案rl1、rl2不必必須傾斜45度，也可以是使線圖案rl1與y軸平行、使線圖案rl2與x軸平行的縱橫的網(wǎng)格狀圖案。而且，圖案rl1、rl2不必以90度交叉，也可以以使由相鄰的2條線圖案rl1和相鄰的2條線圖案rl2包圍的矩形區(qū)域成為正方形(或長(zhǎng)方形)以外的菱形那樣的角，使線圖案rl1、rl2交叉。

接下來，參照?qǐng)D3、圖4及圖9說明旋轉(zhuǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)14。如圖9所示，旋轉(zhuǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)14是光學(xué)地檢測(cè)旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)位置的機(jī)構(gòu)，例如適用使用了旋轉(zhuǎn)編碼器等的編碼器系統(tǒng)。旋轉(zhuǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)14是具有設(shè)置在旋轉(zhuǎn)筒dr的兩端部的標(biāo)尺部gpa、gpb、和分別與標(biāo)尺部gpa、gpb相對(duì)的多個(gè)編碼器讀頭en1、en2、en3、en4的移動(dòng)測(cè)量裝置。在圖4及圖9中，僅示出了與標(biāo)尺部gpa相對(duì)的4個(gè)編碼器讀頭en1、en2、en3、en4，但還與標(biāo)尺部gpb相對(duì)地設(shè)置有同樣的編碼器讀頭en1、en2、en3、en4。旋轉(zhuǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)14具有能夠檢測(cè)旋轉(zhuǎn)筒dr的兩端部的移動(dòng)(旋轉(zhuǎn)中心線ax2所延伸的y方向上的微少位移)的變位計(jì)yn1、yn2、yn3、yn4。

標(biāo)尺部gpa、gpb的刻度分別在旋轉(zhuǎn)筒dr的外周面的整個(gè)周向范圍內(nèi)形成為環(huán)狀。標(biāo)尺部gpa、gpb是在旋轉(zhuǎn)筒dr的外周面的周向以一定的間距(例如20μm)刻設(shè)有凹狀或凸?fàn)畹母褡泳€的衍射格柵，構(gòu)成為遞增型標(biāo)尺。因此，標(biāo)尺部gpa、gpb繞旋轉(zhuǎn)中心線ax2與旋轉(zhuǎn)筒dr一體地旋轉(zhuǎn)。

基板p構(gòu)成為卷繞在旋轉(zhuǎn)筒dr的避開了兩端的標(biāo)尺部gpa、gpb的內(nèi)側(cè)、也就是限制帶cla、clb的內(nèi)側(cè)。在需要嚴(yán)密的配置關(guān)系的情況下，設(shè)定為使標(biāo)尺部gpa、gpb的外周面與卷繞在旋轉(zhuǎn)筒dr上的基板p的部分的外周面成為同一面(從中心線ax2具有相同半徑)。為此，使標(biāo)尺部gpa、gpb的外周面相對(duì)于旋轉(zhuǎn)筒dr的用于卷繞基板的外周面在徑向僅高出基板p的厚度量即可。因此，能夠?qū)⑿纬稍谛D(zhuǎn)筒dr上的標(biāo)尺部gpa、gpb的外周面設(shè)定為與基板p的外周面大致相同的半徑。從而，編碼器讀頭en1、en2、en3、en4能夠在與卷繞在旋轉(zhuǎn)筒dr的基板p上的描繪面相同的徑向位置處檢測(cè)標(biāo)尺部gpa、gpb，能夠減小因測(cè)量位置與處理位置在旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的徑向不同所產(chǎn)生的阿貝誤差。

編碼器讀頭en1、en2、en3、en4在從旋轉(zhuǎn)中心線ax2觀察時(shí)分別配置在標(biāo)尺部gpa、gpb的周圍，成為在旋轉(zhuǎn)筒dr的周向不同的位置。該編碼器讀頭en1、en2、en3、en4與控制部16連接。編碼器讀頭en1、en2、en3、en4向標(biāo)尺部gpa、gpb投射測(cè)量用的光束，并光電檢測(cè)其反射光束(衍射光)，由此將與標(biāo)尺部gpa、gpb的周向的位置變化相應(yīng)的檢測(cè)信號(hào)(例如，具有90度相位差的2相信號(hào))向控制部16輸出。控制部16通過未圖示的計(jì)數(shù)器電路對(duì)該檢測(cè)信號(hào)進(jìn)行內(nèi)插插補(bǔ)并進(jìn)行數(shù)字處理，由此能夠以次微米的分辨率測(cè)量旋轉(zhuǎn)筒dr的角度變化、即其外周面的周向的位置變化?？刂撇?6還能夠從旋轉(zhuǎn)筒dr的角度變化測(cè)量出基板p的搬送速度。

另外，如圖4及圖9所示，編碼器讀頭en1配置在設(shè)置方位線le1上。設(shè)置方位線le1在xz面內(nèi)成為連結(jié)基于編碼器讀頭en1的測(cè)量用光束向標(biāo)尺部gpa(gpb)上的投射區(qū)域(讀取位置)與旋轉(zhuǎn)中心線ax2而成的線。另外，如上述那樣，設(shè)置方位線le1在xz面內(nèi)成為將描繪線ll1、ll3、ll5和旋轉(zhuǎn)中心線ax2連結(jié)而成的線?；谝陨蟽?nèi)容，連結(jié)編碼器讀頭en1的讀取位置與旋轉(zhuǎn)中心線ax2而成的線、和連結(jié)描繪線ll1、ll3、ll5與旋轉(zhuǎn)中心線ax2而成的線為相同的方位線。

同樣地，如圖4及圖9所示，編碼器讀頭en2配置在設(shè)置方位線le2上。設(shè)置方位線le2在xz面內(nèi)成為將基于編碼器讀頭en2的測(cè)量用光束向標(biāo)尺部gpa(gpb)上的投射區(qū)域(讀取位置)與旋轉(zhuǎn)中心線ax2連結(jié)而成的線。另外，如上述那樣，設(shè)置方位線le2在xz面內(nèi)成為將描繪線ll2、ll4與旋轉(zhuǎn)中心線ax2連結(jié)而成的線?；谝陨蟽?nèi)容，連結(jié)編碼器讀頭en2的讀取位置與旋轉(zhuǎn)中心線ax2而成的線、和連結(jié)描繪線ll2、ll4與旋轉(zhuǎn)中心線ax2而成的線為相同的方位線。

另外，如圖4及圖9所示，編碼器讀頭en3配置在設(shè)置方位線le3上。設(shè)置方位線le3在xz面內(nèi)成為將基于編碼器讀頭en3的測(cè)量用光束向標(biāo)尺部gpa(gpb)上的投射區(qū)域(讀取位置)與旋轉(zhuǎn)中心線ax2連結(jié)而成的線。另外，如上述那樣，設(shè)置方位線le3在xz面內(nèi)成為將基于對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1對(duì)基板p的觀察區(qū)域vw1～vw3與旋轉(zhuǎn)中心線ax2連結(jié)而成的線?；谝陨蟽?nèi)容，連結(jié)編碼器讀頭en3的讀取位置與旋轉(zhuǎn)中心線ax2而成的線、和連結(jié)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1的觀察區(qū)域vw1～vw3與旋轉(zhuǎn)中心線ax2而成的線在xz面內(nèi)觀察時(shí)成為相同的方位線。

同樣地，如圖4及圖9所示，編碼器讀頭en4配置在設(shè)置方位線le4上。設(shè)置方位線le4在xz面內(nèi)成為將基于編碼器讀頭en4的測(cè)量用光束向標(biāo)尺部gpa(gpb)上的投射區(qū)域(讀取位置)與旋轉(zhuǎn)中心線ax2連結(jié)而成的線。另外，如上述那樣，設(shè)置方位線le4在xz面內(nèi)成為將基于對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am2對(duì)基板p的觀察區(qū)域vw4～vw6與旋轉(zhuǎn)中心線ax2連結(jié)而成的線?；谝陨蟽?nèi)容，連結(jié)編碼器讀頭en4的讀取位置與旋轉(zhuǎn)中心線ax2而成的線、和連結(jié)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am2的觀察區(qū)域vw4～vw6與旋轉(zhuǎn)中心線ax2而成的線在xz面內(nèi)觀察時(shí)成為相同的方位線。

在以設(shè)置方位線le1、le2、le3、le4表示編碼器讀頭en1、en2、en3、en4的設(shè)置方位(以旋轉(zhuǎn)中心線ax2為中心的xz面內(nèi)的角度方向)的情況下，如圖4所示，以使得設(shè)置方位線le1、le2相對(duì)于中心面p3成為角度±θ°的方式配置多個(gè)描繪單元uw1～uw5及編碼器讀頭en1、en2。設(shè)置方位線le1和設(shè)置方位線le2以使得編碼器讀頭en1和編碼器讀頭en2在標(biāo)尺部gpa(gpb)的刻度周圍成為空間上不會(huì)發(fā)生干涉的狀態(tài)設(shè)置。

變位計(jì)yn1、yn2、yn3、yn4在從旋轉(zhuǎn)中心線ax2觀察時(shí)分別配置在標(biāo)尺部gpa或gpb的周圍，成為在旋轉(zhuǎn)筒dr的周向不同的位置。該變位計(jì)yn1、yn2、yn3、yn4與控制部16連接。

變位計(jì)yn1、yn2、yn3、yn4通過在與卷繞在旋轉(zhuǎn)筒dr上的基板p上的描繪面在徑向盡可能近的位置檢測(cè)位移，由此能夠減少阿貝誤差。變位計(jì)yn1、yn2、yn3、yn4朝向旋轉(zhuǎn)筒dr的兩端部的一方投射測(cè)量用的光束，并光電檢測(cè)其反射光束(或衍射光)，由此將與旋轉(zhuǎn)筒dr的兩端部的y方向(基板p的寬度方向)的位置變化相應(yīng)的檢測(cè)信號(hào)向控制部16輸出?？刂撇?6通過未圖示的測(cè)量電路(計(jì)數(shù)器電路和內(nèi)插插補(bǔ)電路等)數(shù)字處理該檢測(cè)信號(hào)，由此能夠以次微米的分辨率測(cè)量旋轉(zhuǎn)筒dr(及基板p)的y方向的位移變化?？刂撇?6還能夠從旋轉(zhuǎn)筒dr的兩端部的一方的變化檢測(cè)旋轉(zhuǎn)筒dr的偏移旋轉(zhuǎn)。

變位計(jì)yn1、yn2、yn3、yn4，雖然只要有4個(gè)中的1個(gè)即可，但是為了測(cè)量旋轉(zhuǎn)筒dr的偏移旋轉(zhuǎn)等，若為4個(gè)中的3個(gè)以上，就能夠掌握旋轉(zhuǎn)筒dr的兩端部的一方的面的動(dòng)向(動(dòng)態(tài)的斜度變化等)。此外，在控制部16能夠通過對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2穩(wěn)定地測(cè)量基板p上的標(biāo)記和/或圖案(或旋轉(zhuǎn)筒dr上的標(biāo)記等)的情況下，也可以省略變位計(jì)yn1、yn2、yn3、yn4。

在此，控制部16通過編碼器讀頭en1、en2檢測(cè)標(biāo)尺部(旋轉(zhuǎn)筒dr)gpa、gpb的旋轉(zhuǎn)角度位置，并基于檢測(cè)到的旋轉(zhuǎn)角度位置來進(jìn)行基于第奇數(shù)個(gè)及第偶數(shù)個(gè)描繪單元uw1～uw5的描繪。也就是說，控制部16在向基板p投射的描繪光束lb向掃描方向掃描的期間中，基于應(yīng)在基板p描繪的圖案的cad信息對(duì)光偏轉(zhuǎn)器81進(jìn)行接通/斷開調(diào)制，但是基于檢測(cè)到的旋轉(zhuǎn)角度位置進(jìn)行光偏轉(zhuǎn)器81的接通/斷開調(diào)制的定時(shí)，能夠精度良好地在基板p的光感應(yīng)層上描繪出圖案。

另外，控制部16通過存儲(chǔ)在通過對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2檢測(cè)到基板p上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ks1～ks3時(shí)的、通過編碼器讀頭en3、en4檢測(cè)到的標(biāo)尺部gpa、gpb(旋轉(zhuǎn)筒dr)的旋轉(zhuǎn)角度位置，能夠求出基板p上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ks1～ks3的位置與旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)角度位置之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系。同樣地，控制部16通過存儲(chǔ)在通過對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2檢測(cè)到旋轉(zhuǎn)筒dr上的基準(zhǔn)圖案rmp時(shí)的、通過編碼器讀頭en3、en4檢測(cè)到的標(biāo)尺部gpa、gpb(旋轉(zhuǎn)筒dr)的旋轉(zhuǎn)角度位置，能夠求出旋轉(zhuǎn)筒dr上的基準(zhǔn)圖案rmp的位置與旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)角度位置之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系。像這樣，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2能夠精密地測(cè)量在觀察區(qū)域vw1～vw6內(nèi)采樣到標(biāo)記的瞬間的旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)角度位置(或周向位置)。而且，在曝光裝置ex中，基于該測(cè)量結(jié)果使基板p與在基板p上描繪的規(guī)定的圖案對(duì)位(對(duì)準(zhǔn))、或者對(duì)旋轉(zhuǎn)筒dr和描繪裝置11進(jìn)行校準(zhǔn)。

此外，實(shí)際的采樣通過如下進(jìn)行，即，在通過編碼器讀頭en3、en4測(cè)量到的旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)角度位置成為與事先大致判明的基板p上的標(biāo)記和/或旋轉(zhuǎn)筒dr上的基準(zhǔn)圖案的位置對(duì)應(yīng)的角度位置時(shí)，將從對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2的各拍攝系統(tǒng)gd輸出的畫像信息高速地寫入到圖像存儲(chǔ)器等中，由此來進(jìn)行實(shí)際的采樣。即，以由編碼器讀頭en3、en4測(cè)量到的旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)角度位置為觸發(fā)，對(duì)從各拍攝系統(tǒng)gd輸出的畫像信息進(jìn)行采樣。另外，除該方法之外，還具有響應(yīng)于一定頻率的時(shí)鐘信號(hào)的各脈沖而同時(shí)采樣由編碼器讀頭en3、en4測(cè)量的旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)角度位置(計(jì)數(shù)器測(cè)量值)和從各拍攝系統(tǒng)gd輸出的畫像信息的方法。

另外，由于基板p上的標(biāo)記和旋轉(zhuǎn)筒dr上的基準(zhǔn)圖案rmp相對(duì)于觀察區(qū)域vw1～vw6向一方向移動(dòng)，所以在從各拍攝系統(tǒng)gd輸出的畫像信息的采樣時(shí)，作為ccd和/或cmos的撮像元件而期望使用快門速度快的元件。伴隨于此，還需要提高對(duì)觀察區(qū)域vw1～vw6進(jìn)行照明的照明光的亮度，作為對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2的照明光源，可以考慮使用閃光燈和高亮度led等。

圖11是表示基板上的描繪線與描繪圖案之間的位置關(guān)系的說明圖。描繪單元uw1～uw5沿著描繪線ll1～ll5以描繪光束lb的點(diǎn)光掃描，由此描繪出圖案pt1～pt5。描繪線ll1～ll5的描繪開始位置oc1～oc5成為圖案pt1～pt5的描繪起始端pta。描繪線ll1～ll5的描繪結(jié)束位置ec1～ec5成為圖案pt1～pt5的描繪終端ptb。

圖案pt1的描繪起始端pta、描繪終端ptb中的描繪終端ptb與圖案pt2的描繪終端ptb接合。同樣地，圖案pt2的描繪起始端pta與圖案pt3的描繪起始端pta接合，圖案pt3的描繪終端ptb與圖案pt4的描繪終端ptb接合，圖案pt4的描繪起始端pta與圖案pt5的描繪起始端pta接合。像這樣，描繪在基板p上的圖案pt1～pt5彼此伴隨著基板p向長(zhǎng)度方向的移動(dòng)而在基板p的寬度方向接合，從而在整個(gè)大曝光區(qū)域a7描繪出器件圖案。

圖12是示出描繪光束的點(diǎn)光與描繪線之間的關(guān)系的說明圖。描繪單元uw1～uw5中，代表性地說明描繪單元uw1及uw2的描繪線ll1及l(fā)l2。由于描繪單元uw3～uw5的描繪線ll3～ll5也是同樣的，故而省略說明。通過旋轉(zhuǎn)多面鏡97的等速旋轉(zhuǎn)，描繪光束lb的光束點(diǎn)光sp沿著基板p上的描繪線ll1及l(fā)l2描繪出從描繪開始位置oc1、oc2到描繪結(jié)束位置ec1、ec2為止的描繪線的長(zhǎng)度lbl。

通常，在直接描繪曝光方式中，即使在作為裝置描繪出可曝光的最小尺寸的圖案的情況下，也通過基于多個(gè)點(diǎn)光sp的多重曝光(多重寫入)而高精度地實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的圖案描繪。如圖12所示，在描繪線ll1及l(fā)l2上，若使點(diǎn)光sp的實(shí)效直徑為xs，則由于描繪光束lb為脈沖光，所以通過1個(gè)脈沖光(皮秒級(jí)別的發(fā)光時(shí)間)而生成的點(diǎn)光sp和通過下一脈沖光而生成的點(diǎn)光sp以約1/2直徑xs的距離cxs在y方向(主掃描方向)上重疊的方式進(jìn)行掃描。

另外，由于與沿著各描繪線ll1、ll2的點(diǎn)光sp的主掃描同時(shí)地，基板p以一定速度沿+x方向搬送，所以各描繪線ll1、ll2在基板p上沿x方向以一定間距移動(dòng)(副掃描)。該間距在此處也被設(shè)定為點(diǎn)光sp的直徑xs的大約1/2的距離cxs，但不限于此。因此，關(guān)于副掃描的方向(x方向)也是，相鄰的點(diǎn)光sp彼此以直徑xs的1/2(或其以外的重疊距離也可以)的距離cxs沿x方向重疊地被曝光。而且，以使得在描繪線ll1的描繪結(jié)束位置ec1處擊發(fā)的光束點(diǎn)光sp與在描繪線ll2的描繪結(jié)束位置ec2處擊發(fā)的光束點(diǎn)光sp伴隨著基板p向長(zhǎng)度方向的移動(dòng)(即副掃描)而在基板p的寬度方向(y方向)上以重疊距離cxs接合的方式，設(shè)定描繪線ll1的描繪開始位置oc1和描繪結(jié)束位置ec1、以及描繪線ll2的描繪開始位置oc2和描繪結(jié)束位置ec2。

作為一例，在使光束點(diǎn)光sp的實(shí)效直徑xs為4μm時(shí)，能夠良好地曝光出使點(diǎn)光sp的2行×2列(在主掃描和副掃描的兩方向上重疊地排列的合計(jì)4個(gè)點(diǎn)光)所占有的面積、或者3行×3列(在主掃描和副掃描的兩方向上重疊地排列的合計(jì)9個(gè)點(diǎn)光)所占有的面積為最小尺寸那樣的圖案、即最小尺寸為6μm～8μm左右的線寬度的圖案。另外，在使旋轉(zhuǎn)多面鏡97的反射面97b為10面、使繞旋轉(zhuǎn)軸97a的旋轉(zhuǎn)多面鏡97的旋轉(zhuǎn)速度為1萬rpm以上時(shí)，基于旋轉(zhuǎn)多面鏡97形成的描繪線(ll1～ll5)上的點(diǎn)光sp(描繪光束lb)的掃描次數(shù)(設(shè)為掃描頻率fms)能夠?yàn)?666.66···hz以上。這意味著能夠在基板p上以每秒沿搬送方向(x方向)描繪出1666條以上的描繪線量的圖案。據(jù)此，若使基板p的每秒的搬送距離(搬送速度)放慢，則能夠?qū)⑴c副掃描的方向(x方向)有關(guān)的點(diǎn)光彼此的重疊距離cxs設(shè)定為點(diǎn)光的直徑xs的1/2以下的值、例如1/3、1/4、1/5、···，在該情況下，通過沿著點(diǎn)光的描繪線的多次掃描來曝光相同的描繪圖案，由此能夠增大對(duì)基板p的感光層賦予的曝光量。

另外，在由旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)所形成的基板p的搬送速度為5mm/s左右的情況下，能夠使圖12所示的描繪線ll1(ll2～ll5也一樣)的x方向(基板p的搬送方向)上的間距(距離cxs)為約3μm左右。

在本實(shí)施方式的情況下，與主掃描方向(y方向)有關(guān)的圖案描繪的分辨率r與點(diǎn)光sp的實(shí)效直徑xs和掃描頻率fms同樣，根據(jù)構(gòu)成光偏轉(zhuǎn)器81的聲光元件(aom)的接通/斷開的最小切換時(shí)間來決定。作為聲光元件(aom)，若使用最高響應(yīng)頻率fss＝50mhz的調(diào)制器，則能夠使接通狀態(tài)和斷開狀態(tài)各自的時(shí)間為20ns左右。而且，由于基于旋轉(zhuǎn)多面鏡97的1個(gè)反射面97b所進(jìn)行的描繪光束lb的實(shí)效掃描期間(描繪線的長(zhǎng)度lbl量的點(diǎn)光的掃描)為1個(gè)反射面97b的旋轉(zhuǎn)角度量的1/3左右，所以在使描繪線的長(zhǎng)度lbl為30mm的情況下，依賴于光偏轉(zhuǎn)器81的切換時(shí)間所確定的分辨率r為r＝lbl/(1/3)/(1/fms)×(1/fss)≈3μm。

根據(jù)該關(guān)系式，為了提高圖案描繪的分辨率r，作為例如光偏轉(zhuǎn)器81的聲光元件(aom)，使用最高響應(yīng)頻率fss為100mhz的調(diào)制器，使接通/斷開的切換時(shí)間為10nsec。由此，分辨率r成為一半即1.5μm。在該情況下，使基于旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)形成的基板p的搬送速度為一半。作為提高分辨率r的其他方法，也可以例如提高旋轉(zhuǎn)多面鏡97的旋轉(zhuǎn)速度。

通常光刻中使用的抗蝕劑使用抗蝕劑靈敏度sr為大概30mj/cm²左右的抗蝕劑。若設(shè)光學(xué)系統(tǒng)的透射率δts為0.5(50％)、設(shè)旋轉(zhuǎn)多面鏡97的1個(gè)反射面97b中的實(shí)效掃描期間為1/3左右、設(shè)描繪線的長(zhǎng)度lbl為30mm、設(shè)描繪單元uw1～uw5的數(shù)量nuw為5、設(shè)基于旋轉(zhuǎn)筒dr的基板p的搬送速度vp為5mm/s(300mm/min)，則光源裝置cnt的必要激光功率pw能夠如下式那樣估算。

pw＝30/60×3×30×5/0.5/(1/3)＝1350mw

假設(shè)描繪單元為7個(gè)的情況，光源裝置cnt的必要激光功率pw能夠以下式來估算。

pw＝30/60×3×30×7/0.5/(1/3)＝1890mw

例如，如果抗蝕劑靈敏度為80mj/cm²左右，則為了以相同速度曝光，需要光束輸出為3～5w左右的光源裝置cnt。代替準(zhǔn)備這樣的高功率的光源，只要使基于旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)所形成的基板p的搬送速度vp相對(duì)于初始值的5mm/s降低為30/80，則作為光束輸出也能夠使用1.4～1.9w左右的光源裝置來曝光。

另外，在設(shè)描繪線的長(zhǎng)度lbl為30mm、假設(shè)光束點(diǎn)光sp的點(diǎn)直徑xs和基于光偏轉(zhuǎn)器81的聲光元件(aom)的光切換所確定的分辨率(為指定光束位置的最小格，相當(dāng)于1像素)xg相等而為3μm的情況下，使10面的旋轉(zhuǎn)多面鏡97的旋轉(zhuǎn)速度為1萬rpm時(shí)的旋轉(zhuǎn)多面鏡97的1個(gè)旋轉(zhuǎn)的時(shí)間為3/500秒、使基于旋轉(zhuǎn)多面鏡97的1個(gè)反射面97b所進(jìn)行的實(shí)效掃描期間為1個(gè)反射面97b的旋轉(zhuǎn)角度量的1/3，則基于1個(gè)反射面97b所進(jìn)行的實(shí)效掃描時(shí)間ts(秒)通過(3/500)×(1/10)×(1/3)而求出，為ts＝1/5000(秒)。由此，光源裝置cnt為脈沖激光的情況下的脈沖發(fā)光頻率fz通過fz＝lbl/(ts·xs)求出，fz＝50mhz成為最低頻率。因此，在實(shí)施方式中，需要輸出頻率50mhz以上的脈沖激光的光源裝置cnt。據(jù)此，光源裝置cnt的脈沖發(fā)光頻率fz優(yōu)選為光偏轉(zhuǎn)器81的聲光元件(aom)的最高響應(yīng)頻率fss(例如50mhz)的2倍以上(例如100mhz)。

而且，可以進(jìn)行如下那樣的控制：將光偏轉(zhuǎn)器81的聲光元件(aom)切換為接通狀態(tài)/斷開狀態(tài)的驅(qū)動(dòng)信號(hào)在聲光元件(aom)從接通狀態(tài)向斷開狀態(tài)遷移的期間、或者從斷開狀態(tài)向接通狀態(tài)遷移的期間不發(fā)生脈沖發(fā)光的方式，使光源裝置cnt以與脈沖發(fā)光頻率fz振蕩的時(shí)鐘信號(hào)同步。

接下來，從光束形狀(重疊的2個(gè)點(diǎn)光sp的強(qiáng)度分布)的觀點(diǎn)出發(fā)，使用圖13的圖表來說明光束點(diǎn)光sp的點(diǎn)直徑xs與光源裝置cnt的脈沖發(fā)光頻率fz之間的關(guān)系。圖13的橫軸表示沿著描繪線的y方向、或沿著基板p的搬送方向的x方向上的點(diǎn)光sp的描繪位置、或者點(diǎn)光sp的尺寸，縱軸表示將單個(gè)點(diǎn)光sp的峰值強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)化為1.0的相對(duì)強(qiáng)度值。此外，在此，設(shè)單個(gè)點(diǎn)光sp的強(qiáng)度分布為j1，假定為高斯分布來進(jìn)行說明。

圖13中，單個(gè)點(diǎn)光sp的強(qiáng)度分布j1相對(duì)于峰值強(qiáng)度以1/e²的強(qiáng)度具有3μm的直徑。強(qiáng)度分布j2～j6表示將這樣的點(diǎn)光sp的2脈沖量沿主掃描方向或副掃描方向錯(cuò)開位置地照射時(shí)在基板p上得到的積分運(yùn)算的強(qiáng)度分布(輪廓)的模擬結(jié)果，分別使位置的錯(cuò)開量(間隔距離)不同。

在圖13的圖表中，強(qiáng)度分布j5表示2脈沖量的點(diǎn)光sp以與直徑3μm相同的間隔距離錯(cuò)開的情況，強(qiáng)度分布j4表示2脈沖量的點(diǎn)光sp的間隔距離為2.25μm的情況，強(qiáng)度分布j3表示2脈沖量的點(diǎn)光sp的間隔距離為1.5μm的情況。從該強(qiáng)度分布j3～j5的變化可以明確，在強(qiáng)度分布j5中，在為直徑3μm的點(diǎn)光sp以3μm間隔照射那樣的條件的情況下，積分運(yùn)算得到的輪廓為在2個(gè)點(diǎn)光各自的中心位置最高的瘤狀，在2個(gè)點(diǎn)光的中點(diǎn)的位置處，僅得到0.3左右的標(biāo)準(zhǔn)化強(qiáng)度。與之相對(duì)，在為直徑3μm的點(diǎn)光sp以1.5μm間隔照射那樣的條件的情況下，積分運(yùn)算得到的輪廓不是輪廓明顯的瘤狀分布，而是夾著2個(gè)點(diǎn)光的中點(diǎn)的位置而大致平坦那樣的分布。

另外，在圖13中，強(qiáng)度分布j2表示使2脈沖量的點(diǎn)光sp的間隔距離為0.75μm的情況下的積分運(yùn)算輪廓，強(qiáng)度分布j6表示使間隔距離設(shè)定為單個(gè)點(diǎn)光sp的強(qiáng)度分布j1的半值全寬度(fwhm)即1.78μm的情況下的積分運(yùn)算輪廓。

像這樣，在以比與點(diǎn)光sp的直徑xs相同的間隔短的間隔距離cxs照射2個(gè)點(diǎn)光那樣的脈沖振蕩條件的情況下，容易明顯地出現(xiàn)2個(gè)瘤狀的分布，因此期望設(shè)定為曝光時(shí)不會(huì)出現(xiàn)強(qiáng)度不均(描繪精度的劣化)那樣的最佳間隔距離。如圖13的強(qiáng)度分布j3或j6那樣，優(yōu)選以單一點(diǎn)光sp的直徑xs的一半左右(例如40～60％)的間隔距離cxs重疊。這樣的最佳的間隔距離cxs能夠通過在主掃描方向上調(diào)整光源裝置cnt的脈沖發(fā)光頻率fz和沿著描繪線的點(diǎn)光sp的掃描速度或掃描時(shí)間ts(旋轉(zhuǎn)多面鏡97的旋轉(zhuǎn)速度)的至少一方來設(shè)定，能夠通過在副掃描方向上調(diào)整描繪線的掃描頻率fms(旋轉(zhuǎn)多面鏡97的旋轉(zhuǎn)速度)和基板p的x方向的移動(dòng)速度中的至少一方來設(shè)定。

例如，在無法高精度地調(diào)整旋轉(zhuǎn)多面鏡97的旋轉(zhuǎn)速度的絕對(duì)值(點(diǎn)光的掃描時(shí)間ts)的情況下，通過調(diào)整光源裝置cnt的脈沖發(fā)光頻率fz，能夠?qū)⒅鲯呙璺较蛏系狞c(diǎn)光sp的間隔距離cxs與點(diǎn)光的直徑xs(尺寸)之間的比率調(diào)整為最佳范圍。

像這樣，在使2個(gè)點(diǎn)光sp沿掃描方向重疊的情況下，即使xs＞cxs的情況下，光源裝置cnt將脈沖發(fā)光頻率fz設(shè)定為滿足fz＞lbl/(ts·xs)的關(guān)系、即fz＝lbl/(ts·cxs)的關(guān)系。例如，在光源裝置cnt的脈沖發(fā)光頻率fz為100mhz的情況下，若旋轉(zhuǎn)多面鏡97為10面且以1萬rpm旋轉(zhuǎn)，則能夠使通過1/e²、或半值全寬度(fwhm)規(guī)定的點(diǎn)光的實(shí)效直徑xs為3μm，使來自各描繪單元uw1～uw5的脈沖激光束(點(diǎn)光)在各描繪線ll1～ll5上以直徑xs的約一半即1.5μm的間隔(cxs)照射。由此，能夠提高圖案描繪時(shí)的曝光量的均勻性，即使是精細(xì)的圖案也能夠得到遵照描繪數(shù)據(jù)的忠實(shí)的曝光像(抗蝕劑像)，能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的描繪。

而且，若h為任意的整數(shù)，則需要使通過聲光元件(aom)的光切換速度確定的分辨率(響應(yīng)頻率fss)和脈沖激光光源的光源裝置cnt的脈沖振蕩頻率fz換算成位置或者時(shí)間后為整數(shù)倍的關(guān)系、即fz＝h·fss的關(guān)系。這是因?yàn)?，通過聲光元件(aom)的光切換的定時(shí)在從脈沖光源裝置cnt發(fā)出脈沖光束的過程中不進(jìn)行接通/斷開。

在第1實(shí)施方式的曝光裝置ex中，由于使用了組合光纖放大器fb1、fb2和波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換部cu2的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換元件的脈沖光源裝置cnt，所以在紫外波段(400～300nm)容易地得到具有如此高的振蕩頻率的脈沖光。

此外，基于將應(yīng)描繪的圖案分割為例如3μm×3μm的像素單位、并以“0”、“1”表示是否按各像素單位照射脈沖光束的點(diǎn)光的位(bit)列(描繪數(shù)據(jù))來進(jìn)行基于聲光元件(aom)的光切換。在描繪線的長(zhǎng)度lbl為30mm的情況下，點(diǎn)光的1次掃描中的像素?cái)?shù)為1萬像素，聲光元件(aom)具有在掃描時(shí)間ts期間切換1萬像素量的位列的響應(yīng)性(響應(yīng)頻率fss)。另一方面，以使得主掃描方向上的相鄰點(diǎn)光彼此例如以直徑xs的1/2左右重疊的方式設(shè)定脈沖振蕩頻率fz。據(jù)此，以使先前的關(guān)系式fz＝h·fss中整數(shù)h為2以上、即成為fz＞fss的方式，設(shè)定脈沖振蕩頻率fz與聲光元件(aom)的光切換的響應(yīng)頻率fss之間的關(guān)系為好。

接下來，說明曝光裝置ex的描繪裝置11的調(diào)整方法。圖14是表示第1實(shí)施方式的曝光裝置的調(diào)整方法的流程圖。圖15是示意性地示出旋轉(zhuǎn)筒的基準(zhǔn)圖案與描繪線之間的關(guān)系的說明圖。圖16是示意性地示出從在亮視野接收來自旋轉(zhuǎn)筒的基準(zhǔn)圖案的反射光的光電傳感器輸出的信號(hào)的說明圖?？刂撇?6為了進(jìn)行用于掌握多個(gè)描繪單元uw1～uw5的位置關(guān)系的校準(zhǔn)，如圖15所示那樣，使旋轉(zhuǎn)筒dr。旋轉(zhuǎn)筒dr可以搬送具有描繪光束lb能夠透射程度的透光性的基板p。

如上述那樣，基準(zhǔn)圖案rmp與旋轉(zhuǎn)筒dr的外周面成為一體。如圖15所示，基準(zhǔn)圖案rmp中的任意的基準(zhǔn)圖案rmp1伴隨著旋轉(zhuǎn)筒dr的外周面的移動(dòng)而移動(dòng)。因此，基準(zhǔn)圖案rmp1在通過了描繪線ll1、ll3、ll5以后，通過描繪線ll2、ll4。例如，控制部16在相同的基準(zhǔn)圖案rmp1通過了描繪線ll1、ll3、ll5的情況下，使描繪單元uw1、uw3、uw5的描繪光束lb掃描。然后，控制部16在相同的基準(zhǔn)圖案rmp1通過了描繪線ll2、ll4的情況下使描繪單元uw2、uw4的描繪光束lb掃描(步驟s1)。因此，基準(zhǔn)圖案rmp1成為用于掌握描繪單元uw1～uw5的位置關(guān)系的基準(zhǔn)。

上述的校準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)31的光電傳感器31cs(圖4)經(jīng)由f－θ透鏡系統(tǒng)85和包含掃描器83的掃描光學(xué)系統(tǒng)檢測(cè)來自基準(zhǔn)圖案rmp1的反射光。光電傳感器31cs與控制部16連接，控制部16檢測(cè)光電傳感器31cs的檢測(cè)信號(hào)(步驟s2)。例如，描繪單元uw1～uw5按每條描繪線ll1～ll5沿規(guī)定的掃描方向?qū)⒍鄠€(gè)描繪光束lb的每一個(gè)掃描多列。

例如，如圖16所示，描繪單元uw1～uw5利用描繪光束lb從描繪開始位置oc1在沿著上述旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)中心線ax2的方向(y方向)上以描繪線的長(zhǎng)度lbl(參照?qǐng)D12)進(jìn)行第1列掃描sc1。接著，描繪單元uw1～uw5利用描繪光束lb從描繪開始位置oc1在沿著上述旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)中心線ax2的方向(y方向)上以描繪線的長(zhǎng)度lbl(參照?qǐng)D12)進(jìn)行第2列掃描sc2。然后，描繪單元uw1～uw5利用描繪光束lb從描繪開始位置oc1在沿著上述旋轉(zhuǎn)筒dr的旋轉(zhuǎn)中心線ax2的方向(y方向)上以描繪線的長(zhǎng)度lbl(參照?qǐng)D12)進(jìn)行第3列掃描sc3。

由于旋轉(zhuǎn)筒dr繞旋轉(zhuǎn)中心線ax2旋轉(zhuǎn)，所以第1列掃描sc1、第2列掃描sc2及第3列掃描sc3在基準(zhǔn)圖案rmp1上的x方向的位置具有δp1、δp2的不同。此外，也可以是控制部16按以下順序使各部分動(dòng)作的工序：在使旋轉(zhuǎn)筒dr靜止的狀態(tài)下進(jìn)行沿著第1列掃描sc1的描繪光束lb的掃描，然后，使旋轉(zhuǎn)筒dr旋轉(zhuǎn)δp1量后靜止，進(jìn)行沿著第2列掃描sc2的描繪光束lb的掃描，再次使旋轉(zhuǎn)筒dr旋轉(zhuǎn)δp2后靜止，進(jìn)行沿著第3列掃描sc3的描繪光束lb的掃描。

如上述那樣，基準(zhǔn)圖案rmp中，形成于旋轉(zhuǎn)筒dr的外周面的彼此交叉的2條線圖案rl1、rl2的交點(diǎn)部cr1、cr2被設(shè)定得比上述描繪線的長(zhǎng)度lbl小。因此，在投射第1列掃描sc1、第2列掃描sc2及第3列掃描sc3的描繪光束lb時(shí)，描繪光束lb至少照射在交點(diǎn)部cr1、cr2上。線圖案rl1、rl2在旋轉(zhuǎn)筒dr的表面形成為凹凸。若預(yù)先使旋轉(zhuǎn)筒dr的表面的凹凸的層差量設(shè)定為特定的條件，則描繪光束lb投射在線圖案rl1、rl2上產(chǎn)生的反射光的反射強(qiáng)度局部地產(chǎn)生差異。例如，如圖16所示，在線圖案rl1、rl2為旋轉(zhuǎn)筒dr的表面的凹部的情況下，若描繪光束lb投射到線圖案rl1、rl2上，則由線圖案rl1、rl2反射的反射光由光電傳感器31cs在亮視野接收。

控制部16基于來自光電傳感器31cs的輸出信號(hào)檢測(cè)基準(zhǔn)圖案rmp的邊緣位置pscl。例如，控制部16基于在第1列掃描sc1時(shí)從光電傳感器31cs得到的輸出信號(hào)存儲(chǔ)第1列掃描位置數(shù)據(jù)dsc1和基準(zhǔn)圖案rmp的邊緣位置pscl的中心值mpscl。

接著，控制部16基于在第2列掃描sc2時(shí)從光電傳感器31cs得到的輸出信號(hào)存儲(chǔ)第2列掃描位置數(shù)據(jù)dsc2和基準(zhǔn)圖案rmp的邊緣位置pscl的中心值mpscl。然后，控制部16基于第3列掃描sc3時(shí)從光電傳感器31cs得到的輸出信號(hào)存儲(chǔ)第3列掃描位置數(shù)據(jù)dsc3和基準(zhǔn)圖案rmp的邊緣位置pscl的中心值mpscl。

控制部16根據(jù)第1列掃描位置數(shù)據(jù)dsc1、第2列掃描位置數(shù)據(jù)dsc2及第3列掃描位置數(shù)據(jù)dsc3和多個(gè)基準(zhǔn)圖案rmp的邊緣位置pscl的中心值mpscl通過運(yùn)算而求出彼此交叉的2條線圖案rl1、rl2的交點(diǎn)部cr1、cr2的坐標(biāo)位置。其結(jié)果為，控制部16還能夠運(yùn)算出彼此交叉的2條線圖案rl1、rl2的交點(diǎn)部cr1、cr2與描繪開始位置oc1之間的關(guān)系。關(guān)于其他描繪單元uw2～5也同樣地，控制部16也能夠運(yùn)算出彼此交叉的2條線圖案rl1、rl2的交點(diǎn)部cr1、cr2與描繪開始位置oc2～oc5(參照?qǐng)D11)之間的關(guān)系。此外，上述中心值mpscl也可以根據(jù)從光電傳感器31cs輸出的信號(hào)的峰值求出。

以上說明了光電傳感器31cs在亮視野接收在線圖案rl1、rl2反射的反射光的情況，但是光電傳感器31cs也可以在暗視野接收在線圖案rl1、rl2反射的反射光。圖17是示意性地表示在暗視野接收來自旋轉(zhuǎn)筒的基準(zhǔn)圖案的反射光的光電傳感器的說明圖。圖18是示意性地示出在暗視野接收來自旋轉(zhuǎn)筒的基準(zhǔn)圖案的反射光的光電傳感器輸出的信號(hào)。如圖17所示那樣，校準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)31在中繼透鏡94與光電傳感器31cs之間配置有具有環(huán)狀的光透射部的遮光部件31f。因此，光電傳感器31cs接收在線圖案rl1、rl2反射的反射光中的邊緣散亂光或衍射光。例如，在如圖18所示那樣線圖案rl1、rl2為旋轉(zhuǎn)筒dr的表面的凹部的情況下，描繪光束lb被投射到線圖案rl1、rl2上后，則光電傳感器31cs在暗視野接收由線圖案rl1、rl2反射的反射光。

控制部16基于從光電傳感器31cs輸出的信號(hào)檢測(cè)基準(zhǔn)圖案rmp的邊緣位置pscdl。例如，控制部16基于在第1列掃描sc1時(shí)從光電傳感器31cs得到的輸出信號(hào)，存儲(chǔ)第1列掃描位置數(shù)據(jù)dsc1和基準(zhǔn)圖案rmp的邊緣位置pscdl的中心值mpscdl。接著，控制部16基于在第2列掃描sc2時(shí)從光電傳感器31cs得到的輸出信號(hào)存儲(chǔ)第2列掃描位置數(shù)據(jù)dsc2和基準(zhǔn)圖案rmp的邊緣位置pscdl的中心值mpscdl?？刂撇?6基于在第3列掃描sc3時(shí)從光電傳感器31cs得到的輸出信號(hào)存儲(chǔ)第3列掃描位置數(shù)據(jù)dsc3和基準(zhǔn)圖案rmp的邊緣位置pscdl的中心值mpscdl。

控制部16根據(jù)第1列掃描位置數(shù)據(jù)dsc1、第2列掃描位置數(shù)據(jù)dsc2及第3列掃描位置數(shù)據(jù)dsc3和多個(gè)基準(zhǔn)圖案rmp的邊緣位置pscdl的中心值mpscdl通過運(yùn)算而求出彼此交叉的2條線圖案rl1、rl2的交點(diǎn)部cr1、cr2。其結(jié)果為，控制部16通過運(yùn)算而求出彼此交叉的2條線圖案rl1、rl2的交點(diǎn)部cr1、cr2的坐標(biāo)位置與描繪開始位置oc1之間的關(guān)系。

關(guān)于其他描繪單元uw2～5也同樣，控制部16也能夠運(yùn)算出彼此交叉的2條線圖案rl1、rl2的交點(diǎn)部cr1、cr2與描繪開始位置oc2～oc5之間的關(guān)系。像這樣，在光電傳感器31cs在暗視野接收由線圖案rl1、rl2反射的反射光的情況下，能夠提高多個(gè)基準(zhǔn)圖案rmp的邊緣位置pscdl的精度。

如圖14所示，控制部16根據(jù)在步驟s2檢測(cè)到的檢測(cè)信號(hào)求出與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或彼此的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)(步驟s3)。圖19是示意性地示出旋轉(zhuǎn)筒的基準(zhǔn)圖案彼此的位置關(guān)系的說明圖。圖20是示意性地示出多條描繪線的相對(duì)位置關(guān)系的說明圖。如上述那樣，配置有第奇數(shù)條的第1描繪線ll1、第3描繪線ll3及第5描繪線ll5，如圖19所示那樣，控制部16針對(duì)第1描繪線ll1、第3描繪線ll3及第5描繪線ll5的每一條而預(yù)先存儲(chǔ)有所檢測(cè)的交點(diǎn)部cr1間的基準(zhǔn)距離pl。同樣地，控制部16還針對(duì)第2描繪線ll2及第4描繪線ll4的每一條而預(yù)先存儲(chǔ)有所檢測(cè)的交點(diǎn)部cr1間的基準(zhǔn)距離pl。此外，控制部16還針對(duì)第2描繪線ll2及第3描繪線ll3的每一條而預(yù)先存儲(chǔ)有所檢測(cè)的交點(diǎn)部cr1間的基準(zhǔn)距離δpl。而且，另外，控制部16還針對(duì)第4描繪線ll4及第5描繪線ll5的每一條而預(yù)先存儲(chǔ)有所檢測(cè)的交點(diǎn)部cr1間的基準(zhǔn)距離δpl。

例如，如圖20所示，關(guān)于第1描繪線ll1的描繪開始位置oc1，控制部16基于來自原點(diǎn)檢測(cè)器98(參照?qǐng)D7)的信號(hào)已掌握了位置關(guān)系，所以能夠求出交點(diǎn)部cr1與描繪開始位置oc1之間的距離bl1。另外，控制部16還能夠通過原點(diǎn)檢測(cè)器98檢測(cè)第3描繪線ll3的描繪開始位置oc3的位置，所以能夠求出交點(diǎn)部cr1與描繪開始位置oc3之間的距離bl3。因此，控制部16能夠基于距離bl1、距離bl3及基準(zhǔn)距離pl求出描繪開始位置oc1與描繪開始位置oc3之間的位置關(guān)系，并存儲(chǔ)沿著描繪線ll1、ll3掃描的描繪光束lb的原點(diǎn)間的原點(diǎn)間距離δoc13。同樣地，控制部16能夠通過原點(diǎn)檢測(cè)器98檢測(cè)第5描繪線ll5的描繪開始位置oc5的位置，所以能夠求出交點(diǎn)部cr1與描繪開始位置oc5之間的距離bl5。因此，控制部16能夠基于距離bl3、距離bl5及基準(zhǔn)距離pl求出描繪開始位置oc3與描繪開始位置oc5之間的位置關(guān)系，并存儲(chǔ)沿著描繪線ll3、ll5掃描的描繪光束lb的原點(diǎn)間的原點(diǎn)間距離δoc35。

控制部16能夠通過原點(diǎn)檢測(cè)器98檢測(cè)第2描繪線ll2的描繪開始位置oc2的位置，因此能夠求出交點(diǎn)部cr1與描繪開始位置oc2之間的距離bl2。另外，控制部16能夠通過原點(diǎn)檢測(cè)器98檢測(cè)第4描繪線ll4的描繪開始位置oc4的位置，所以能夠求出交點(diǎn)部cr1與描繪開始位置oc4之間的距離bl4。因此，控制部16能夠基于距離bl2、距離bl4及基準(zhǔn)距離pl求出描繪開始位置oc2與描繪開始位置oc4之間的位置關(guān)系，能夠存儲(chǔ)沿著描繪線ll2、ll4掃描的描繪光束lb的原點(diǎn)間的原點(diǎn)間距離δoc24。

另外，描繪開始位置oc1和描繪開始位置oc2位于經(jīng)由上述相同的基準(zhǔn)圖案rmp1而求出的位置，所以控制部16能夠容易地存儲(chǔ)沿著描繪線ll1、ll2掃描的描繪光束lb的原點(diǎn)間的原點(diǎn)間距離δoc12。如以上說明那樣，曝光裝置ex能夠求出多個(gè)描繪單元uw1～uw5各自的原點(diǎn)(描繪開始點(diǎn))彼此的位置關(guān)系。

另外，控制部16能夠根據(jù)在第2描繪線ll2及第3描繪線ll3檢測(cè)到的交點(diǎn)部cr1間的基準(zhǔn)距離δpl檢測(cè)描繪開始位置oc2與描繪開始位置oc3接合的接合誤差。而且，另外，能夠在第4描繪線ll4及第5描繪線ll5檢測(cè)到的交點(diǎn)部cr1間的基準(zhǔn)距離δpl檢測(cè)描繪開始位置oc4與描繪開始位置oc5接合的接合誤差。

在各描繪線ll1～ll5的從描繪開始位置oc1～oc5到描繪結(jié)束位置ec1～ec5的期間檢測(cè)2個(gè)交點(diǎn)部cr1、cr2。由此，能夠檢測(cè)從描繪開始位置oc1～oc5到描繪結(jié)束位置ec1～ec5的掃描方向。其結(jié)果為，控制部16能夠檢測(cè)各描繪線ll1～ll5相對(duì)于沿中心線ax2的方向(y方向)的角度誤差。

控制部16對(duì)于上述基準(zhǔn)圖案rmp1求出與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)。包含基準(zhǔn)圖案rmp1的基準(zhǔn)圖案rmp是以一定的間距(周期)pf1、pf2反復(fù)刻設(shè)的網(wǎng)格狀的基準(zhǔn)圖案。因此，控制部16對(duì)以各間距pf1、pf2反復(fù)的基準(zhǔn)圖案rmp求出與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)，運(yùn)算與多條描繪線ll1～ll5的相對(duì)位置關(guān)系的偏差有關(guān)的信息。其結(jié)果為，控制部16能夠進(jìn)一步提高與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)的精度。

接下來，如圖14所示，控制部16進(jìn)行調(diào)整描繪狀態(tài)的處理(步驟s4)。控制部16基于與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)及由編碼器讀頭en1、en2檢測(cè)到的標(biāo)尺部(旋轉(zhuǎn)筒dr)gpa、gpb的旋轉(zhuǎn)角度位置，調(diào)整由第奇數(shù)個(gè)及第偶數(shù)個(gè)描繪單元uw1～uw5形成的描繪位置。編碼器讀頭en1、en2能夠基于上述標(biāo)尺部(旋轉(zhuǎn)筒dr)gpa、gpb檢測(cè)基板p的輸送量。

圖21與之前的圖12同樣地，是示意性地示出基板的每單位時(shí)間的移動(dòng)距離與移動(dòng)距離內(nèi)包含的描繪線的條數(shù)之間的關(guān)系的說明圖。如圖21所示，編碼器讀頭en1、en2能夠檢測(cè)并存儲(chǔ)基板p的每單位時(shí)間的移動(dòng)距離δx。此外，也可以通過上述對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2逐步地檢測(cè)多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ks1～ks3，求出移動(dòng)距離δx并存儲(chǔ)。

在基板p的每單位時(shí)間的移動(dòng)距離δx內(nèi)，由描繪單元uw1形成的多條描繪線ll1被光束點(diǎn)光sp的光束線spl1、spl2及spl3描繪，并且被掃描成以各自的光束點(diǎn)光sp的點(diǎn)直徑xs的約1/2在x方向(及y方向)重疊。同樣地，描繪線ll1的描繪終端ptb側(cè)的光束點(diǎn)光sp和描繪線ll2的描繪終端ptb側(cè)的光束點(diǎn)光sp伴隨著基板p向長(zhǎng)度方向的移動(dòng)而在基板p的寬度方向以重疊距離cxs接合。

例如，在旋轉(zhuǎn)筒dr上下動(dòng)時(shí)，在基于第奇數(shù)個(gè)及第偶數(shù)個(gè)描繪單元uw1～uw5形成的x方向的描繪位置產(chǎn)生錯(cuò)位，有可能導(dǎo)致例如x方向的倍率的偏差。若旋轉(zhuǎn)筒dr所搬送的基板p的搬送速度(移動(dòng)速度)變慢，則光束線spl1、spl2及spl3的x方向的間隔距離cxs變小，能夠調(diào)整為x方向的描繪倍率減小。相反，若旋轉(zhuǎn)筒dr所搬送的基板p的搬送速度(移動(dòng)速度)加快，則光束線spl1、spl2及spl3的x方向的間隔距離cxs變大，能夠調(diào)整成x方向的描繪倍率增大。以上參照?qǐng)D21說明了描繪線ll1，關(guān)于其他描繪線ll2～ll5也是同樣的。控制部16能夠基于與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)及編碼器讀頭en1、en2檢測(cè)到的標(biāo)尺部(旋轉(zhuǎn)筒dr)gpa、gpb的旋轉(zhuǎn)角度位置，改變基板p的長(zhǎng)度方向上的、基板p的每單位時(shí)間的移動(dòng)距離δx與該移動(dòng)距離內(nèi)包含的光束線spl1、spl2及spl3的條數(shù)之間的關(guān)系。因此，控制部16能夠調(diào)整第奇數(shù)個(gè)及第偶數(shù)個(gè)描繪單元uw1～uw5所形成的x方向的描繪位置。

圖22是示意性地說明與脈沖光源的系統(tǒng)時(shí)鐘同步地發(fā)光的脈沖光的說明圖。以下，關(guān)于描繪線ll2還參照?qǐng)D21進(jìn)行說明，對(duì)于其他描繪線ll1、ll3～ll5也是同樣的。光源裝置cnt能夠與作為系統(tǒng)時(shí)鐘sq的脈沖信號(hào)wp同步地?fù)舭l(fā)光束點(diǎn)光sp。通過改變系統(tǒng)時(shí)鐘sq的頻率fz來改變脈沖信號(hào)wp的脈沖間隔δwp(＝1/fz)。該時(shí)間上的脈沖間隔δwp在描繪線ll2上與每個(gè)脈沖的點(diǎn)光sp的主掃描方向的間隔距離cxs對(duì)應(yīng)?？刂撇?6使描繪光束lb的光束點(diǎn)光sp沿著基板p上的描繪線ll2掃描描繪線的長(zhǎng)度lbl。

控制部16具有在描繪光束lb沿著描繪線ll2進(jìn)行掃描的期間，部分地改變系統(tǒng)時(shí)鐘sq的周期，在描繪線ll2中的任意的位置增減脈沖間隔δwp的功能。例如，在本來的系統(tǒng)時(shí)鐘sq為100mhz的情況下，控制部16在以描繪線的長(zhǎng)度lbl掃描的期間以一定的時(shí)間間隔(周期)使系統(tǒng)時(shí)鐘sq部分地成為例如101mhz(或99mhz)。其結(jié)果為，描繪線的長(zhǎng)度lbl上的光束點(diǎn)光sp的數(shù)量增減。換言之，控制部16在以描繪線的長(zhǎng)度lbl掃描的期間，以規(guī)定次(1次以上)的周期間隔使系統(tǒng)時(shí)鐘sq的占空比部分地增減。由此，光源cnt產(chǎn)生的光束點(diǎn)光sp的間隔按脈沖間隔δwp的變化量變化，并且光束點(diǎn)光sp彼此的重疊距離cxs發(fā)生變化。而且，y方向的描繪起始端pta與描繪終端ptb之間的距離看起來伸縮。

說明一個(gè)例子，在描繪線的長(zhǎng)度lbl為30mm的情況下，將其11等分，按每約3mm的描繪長(zhǎng)(周期間隔)僅1處的方式使系統(tǒng)時(shí)鐘sq的脈沖間隔δwp增減。脈沖間隔δwp的增減量如圖13中說明那樣被設(shè)定為：不會(huì)伴隨著相鄰的2個(gè)點(diǎn)光sp的間隔距離cxs的變化而導(dǎo)致積分運(yùn)算輪廓(強(qiáng)度分布)大幅惡化的范圍、例如若使基準(zhǔn)的間隔距離csx為點(diǎn)光的直徑xs(3μm)的50％，則設(shè)定為其±15％左右。若脈沖間隔δwp的增減為+10％(間隔距離csx為點(diǎn)光直徑xs的60％)，則在長(zhǎng)度lbl的描繪線中的離散的10處，1脈沖量的點(diǎn)光分別以直徑xs的10％量沿主掃描方向延伸的方式位置偏移。其結(jié)果為，描繪后的描繪線的長(zhǎng)度lbl會(huì)相對(duì)于30mm延長(zhǎng)3μm。這意味著，描繪在基板p上的圖案在y方向上擴(kuò)大了0.01％(100ppm)。由此，即使基板p沿y方向伸縮的情況下，也能夠與其對(duì)應(yīng)地使描繪圖案沿y方向伸縮地曝光。

構(gòu)成為，對(duì)脈沖間隔δwp進(jìn)行增減的位置能夠按例如描繪線ll1～ll5的每1次掃描預(yù)設(shè)為例如按系統(tǒng)時(shí)鐘sq的每100脈沖、每200脈沖、···那樣任意的值。如此，能夠在較大的范圍內(nèi)改變描繪圖案的主掃描方向(y方向)的伸縮量，與基板p的伸縮和/或變形對(duì)應(yīng)地動(dòng)態(tài)地施加倍率修正。因此，在本實(shí)施方式的曝光裝置ex的控制部16中含有系統(tǒng)時(shí)鐘sq的發(fā)生電路，該發(fā)生電路具有：作為系統(tǒng)時(shí)鐘sq而產(chǎn)生脈沖間隔δwp固定的原時(shí)鐘信號(hào)的時(shí)鐘振蕩部、和在對(duì)系統(tǒng)時(shí)鐘sq的時(shí)鐘脈沖數(shù)計(jì)數(shù)了預(yù)設(shè)的值后，將產(chǎn)生系統(tǒng)時(shí)鐘sq的下一時(shí)鐘脈沖以前的時(shí)間相對(duì)于緊前的脈沖間隔δwp增減的時(shí)間偏移部。此外，在描繪線(長(zhǎng)度lbl)中，使系統(tǒng)時(shí)鐘sq的脈沖間隔δwp增減的部分的個(gè)數(shù)根據(jù)應(yīng)描繪的圖案的y方向的倍率修正比(ppm)而大概地確定，但在最少的情況下，可以是與長(zhǎng)度lbl對(duì)應(yīng)的點(diǎn)光sp的掃描時(shí)間ts中的至少1處。

圖23是使系統(tǒng)時(shí)鐘sq的脈沖間隔δwp部分地可變的時(shí)鐘發(fā)生電路的一例。圖23中，從時(shí)鐘振蕩部200輸出與系統(tǒng)時(shí)鐘sq相同頻率的基本時(shí)鐘信號(hào)ckl?；緯r(shí)鐘信號(hào)ckl被施加于對(duì)基本時(shí)鐘信號(hào)ckl的每個(gè)脈沖施加規(guī)定的延遲時(shí)間td而生成系統(tǒng)時(shí)鐘sq的延遲電路202、和將基本時(shí)鐘信號(hào)ckl的頻率倍增例如20倍的倍增時(shí)鐘信號(hào)cks輸出的倍增電路204。

延遲電路202在內(nèi)部具有將倍增時(shí)鐘信號(hào)cks的脈沖數(shù)計(jì)數(shù)到規(guī)定值δns為止的計(jì)數(shù)器。該計(jì)數(shù)器對(duì)規(guī)定值δns進(jìn)行計(jì)數(shù)的時(shí)間相當(dāng)于延遲時(shí)間td。規(guī)定值δns由預(yù)設(shè)電路206設(shè)置。預(yù)設(shè)電路206在內(nèi)部具有成為規(guī)定值δns的初始值的標(biāo)準(zhǔn)值ns0，在從外部(主cpu等)送來預(yù)設(shè)值dsb(與延遲時(shí)間td的變化量δtd對(duì)應(yīng)的值)時(shí)，將新的規(guī)定值δns覆寫為前一個(gè)規(guī)定值δns+dsb。

該覆寫響應(yīng)于來自對(duì)從延遲電路202輸出的系統(tǒng)時(shí)鐘sq的脈沖進(jìn)行計(jì)數(shù)的計(jì)數(shù)器電路208輸出的完成脈沖信號(hào)b而進(jìn)行。計(jì)數(shù)器電路208具有反復(fù)進(jìn)行如下計(jì)數(shù)的結(jié)構(gòu)：在將系統(tǒng)時(shí)鐘sq的脈沖數(shù)計(jì)數(shù)到預(yù)設(shè)值dsa而輸出了完成脈沖信號(hào)b后，將計(jì)數(shù)值重置為零并再次對(duì)系統(tǒng)時(shí)鐘sq的脈沖數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù)。預(yù)設(shè)值dsa是與將描繪線的長(zhǎng)度lbl進(jìn)行n等分時(shí)的1個(gè)長(zhǎng)度lbl/n對(duì)應(yīng)的點(diǎn)光的脈沖數(shù)nck，但不必對(duì)應(yīng)于長(zhǎng)度lbl/n，可以是任意的值。此外，由以上的延遲電路202、預(yù)設(shè)電路206、計(jì)數(shù)器電路208構(gòu)成時(shí)間偏移部。

圖24是表示圖23的電路結(jié)構(gòu)中的各部分的信號(hào)的時(shí)間遷移的時(shí)序圖。在預(yù)設(shè)電路206中設(shè)置成為初始值的標(biāo)準(zhǔn)值ns0，被施加于延遲電路202的規(guī)定值δns成為標(biāo)準(zhǔn)值ns0。計(jì)數(shù)器電路208計(jì)數(shù)到所設(shè)定的脈沖數(shù)nck之前、即產(chǎn)生完成脈沖信號(hào)b之前的狀態(tài)下，來自預(yù)設(shè)電路206的規(guī)定值δns為ns0，延遲電路202如圖24那樣根據(jù)基本時(shí)鐘信號(hào)ckl的各脈沖的上升沿將倍增時(shí)鐘信號(hào)cks的脈沖數(shù)計(jì)數(shù)到規(guī)定值δns，與該計(jì)數(shù)完成同時(shí)作為系統(tǒng)時(shí)鐘sq而輸出1個(gè)脈沖wp。因此，從基本時(shí)鐘信號(hào)ckl的脈沖的上升沿到系統(tǒng)時(shí)鐘sq的對(duì)應(yīng)的脈沖wp的上升沿為止的延遲時(shí)間td1相當(dāng)于對(duì)倍增時(shí)鐘信號(hào)cks的脈沖計(jì)數(shù)到規(guī)定值δns的時(shí)間。

圖24中，若根據(jù)與基本時(shí)鐘信號(hào)ckl的脈沖ckn對(duì)應(yīng)地在延遲時(shí)間td1后產(chǎn)生的系統(tǒng)時(shí)鐘sq的脈沖wp，計(jì)數(shù)器電路208上計(jì)數(shù)預(yù)設(shè)值dsa(脈沖數(shù)nck)的量，則計(jì)數(shù)器電路208輸出完成脈沖信號(hào)b，響應(yīng)于此，預(yù)設(shè)電路206將新的規(guī)定值δns覆寫為“緊前的規(guī)定值δns+dsb”。預(yù)設(shè)值dsb是與22所示的脈沖間隔δwp的變化量(δtd)對(duì)應(yīng)的數(shù)值，圖24中設(shè)置為負(fù)的值，但是正的值也是同樣的。因此，在基本時(shí)鐘信號(hào)ckl的脈沖ckn的下一脈沖ckn+1發(fā)生之前，在延遲電路202中設(shè)定與比通過標(biāo)準(zhǔn)值ns0設(shè)定的延遲時(shí)間td1短δtd的延遲時(shí)間td2對(duì)應(yīng)的規(guī)定值δns。

由此，響應(yīng)于基本時(shí)鐘信號(hào)ckl的脈沖ckn+1而產(chǎn)生的系統(tǒng)時(shí)鐘sq的脈沖wp’與緊前的脈沖wp之間的脈沖間隔δwp’比其以前的脈沖間隔δwp短。在產(chǎn)生了脈沖wp’后，在計(jì)數(shù)器電路208計(jì)數(shù)到脈沖數(shù)nck量的系統(tǒng)時(shí)鐘sq以前，不產(chǎn)生完成脈沖信號(hào)b，所以在延遲電路202設(shè)定的規(guī)定值δns保持與延遲時(shí)間td2對(duì)應(yīng)的值，在接下來產(chǎn)生完成脈沖信號(hào)b之前，系統(tǒng)時(shí)鐘sq相對(duì)于基本時(shí)鐘信號(hào)ckl一律以延遲時(shí)間td2延遲了的狀態(tài)輸出。因此，通過基本時(shí)鐘信號(hào)ckl的頻率fz確定的脈沖間隔δwp與通過時(shí)間偏移修正的脈沖間隔δwp’之比β為：

β＝δwp’/δwp＝1±(δtd/δwp)(其中，δtd＜δwp)，沿著描繪線描繪的圖案的寬度方向的尺寸在β＞1時(shí)與通過描繪數(shù)據(jù)規(guī)定的設(shè)計(jì)值相比被擴(kuò)大，在β＜1時(shí)(圖24的情況)與設(shè)計(jì)值相比被縮小。

在以上的圖23的電路結(jié)構(gòu)中，使在剛產(chǎn)生完成脈沖信號(hào)b后生成的系統(tǒng)時(shí)鐘sq的1個(gè)脈沖wp的脈沖間隔δwp以時(shí)間δtd變化，按系統(tǒng)時(shí)鐘sq的脈沖數(shù)nck量的每次計(jì)數(shù)來反復(fù)執(zhí)行。此外，在圖23的電路結(jié)構(gòu)的情況下，如使預(yù)設(shè)電路206在內(nèi)部存儲(chǔ)的標(biāo)準(zhǔn)值ns0為20、從外部設(shè)定的預(yù)設(shè)值dsb為零，則無論完成脈沖信號(hào)b有無產(chǎn)生，規(guī)定值δns均保持20(不進(jìn)行y方向的描繪倍率修正的狀態(tài))。另外，由于倍增時(shí)鐘信號(hào)cks的頻率為基本時(shí)鐘信號(hào)ckl的頻率的20倍，在使規(guī)定值δns為20的情況下，若使預(yù)設(shè)值dsb設(shè)置為+1(或－1)，則規(guī)定值δns在每次產(chǎn)生完成脈沖信號(hào)b時(shí)被覆寫成像20、21、22、···(或20、19、18···)這樣增加(或減少)。而且，倍增時(shí)鐘信號(hào)cks的1脈沖量與標(biāo)準(zhǔn)的脈沖間隔δwp(脈沖間隔距離cxs)的1/20(5％)相當(dāng)，所以若使預(yù)設(shè)值dsb以±1變化，則2個(gè)連續(xù)的點(diǎn)光的重疊程度以5％為單位變化。

如上所述，由于響應(yīng)于像這樣脈沖間隔δwp部分地增減的系統(tǒng)時(shí)鐘sq而從脈沖激光的光源裝置cnt輸出的脈沖光束被公共地供給到描繪單元uw1～uw5的每一個(gè)，因此通過每個(gè)描繪線ll1～ll5所描繪的圖案在y方向上以相同的比率伸縮。因此，如在圖12(或圖11)中說明那樣，為了維持在y方向上相鄰的描繪線間的接合精度，以使描繪線ll1～ll5各自的描繪開始位置oc1～oc5(或描繪結(jié)束位置ec1～ec5)在y方向上位移的方式修正描繪定時(shí)。

使系統(tǒng)時(shí)鐘sq的脈沖間隔δwp部分地可變的電路結(jié)構(gòu)的例子除了如圖23、圖24那樣使延遲時(shí)間td1、td2數(shù)字地可變的方式以外，也可以是模擬地可變的結(jié)構(gòu)。另外，也可以構(gòu)成為，計(jì)數(shù)器電路208每次將系統(tǒng)時(shí)鐘sq計(jì)數(shù)到預(yù)設(shè)值dsb(脈沖數(shù)nck)時(shí)被修正的1處脈沖間隔δwp’相對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)的脈沖間隔δwp以例如1％這一小值增減。在該情況下，在沿著描繪線的長(zhǎng)度lbl的點(diǎn)光的1次掃描中只要根據(jù)所需的倍率修正量來改變將標(biāo)準(zhǔn)的脈沖間隔δwp修正到脈沖間隔δwp’的部位的數(shù)量即可。例如，在使要修正的部位的數(shù)量為100時(shí)，通過1次點(diǎn)光掃描所描繪的圖案的y方向的尺寸以脈沖間隔δwp的量增減。

而且，圖4中示出的光偏轉(zhuǎn)器(aom)81的接通/斷開的切換響應(yīng)于作為描繪數(shù)據(jù)而送出的連續(xù)位列(位值“0”或“1”的排列)而進(jìn)行，但該位值的送出也可以與脈沖間隔δwp部分地增減的系統(tǒng)時(shí)鐘sq的脈沖信號(hào)wp(圖24)同步。具體來說，在1個(gè)脈沖信號(hào)wp發(fā)生到下一次脈沖信號(hào)wp發(fā)生的期間，將1個(gè)位值送出到光偏轉(zhuǎn)器(aom)81的驅(qū)動(dòng)電路，只要在該位值為例如“1”且前一個(gè)位值為“0”時(shí)，將光偏轉(zhuǎn)器(aom)81從斷開狀態(tài)切換為接通狀態(tài)即可。

另外，控制部16能夠基于與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)及能夠檢測(cè)旋轉(zhuǎn)筒dr的兩端部的位移的變位計(jì)yn1、yn2、yn3、yn4所檢測(cè)到的信息來調(diào)整由第奇數(shù)個(gè)及第偶數(shù)個(gè)描繪單元uw1～uw5所進(jìn)行的y方向的描繪位置，以使得因旋轉(zhuǎn)筒dr的偏移旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的y方向的誤差得到抵消。另外，控制部16能夠基于與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)及能夠檢測(cè)旋轉(zhuǎn)筒dr的兩端部的位移的變位計(jì)yn1、yn2、yn3、yn4所檢測(cè)到的信息來改變由第奇數(shù)個(gè)及第偶數(shù)個(gè)描繪單元uw1～uw5所形成的y方向的長(zhǎng)度(描繪線的長(zhǎng)度lbl)，以使得因旋轉(zhuǎn)筒dr的偏移旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的y方向的誤差得到抵消。

另外，控制部16能夠基于與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)及由對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2檢測(cè)到的信息來調(diào)整由第奇數(shù)個(gè)及第偶數(shù)個(gè)描繪單元uw1～uw5所形成的x方向或y方向的描繪位置，以使得基板p的x方向或y方向的誤差得到抵消。

第1實(shí)施方式的曝光裝置ex包括作為位移修正機(jī)構(gòu)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)24，其如上述那樣以包含利用來自多個(gè)描繪單元uw1～uw5各自的描繪光束lb形成在基板p上的多條描繪線ll1～ll5的描繪面內(nèi)的規(guī)定點(diǎn)的旋轉(zhuǎn)軸i為中心，使第2光學(xué)平臺(tái)25在所述描繪面內(nèi)相對(duì)于第1光學(xué)平臺(tái)23位移移動(dòng)。通過與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)，在多條描繪線ll1～ll5全部相對(duì)于x方向及y方向的至少一個(gè)方向具有誤差的情況下，控制部能夠16對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)24的驅(qū)動(dòng)部進(jìn)行驅(qū)動(dòng)控制，以使第2光學(xué)平臺(tái)25在x方向及y方向的至少一方上位移移動(dòng)出抵消誤差的位移量。

在使第2光學(xué)平臺(tái)25在x方向及y方向的至少一方位移移動(dòng)時(shí)，圖6所示的第4反射鏡59在x方向或y方向以其位移量位移。尤其是，第4反射鏡59的y方向的位移在使來自第3反射鏡58的描繪光束lb朝+y方向反射時(shí)，在z方向上位移移動(dòng)。于是，通過第1光學(xué)系統(tǒng)41中的光束位移機(jī)構(gòu)44來修正其向z方向的位移移動(dòng)。由此，能夠?qū)Φ?反射鏡59以后的第2光學(xué)系統(tǒng)42及第3光學(xué)系統(tǒng)43維持使光束lb通過正確的光路。

另外，在第1實(shí)施方式的曝光裝置ex中，在通過與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)，多條描繪線ll1～ll5相對(duì)于x方向及y方向的至少一方具有誤差的情況下，控制部16能夠?qū)馐灰茩C(jī)構(gòu)44進(jìn)行驅(qū)動(dòng)控制，使形成在基板p上的描繪線ll1～ll5沿x方向和/或y方向稍微位移抵消誤差的位移量。

而且，在第1實(shí)施方式的曝光裝置ex中，在通過與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)，多條描繪線ll1～ll5中的第奇數(shù)條或第偶數(shù)條描繪線相對(duì)于x方向及y方向的至少一方具有誤差的情況下，控制部16對(duì)光束位移機(jī)構(gòu)45進(jìn)行驅(qū)動(dòng)控制，使形成在基板p上的第偶數(shù)條描繪線ll2、ll4沿x方向和/或y方向稍微位移抵消誤差的位移量，從而能夠稍微調(diào)整與形成在基板p上的第奇數(shù)條描繪線ll1、ll3、ll5之間的相對(duì)位置關(guān)系。

另外，控制部16能夠基于與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)及通過變位計(jì)yn1、yn2、yn3、yn4或?qū)?zhǔn)顯微鏡am1、am2檢測(cè)到的信息，調(diào)整描繪單元uw1～uw5的y倍率。例如，f－θ透鏡系統(tǒng)85所包含的遠(yuǎn)心f－θ透鏡的像高與入射角成比例。因此，在僅調(diào)整描繪單元uw1的y倍率的情況下，控制部16能夠基于調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)及通過變位計(jì)yn1、yn2、yn3、yn4或?qū)?zhǔn)顯微鏡am1、am2檢測(cè)到的信息分別調(diào)整f－θ透鏡系統(tǒng)85的焦點(diǎn)距離f，由此調(diào)整y倍率。在這樣的調(diào)整機(jī)構(gòu)中，例如，可以組合用于倍率修正的彎板、遠(yuǎn)心f－θ透鏡的倍率修正機(jī)構(gòu)、用于位移調(diào)整的二分器(halving)(能夠傾斜的平行平板玻璃)中的任一個(gè)以上。另外，通過使以一定的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)多面鏡97的旋轉(zhuǎn)速度稍微可變，能夠使與系統(tǒng)時(shí)鐘sq同步地描繪的各點(diǎn)光sp(脈沖光)的間隔距離cxs稍微可變(使相鄰的點(diǎn)光彼此的重疊量稍微錯(cuò)開)，結(jié)果是也能夠調(diào)整y倍率。

第1實(shí)施方式的曝光裝置ex包含作為旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)24，其如上述那樣包含通過來自多個(gè)描繪單元uw1～uw5各自的描繪光束lb形成在基板p上的多條描繪線ll1～ll5的描繪面內(nèi)的規(guī)定點(diǎn)的旋轉(zhuǎn)軸i為中心，使第2光學(xué)平臺(tái)25在所述描繪面內(nèi)相對(duì)于第1光學(xué)平臺(tái)23旋轉(zhuǎn)。在通過與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)，多條描繪線ll1～ll5相對(duì)于y方向具有角度誤差的情況下，控制部16能夠?qū)σ苿?dòng)機(jī)構(gòu)24的驅(qū)動(dòng)部進(jìn)行驅(qū)動(dòng)控制，使第2光學(xué)平臺(tái)25旋轉(zhuǎn)抵消角度誤差的旋轉(zhuǎn)量。

另外，在需要分別對(duì)各描繪單元uw1～uw5進(jìn)行旋轉(zhuǎn)修正的情況下，使圖8所示的f－θ透鏡系統(tǒng)85和第2柱面透鏡86繞光軸axf以微小量旋轉(zhuǎn)，由此能夠使各描繪線ll1～ll5在基板p上分別微小地旋轉(zhuǎn)(傾斜)。通過旋轉(zhuǎn)多面鏡97掃描的光束lb關(guān)于非掃描方向沿著柱面透鏡86的母線成像(聚光)，因此，通過柱面透鏡86的繞光軸axf的旋轉(zhuǎn)，能夠使各描繪線ll1～ll5旋轉(zhuǎn)(傾斜)。

第1實(shí)施方式的曝光裝置ex只要處理由上述步驟s4的控制裝置所進(jìn)行的描繪位置的調(diào)整的處理中的至少一個(gè)即可。另外，第1實(shí)施方式的曝光裝置ex也可以組合由上述步驟s4的控制裝置進(jìn)行的描繪位置的調(diào)整的處理來進(jìn)行處理。

通過以上說明的基板處理裝置的調(diào)整方法，在第1實(shí)施方式的曝光裝置ex中，不需要用于抑制在基板p的寬度方向(y方向)相鄰的圖案pt1～pt5彼此的接合誤差的試驗(yàn)曝光，或者能夠減少試驗(yàn)曝光的次數(shù)。因此，第1實(shí)施方式的曝光裝置ex能夠縮短試驗(yàn)曝光、干燥及顯影工序、曝光結(jié)果的確認(rèn)作業(yè)等花費(fèi)時(shí)間的校準(zhǔn)作業(yè)。而且，第1實(shí)施方式的曝光裝置ex能夠抑制與通過試驗(yàn)曝光反饋的次數(shù)相應(yīng)量的基板p的浪費(fèi)。第1實(shí)施方式的曝光裝置ex能夠很快獲得與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)。第1實(shí)施方式的曝光裝置ex能夠基于與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)預(yù)先進(jìn)行修正，由此能夠容易地修正x方向或y方向上、位移、旋轉(zhuǎn)、倍率等各成分。而且，第1實(shí)施方式的曝光裝置ex能夠提高在基板p上進(jìn)行重合曝光的精度。

此外，第1實(shí)施方式的曝光裝置ex說明了如下例子：光偏轉(zhuǎn)器81包含聲光元件，通過旋轉(zhuǎn)多面鏡97來以描繪光束lb進(jìn)行點(diǎn)掃描，但是除點(diǎn)掃描以外，也可以是使用dmd(digitalmicromirrordevice：數(shù)字微鏡器件)或slm(spatiallightmodulator：空間光調(diào)制器)來描繪圖案的方式。

[第2實(shí)施方式]

接下來，對(duì)第2實(shí)施方式的曝光裝置ex進(jìn)行說明。此外，在第2實(shí)施方式中，為了避免與第1實(shí)施方式重復(fù)的記載，僅對(duì)與第1實(shí)施方式不同的部分進(jìn)行說明，對(duì)于與第1實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)要素標(biāo)記與第1實(shí)施方式相同的附圖標(biāo)記來進(jìn)行說明。

第2實(shí)施方式的曝光裝置ex中，校準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)31的光電傳感器31cs不檢測(cè)基準(zhǔn)圖案(也用作基準(zhǔn)標(biāo)記)rmp，而是檢測(cè)位于基板p上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ks1～ks3的反射光(散亂光)。對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ks1～ks3配置在從多個(gè)描繪單元uw1～uw5的各描繪線ll1～ll5中的某一條通過的y方向的基板p上的位置。當(dāng)描繪光束lb的點(diǎn)光sp對(duì)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ks1～ks3進(jìn)行掃描時(shí)，由對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ks1～ks3反射的散亂光被光電傳感器31cs在亮視野或暗視野接收。

控制部16基于從光電傳感器31cs輸出的信號(hào)來檢測(cè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ks1～ks3的邊緣位置。而且，與第1實(shí)施方式同樣地，控制部16能夠根據(jù)由光電傳感器31cs檢測(cè)到的檢測(cè)信號(hào)來求出與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)。

另外，控制部16能夠基于與多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置誤差對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)及由對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2檢測(cè)到的信息，調(diào)整由第奇數(shù)個(gè)及第偶數(shù)個(gè)描繪單元uw1～uw5進(jìn)行的x方向或y方向的描繪位置，以使得基板p的x方向或y方向的誤差得到抵消。當(dāng)描繪光束lb的點(diǎn)光sp投射到對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ks1～ks3上時(shí)，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ks1～ks3上的感光層感光，在之后的工藝中對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ks1～ks3有可能會(huì)變形。優(yōu)選的是，預(yù)先設(shè)有多列對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ks1～ks3，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡am1、am2讀取沒有因曝光而變形的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ks1～ks3。

因此，第2實(shí)施方式的曝光裝置ex中，能夠在圖案描繪用數(shù)據(jù)包含使光偏轉(zhuǎn)器(aom)81接通/斷開的數(shù)據(jù)，以使得通過描繪光束lb的點(diǎn)光sp在因曝光而變形也沒問題的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ks1～ks3附近掃描，在不想因曝光而變形的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ks1～ks3附近不照射點(diǎn)光sp。由此，能夠一邊利用描繪光束lb曝光一邊幾乎實(shí)時(shí)地獲取校準(zhǔn)信息，并且還讀取對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ks1～ks3(基板p的位置)。

第2實(shí)施方式的曝光裝置ex與第1實(shí)施方式的曝光裝置ex同樣地，不再需要用于抑制接合誤差的試驗(yàn)曝光，或者能夠減少試驗(yàn)曝光的次數(shù)。而且，在第2實(shí)施方式的曝光裝置ex中，能夠一邊對(duì)基板p進(jìn)行圖案曝光一邊測(cè)量多條描繪線ll1～ll5的配置狀態(tài)或相互的配置關(guān)系等的誤差信息，并很快(幾乎實(shí)時(shí))獲取與之對(duì)應(yīng)的調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)。因此，在第2實(shí)施方式的曝光裝置ex中，能夠基于很快測(cè)量到的誤差信息、或調(diào)整信息(校準(zhǔn)信息)一邊曝光出器件圖案一邊逐漸進(jìn)行保持規(guī)定精度那樣的修正和/或調(diào)整，并且能夠容易地抑制在多描繪頭方式中成為問題的、包含x方向或y方向上的位移誤差、旋轉(zhuǎn)誤差、倍率誤差等各誤差成分的描繪單元間的接合精度的降低。由此，第2實(shí)施方式的曝光裝置ex能夠?qū)⒃诨錺上重合曝光時(shí)的重合精度為保持在高精度的狀態(tài)。

＜器件制造方法＞

接下來，參照?qǐng)D25對(duì)器件制造方法進(jìn)行。圖25是表示各實(shí)施方式的器件制造方法的流程圖。

在圖25所示的器件制造方法中，首先進(jìn)行由例如有機(jī)el等的自發(fā)光元件形成的顯示面板的功能及性能設(shè)計(jì)，并通過cad等設(shè)計(jì)所需的電路圖案和布線圖案(步驟s201)。另外，準(zhǔn)備卷繞有成為顯示面板的基材的撓性的基板p(樹脂薄膜、金屬箔膜、塑料等)的供給用輥(步驟s202)。此外，在該步驟s202準(zhǔn)備的輥狀的基板p根據(jù)需要可以是對(duì)其表面進(jìn)行了改性的基板、事先形成有基底層(例如通過壓印方式形成的微小凹凸)的基板、事先層疊有光感應(yīng)性的功能膜和/或透明膜(絕緣材料)的基板。

接下來，在基板p上形成構(gòu)成顯示面板器件的由電極、布線、絕緣膜、tft(薄膜半導(dǎo)體)等構(gòu)成的底板層，并且以層疊在該底板層上的方式形成由有機(jī)el等的自發(fā)光元件形成的發(fā)光層(顯示像素部)(步驟s203)。在該步驟s203中也可以含有由以下工序等形成的處理：使用在之前的各實(shí)施方式中說明的曝光裝置ex對(duì)光致抗蝕劑層進(jìn)行曝光而使其顯影的以往的光刻工序；代替光致抗蝕劑而對(duì)涂敷有感光性硅烷耦合材料的基板p進(jìn)行圖案曝光來對(duì)表面的親疏水性進(jìn)行改性以形成圖案的曝光工序；對(duì)光感應(yīng)性的催化劑層進(jìn)行圖案曝光以選擇性地賦予鍍敷還原性，通過無電解鍍敷法形成金屬膜的圖案(布線、電極等)的濕式工序或者通過含有銀納米粒子的導(dǎo)電性墨水等描繪圖案的印刷工序。

接下來，按以輥方式在長(zhǎng)條狀的基板p上連續(xù)制造的每個(gè)顯示面板器件切割基板p，在各顯示面板器件的表面上貼合保護(hù)薄膜(耐環(huán)境隔層)和彩色濾光片等來組裝器件(步驟s204)。然后，進(jìn)行顯示面板器件是否正常作用、是否滿足所期望的性能和特性的檢查工序(步驟s205)。如以上那樣，能夠制造出顯示面板(柔性顯示器)。此外，由柔性的長(zhǎng)條片狀基板制成的電子器件不限于顯示面板，也可以是用于將安裝在汽車和/或電車等中的各種電子部件間連接的作為線束(布線束)的柔性布線網(wǎng)。

附圖標(biāo)記的說明

1器件制造系統(tǒng)

11描繪裝置

12基板搬送機(jī)構(gòu)

13裝置框架

14旋轉(zhuǎn)位置檢測(cè)機(jī)構(gòu)

16控制部

23第1光學(xué)平臺(tái)

24移動(dòng)機(jī)構(gòu)

25第2光學(xué)平臺(tái)

31校準(zhǔn)檢測(cè)系統(tǒng)

31cs光電傳感器

31f遮光部件

73第4分束器

81光偏轉(zhuǎn)器

83掃描器

96反射鏡

97旋轉(zhuǎn)多面鏡

97a旋轉(zhuǎn)軸

97b反射面

98原點(diǎn)檢測(cè)器

am1、am2對(duì)準(zhǔn)顯微鏡

dr旋轉(zhuǎn)筒

en1、en2、en3、en4編碼器讀頭

ex曝光裝置

i旋轉(zhuǎn)軸

ll1～ll5描繪線

pbs偏振光分束器

uw1～uw5描繪單元