專利名稱：半色調(diào)掩模及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種半色調(diào)掩模及其制造方法，用來減少形成多個(gè)半透過部的半透過材料的數(shù)目以及過程的數(shù)目，從而減少制造成本。
背景技術(shù)：
一般地說，液晶顯示(LCD)使用電場(chǎng)控制具有介電各向異性的液晶的光透射率， 從而顯示圖像。為此，LCD包括用于利用液晶單元矩陣顯示圖像的液晶顯示板以及用于驅(qū)動(dòng)所述液晶顯示板的驅(qū)動(dòng)電路。一種現(xiàn)有的液晶顯示板包括彩色濾光片基底和薄膜晶體管基底，這兩種基底相互結(jié)合在一起，其中間具有液晶。所述彩色濾光片基底包括黑矩陣、彩色濾光片和普通電極，它們順序地被置于上玻璃基底上。所述薄膜晶體管基底包括薄膜晶體管和像素電極，它們被提供給下玻璃基底上的每個(gè)單元，該單元由橫越數(shù)據(jù)線的柵線限定。所述薄膜晶體管根據(jù)來自柵線的柵信號(hào)將來自數(shù)據(jù)線的數(shù)據(jù)信號(hào)施加在所述像素電極上。由透明導(dǎo)電層形成的像素電極提供來自所述薄膜晶體管的數(shù)據(jù)信號(hào)以驅(qū)動(dòng)液晶。所述薄膜晶體管基底通過許多掩模過程形成，其中，形成源和漏電極以及半導(dǎo)體圖案的過程使用單個(gè)半色調(diào)掩模，以減少掩模過程的數(shù)目。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題此時(shí)，所述半色調(diào)掩模包括用于阻擋紫外光的阻擋區(qū)、使紫外光部分透射的半透過區(qū)、以及使紫外光透過的透射區(qū)。所述半色調(diào)掩模上的半透過區(qū)可以形成有多個(gè)半透過部，每個(gè)半透過部具有不同的透射率。使用具有不同透射率的半透過材料形成所述多個(gè)半透過部。就是說，需要具有不同半透過材料的三種半透過部來形成具有三種不同透射率的半色調(diào)掩模。具有三種不同透射率的半色調(diào)掩模的形成方法可以包括層疊第一半透過材料， 通過進(jìn)行光刻和刻蝕過程使該第一半透過材料圖案化，在其上層疊第二半透過材料，通過進(jìn)行光刻和刻蝕過程使該第二半透過材料圖案化，層疊第三半透過材料，通過進(jìn)行光刻和刻蝕過程使該第三半透過材料圖案化。因此，形成所述半色調(diào)掩模的常規(guī)方法的不利之處在于，由于必須進(jìn)行若干光刻和刻蝕過程以形成具有不同半透過材料的多個(gè)半透過部，所以過程的數(shù)目、時(shí)間和制造成本增加。技術(shù)方案公開本發(fā)明以避免上述不利，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是，提供一種半色調(diào)掩模及其制造方法，用來減少形成多個(gè)半透過部的半透過材料的數(shù)目以及過程的數(shù)目，從而減少制造成本。在本發(fā)明的一個(gè)總的方面，提供一種半色調(diào)掩模，其包括基底；透射區(qū)，形成在
3所述基底上以透射預(yù)定波長(zhǎng)的輻射光；以及半透過區(qū)，形成在所述基底上，具有由兩種或多種半透過材料交替層疊的多個(gè)層，并且半透過區(qū)形成有根據(jù)層疊的半透過材料的數(shù)目具有不同透射率的多個(gè)半透過部。在一些示例性實(shí)施例中，所述半色調(diào)掩模還可以包括具有阻擋層的阻擋區(qū)，該阻擋層形成在具有交替層疊的多種半透過材料的上表面或下表面上。在一些示例性實(shí)施例中，所述多個(gè)半透過部可以形成為根據(jù)疊層的數(shù)目具有范圍在5 % -80 %內(nèi)的光透射率差異。在一些示例性實(shí)施例中，所述半透過材料可以包括Cr、Si、Mo、Ta、Ti、和Al作為主元素，或包括用至少兩種或多種所述元素混合成的復(fù)合材料，或者可以是一種在所述主元素中添加有Cox、Ox、Nx中的至少一種的材料。在一些示例性實(shí)施例中，所述至少兩種或多種半透過材料中的每種材料可以用具有不同刻蝕比的半透過材料形成。在一些示例性實(shí)施例中，所述半透過區(qū)可以包括第一半透過部、第二半透過部和第三半透過部，所述第一半透過部交替層疊有第一半透過材料和第二半透過材料以使光的透過率多達(dá)，其中，所述半透過區(qū)用所述第一半透過材料和所述第二半透過材料交替形成，所述第二半透過部交替層疊有所述第一半透過材料和所述第二半透過材料以使光的透過率多達(dá)，其中，所述第二半透過部比所述第一半透過部具有較少的半透過材料數(shù)目， 以及所述第三半透過部交替層疊有所述第一半透過材料和所述第二半透過材料以使光的
透過率多達(dá)ζ%，其中，所述第三半透過部比所述第二半透過部具有較少的半透過材料數(shù)目。在本發(fā)明的另一總的方面，一種半色調(diào)掩模的制造方法包括在基底上用至少兩種或多種半透過材料交替層疊多層；在所述交替層疊的至少兩種或多種半透過材料上層疊阻擋層；一步步刻蝕所述交替層疊兩種或多種半透過材料，以形成具有不同高度的多個(gè)半透過部。在一些示例性實(shí)施例中，所述多個(gè)半透過部形成為根據(jù)層疊的半透過材料的數(shù)目具有范圍在5% -80%的光透射率。在一些示例性實(shí)施例中，所述一步步刻蝕交替層疊的兩種或多種半透過材料以形成具有不同高度的多個(gè)半透過單元的步驟包括在至少交替層疊有兩種或多種半透過材料的所述阻擋層上層疊光刻膠，以使每層光刻膠都具有臺(tái)面；以及利用形成有臺(tái)面的所述光刻膠作掩模順序刻蝕露出的所述阻擋層和交替層疊的所述兩種或多種半透過材料，以使所述阻擋層和所述半透過材料具有互不相同的高度。在一些示例性實(shí)施例中，所述至少兩種或多種半透過材料中的每種半透過材料都具有不同的刻蝕比。在一些示例性實(shí)施例中，所述半透過材料為一種以Cr、Si、Mo、Ta、和Al之一作為主元素的材料，或?yàn)橐环N用至少兩種或多種所述元素混合成的復(fù)合材料，或者為一種在所述主元素中添加有Cox、Ox, Nx中的至少一種的材料。有益效果本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于，一種半透過掩模包括多個(gè)半透過部，這多個(gè)半透過部交替層疊兩種半透過材料，并根據(jù)這兩種半透過材料的層疊高度具有不同的光透過率，使得對(duì)交
4替層疊的這兩種半透過材料一步步刻蝕，以形成不同的層疊高度，以及形成具有不同透射率的多個(gè)半透過部，由此，使用至少兩種或多種半透過材料以及通過一步步刻蝕形成具有不同透射率的多個(gè)半透過部，從而減少了半透過材料和制造過程的數(shù)目，并且由于時(shí)間和成本的減少增加了產(chǎn)率。


圖1是剖視圖，示出了本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例所述的半色調(diào)掩模；圖2到圖12是剖視圖，示出了圖1中的示例性實(shí)施例所述的半色調(diào)掩模的制造過程；以及圖13是剖視圖，示出了本發(fā)明的另一個(gè)示例性實(shí)施例所述的半色調(diào)掩模。
具體實(shí)施例方式下面將參考附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的配置和操作。圖1是剖視圖，示出了本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例所述的半色調(diào)掩模。參看圖1，半色調(diào)掩模100包括基底102上的阻擋區(qū)(Si)、具有多個(gè)半透過部的半透過區(qū)(S3、S4、S5)以及透射區(qū)(S2)?；?02可以是透明基底(例如，石英)，它能夠完全透射預(yù)定波段的輻射光。然而，該基底不限于石英，可以是任何能夠透光的材料。半透過區(qū)(S3、S4、S5)可以包多個(gè)半透過部，以便以相互不同的透射率透射照在所述基底上的預(yù)定波段的光。半透過區(qū)(S3、S4、SO可以由光刻膠圖案來形成，通過在光刻膠處理過程的曝光過程中部分地透射紫外光，在顯影過程之后，每個(gè)光刻膠圖案具有不同的厚度。更具體地說，半透過區(qū)(S3、S4、SQ可以包括多個(gè)半透過部，每個(gè)半透過部通過使用至少兩種或多種半透過材料112、114而具有不同的透射率。就是說，半透過區(qū)(S3、S4、 S5)交替層疊有至少兩種或多種半透過材料112、114，并且根據(jù)交替形成的所述至少兩種或多種半透過材料112、114的數(shù)目，可以形成透射率各不相同的所述多個(gè)半透過部。下面，通過一種情形來例示半透過區(qū)(S3、S4、S5)，在這種情形中，第一和第二半透過材料112、114交替層疊了 4層。就是說，半透過區(qū)(S3、S4、S5)包括第一半透過部(S!3)、第二半透過部(S4)和第三半透過部(S5)，第一半透過部(S； )在基底102上層疊第一半透過材料114，以使光的透射率高達(dá)X%，第二半透過部(S4)在第一半透過材料114上層疊第二半透過材料112，以使光的透射率高達(dá)Y%，第三半透過部(SO用第一半透過材料114和第二半透過材料112交替層疊3層，以使光的透射率高達(dá)Z%，其中，和分別限定了范圍在5% -80% 的輻射光透射率。就是說，可以形成多個(gè)半透過部，以便根據(jù)層疊層的數(shù)目具有范圍在 5% -80%的不同的光透射率。此處，第一和第二半透過材料114、112可以是一種以Cr、Si、Mo、Ta、Ti、Al之一作為主元素的材料或用至少兩種或多種所述元素混合成的復(fù)合材料，或者是在所述主元素材料或所述復(fù)合材料中添加Cox、Ox、Nx中的至少一種的材料，其中，χ為自然數(shù)，它隨著元素的組合而變。
第一和第二半透過材料114、112的成分是可以變化的，只要部分預(yù)定波長(zhǎng)的輻射光可透射即可。在本發(fā)明中，第一和第二半透過材料114、112的成分，例如，所述層疊的半透過材料 114、112 的成分，可以是從 Crx0y、CrxCOy, CrxOyNz, SixOy, SixOyNz, SixCOy, SixCOyNz, MoxSiy, MoxOy, MoxOyNz, MoxCOy, MoxOyNz, MoxSiyOz, MoxSiyOzN, MoxSiyCOzN, MoxSiyCOz, TaxOy, TaxOyNz, TaxCOy, TaxOyNz, AlxOy, AlxCOy, AlxOyNz, AlxCOyNz, TixOy, TixOyNz, TixCOy 組中選出的任一成分或其復(fù)合成分，其中，下標(biāo)χ、y和ζ是自然數(shù)，限定了每種化學(xué)元素的數(shù)目。優(yōu)選地，在第一和第二半透過材料114、112由Crx0y、CrxC0y、Crx0yNz形成的情形中， 可以使用所述列出的半透過材料中具有Cr的可選擇性刻蝕的第二半透過材料114。就是說，第一和第二半透過材料114、112每個(gè)都必須用這樣的半透過材料來形成，每個(gè)這種半透過材料在所述列出的半透過材料中具有不同的刻蝕比。如上所述，通過交替形成多個(gè)第一和第二半透過材料114、112，可以形成第一到第 m半透過部，其中，m是大于1的自然數(shù)，每個(gè)半透過部都可以根據(jù)層疊層的數(shù)目具有不同透射率，這一點(diǎn)可以參考圖13來說明。參考圖13，半透過區(qū)(S3、S4、S5)可以包括用多個(gè)第一半透過材料114和多個(gè)第二半透過材料112交替層疊成的第一半透過部(S3)，以使光透射率高達(dá)X%，其中所述半透過區(qū)用所述第一半透過材料和所述第二半透過材料交替形成；用所述第一半透過材料和所述第二半透過材料交替層疊成的第二半透過區(qū)(S4)，以使光透射率高達(dá)，其中，所述第二半透過區(qū)比所述第一半透過區(qū)具有較少的半透過材料的數(shù)目；用所述第一半透過材料和所述第二半透過材料交替層疊成的第三半透過區(qū)(S5)，以使光透射率高達(dá)Υ%，其中，所述第三半透過區(qū)比所述第二半透過區(qū)具有較少的半透過材料的數(shù)目。就是說，通過交替層疊至少兩種或多種半透過材料，半色調(diào)掩模可以形成為具有多個(gè)半透過部，每個(gè)半透過部根據(jù)層疊層的數(shù)目具有不同的透射率。通過在曝光過程期間遮擋紫外光，在顯影過程之后，阻擋區(qū)Sl剩下光刻膠圖案。 最終，通過使阻擋層層疊在多個(gè)第一半透過材料114和多個(gè)第二半透過材料112上，阻擋區(qū) Sl阻擋紫外光。下面將參考圖2到圖12來描述包括透射區(qū)S2、阻擋區(qū)Sl和半透過區(qū)(S3、S4、S5) 的半色調(diào)掩模的形成過程。圖2到圖12是剖視圖，示出了圖1中的示例性實(shí)施例所述的半色調(diào)掩模的制造過程。盡管通過交替層疊所述第一和第二半透過材料可以形成多個(gè)層，但在本示例性實(shí)施例中，將描述這樣的情形，其中，交替層疊所述第一和第二半透過材料以形成4層。參看圖2，通過濺射、化學(xué)氣相沉積等，在基底102上交替層疊所述第一和第二半透過材料114、112，形成4層，隨后在其上順序?qū)盈B阻擋層110和光刻膠120。更具體地說，第一和第二半透過材料114、112可以是一種以Cr、Si、Mo、Ta、Ti、Al 之一作為主元素的材料或用至少兩種或多種所述元素混合成的復(fù)合材料，或者是在所述主元素材料或所述復(fù)合材料中添加Cox、Ox、Nx中的至少一種的材料，其中，χ為自然數(shù)，它隨著元素的組合而變。第一和第二半透過材料114、112的成分是可以變化的，只要部分預(yù)定波長(zhǎng)的輻射光可透射即可。在本發(fā)明中，第一和第二半透過材料114、112的成分可以是從Crx0y、CrxC0y、CrxOyNz, SixOy, SixOyNz, SixC0y、SixCOyNz, MoxSiy, MoxOy, MoxOyNz, MoxCOy, MoxOyNz, MoxSiyOz, MoxSiyOzN, MoxSiyCOzN, MoxSiyCOz、TaxOy, TaxOyNz, TaxCOy, TaxOyNz, AlxOy、AlxCOy、AlxOyNz、 AlxCOyNz> TixOy, Tix0yNz、TixCOy組中選出的任一成分或其復(fù)合成分。優(yōu)選地，在第一和第二半透過材料114、112由Crx0y、CrxC0y、Crx0yNz形成的情形中， 可以使用所述列出的半透過材料中具有Cr的可選擇性刻蝕的第二半透過材料114。就是說，第一和第二半透過材料114、112每個(gè)都必須用這樣的半透過材料來形成，每個(gè)這種半透過材料在所述列出的半透過材料中具有不同的刻蝕比。此外，阻擋層110可以用能夠阻擋紫外光的材料來形成，例如，所述阻擋層可以用 Cr和CrxOy形成的膜來形成。參看圖3，在對(duì)形成在阻擋層110上的光刻膠120進(jìn)行刻畫并顯影之后，可以形成第一和第二光刻膠圖案120a、120b，每個(gè)光刻膠圖案都具有臺(tái)面，并且在形成透射區(qū)S2的地方對(duì)阻擋層進(jìn)行曝光。更具體地說，通過調(diào)節(jié)激光束的強(qiáng)度將激光束照射到光刻膠120上來形成第一和第二光刻膠圖案120a、120b，每個(gè)光刻膠圖案具有不同的厚度。第一光刻膠圖案120a位于阻擋層Si、第一半透過部S3和第三半透過部S5應(yīng)該形成的地方，而第二光刻膠圖案120b 位于第二半透過部S4應(yīng)該形成的地方。在透射區(qū)S2應(yīng)該形成的地方露出阻擋層110。參看圖4，使用留在阻擋層110上的第一和第二光刻膠圖案120a、120b作掩模被露出的阻擋層Iio以及第一和第二半透過材料114、112通過刻蝕過程被去掉。更具體地說，通過使用所述第一和第二半透過材料上的阻擋層110和第一和第二光刻膠圖案120a、120b作掩模的刻蝕過程露出基底102，從而形成透射區(qū)S2。參看圖5，通過使用氧(O2)等離子體的刻蝕過程使第一光刻膠圖案120a變薄，并去掉第二光刻膠圖案120b。在通過去掉第二光刻膠圖案120b形成透射率為的第二半透過部S4的地方露出阻擋層110。參看圖6，利用留在阻擋層110上的第一光刻膠圖案120a作掩模通過刻蝕過程順序去掉應(yīng)該形成第三半透過部S5的地方露出的阻擋層110、第二半透過材料112和第一半透過材料114。于是，形成了第二半透過部S4，在第二半透過部S4處，第一和第二半透過材料114、112層疊在基底102上。隨后，通過脫模過程，去掉留在基底102上的第一光刻膠圖案 120a。參看圖7，在形成有阻擋區(qū)Si、透射區(qū)S2和第二半透過部S4的基底102上形成光刻膠120。在對(duì)光刻膠120進(jìn)行刻畫和顯影之后，形成第一和第二光刻膠圖案120a、120b， 每個(gè)光刻膠圖案都具有臺(tái)面。更具體地說，通過調(diào)節(jié)激光束的強(qiáng)度將激光束照射到光刻膠120上來形成第一和第二光刻膠圖案120a、120b，每個(gè)光刻膠圖案具有不同的厚度。第一光刻膠圖案120a位于阻擋區(qū)Si、透射區(qū)S2和第二半透過部S4應(yīng)該形成的地方，而第二光刻膠圖案120b位于第三半透過部S5應(yīng)該形成的地方。在第一半透過部S3應(yīng)該形成的地方露出阻擋層110。參看圖8，利用第一和第二光刻膠圖案120a、120b作為基底102上的掩模露出阻擋層110，隨后通過刻蝕過程順序去掉第二半透過材料112和第一半透過材料114。于是，在第一半透過部S3應(yīng)該形成的地方留下第一和第二半透過材料114、112。參看圖9，通過使用氧(O2)等離子體的刻蝕過程使第一光刻膠圖案120a變薄，并
7去掉第二光刻膠圖案120b。在通過去掉第二光刻膠圖案120b形成光透射率為的第三半透過部S5的地方露出阻擋層110。參看圖10，通過刻蝕過程將使用第一光刻膠圖案120a作為基底102上的掩模露出的阻擋層110去掉，然后去掉第二半透過材料112，如圖11所示。接著參看圖12，通過脫模過程去掉留在基底102上的第一光刻膠120a，以形成具有多個(gè)半透過部的半色調(diào)掩模，每個(gè)半透過部具有不同的透射率。于是，透射區(qū)S2露出基底102以使照射到基底102上的光透射過去，以及第一和第二半透過材料114、112在基底 102上交替層疊4層，在其上形成有阻擋層110，從而形成阻擋區(qū)Si。此外，具有多個(gè)透射率不同的半透過部的半透過區(qū)形成有第一半透過部S3、第二半透過部S4和第三半透過部S5，第一半透過部S3通過在所述基底上層疊第一半透過材料而具有的透射率，第二半透過部S4通過在所述基底上層疊第一和第二半透過材料114、 112而具有的透射率，第三半透過部S5在所述基底上交替層疊3層第一和第二半透過材料114、112而具有的透射率。如上所述，第一和第二半透過材料114、112可以通過形成多層所述半透過材料 (每種半透過材料具有不同的刻蝕比)之后逐漸一步一步的刻蝕過程形成多個(gè)半透過部， 每個(gè)半透過部具有不同的透射率。就是說，通過只使用所述第一和第二半透過材料可以提供具有多個(gè)半透過部的半色調(diào)掩模，每個(gè)半透過部具有不同的透射率。同時(shí)，盡管本示例性實(shí)施例描述了使用所述第一和第二半透過材料只形成所述第一、第二和第三半透過部的方法，根據(jù)所述第一和第二半透過材料的層疊層的數(shù)目可以形成多個(gè)具有不同透過率的半透過部。此外，除了所述第一和第二半透過材料外，還通過層疊以及一步步刻蝕第一到第η 半透過材料，可以形成具有第一到第m半透過部的多個(gè)半透過部，其中，η和m是大于1的自然數(shù)。工業(yè)實(shí)用性本發(fā)明在工業(yè)上的實(shí)用性在于，半透過掩模包括多個(gè)半透過部，這多個(gè)半透過部交替層疊兩種半透過材料，并根據(jù)這兩種半透過材料的層疊高度具有不同的光透過率，使得對(duì)交替層疊的這兩種半透過材料一步步刻蝕，以形成不同的層疊高度，以及形成具有不同透射率的多個(gè)半透過部，由此，使用至少兩種或多種半透過材料以及通過一步步刻蝕形成具有不同透射率的多個(gè)半透過部，從而減少了半透過材料和制造過程的數(shù)目，并且由于時(shí)間和成本的減少增加了產(chǎn)率。
權(quán)利要求
1.一種半色調(diào)掩模，包括基底；透射區(qū)，形成在所述基底上以透射預(yù)定波長(zhǎng)的輻射光；以及半透過區(qū)，形成在所述基底上，具有由兩種或多種半透過材料交替層疊的多個(gè)層， 并且半透過區(qū)形成有根據(jù)層疊的半透過材料的數(shù)目具有不同透射率的多個(gè)半透過部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半色調(diào)掩模，其中，該半色調(diào)掩模還包括具有阻擋層的阻擋區(qū)，該阻擋層形成在交替層疊的多種半透過材料的上表面或下表面上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半色調(diào)掩模，其中，所述多個(gè)半透過部形成為根據(jù)疊層的數(shù)目具有范圍在5% -80%內(nèi)的光透射率差異。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半色調(diào)掩模，其中，所述半透過材料包括以Cr、Si、Mo、Ta、Ti、 Al、Zr、Sn、Zn、In、Mg、Hf、V、Nd、Ge、MgO-Al2O3或Si3N4之一作為主成分或用至少兩種或多種所述元素混合成的復(fù)合材料，或者包括添加有Cox、Ox、Nx, Cx、Fx和Bx中的至少一種的單個(gè)所述主成分或所述復(fù)合材料，其中，下標(biāo)χ為自然數(shù)，限定了每種化學(xué)元素的數(shù)目。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半色調(diào)掩模，其中，所述至少兩種或多種半透過材料中的每種材料用具有不同刻蝕比的半透過材料形成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半色調(diào)掩模，其中，所述半透過區(qū)包括第一半透過部、第二半透過部和第三半透過部，所述第一半透過部交替層疊有第一半透過材料和第二半透過材料以使光的透過率多達(dá)，其中，所述半透過區(qū)用所述第一半透過材料和所述第二半透過材料交替形成，所述第二半透過部交替層疊有所述第一半透過材料和所述第二半透過材料以使光的透過率多達(dá)，其中，所述第二半透過部比所述第一半透過部具有更少的半透過材料數(shù)目，以及所述第三半透過部交替層疊有所述第一半透過材料和所述第二半透過材料以使光的透過率多達(dá)ζ%，其中，所述第三半透過部比所述第二半透過部具有更少的半透過材料數(shù)目。
7.一種半色調(diào)掩模的制造方法，包括在基底上用至少兩種或多種半透過材料交替層疊多層；在所述交替層疊的至少兩種或多種半透過材料上層疊阻擋層；一步步刻蝕所述交替層疊的兩種或多種半透過材料，以形成具有不同高度的多個(gè)半透過部。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述多個(gè)半透過部形成為根據(jù)層疊的半透過材料的數(shù)目具有范圍在5% -80%的光透射率。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述一步步刻蝕交替層疊的兩種或多種半透過材料以形成具有不同高度的多個(gè)半透過單元的步驟包括在至少交替層疊有兩種或多種半透過材料的所述阻擋層上層疊光刻膠，以使每層光刻膠都具有臺(tái)面；以及利用形成有臺(tái)面的所述光刻膠作掩模順序刻蝕露出的所述阻擋層和交替層疊的所述兩種或多種半透過材料，以使所述阻擋層和所述半透過材料具有互不相同的高度。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述至少兩種或多種半透過材料中的每種半透過材料都具有不同的刻蝕比。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述半透過材料包括以Cr、Si、Mo、Ta、Ti、Al、 Zr、Sn、Zn、h、Mg、Hf、V、Nd、Ge、MgO-Al2O3或Si3N4之一作為主成分或用至少兩種或多種所述元素混合成的復(fù)合材料，或者包括添加有Cox、Ox、Nx, Cx、Fx和Bx中的至少一種的單個(gè)所述主成分或所述復(fù)合材料，其中，下標(biāo)χ為自然數(shù)，限定了每種化學(xué)元素的數(shù)目。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種半色調(diào)掩模及其制造方法，用來減少形成多個(gè)半透過部的半透過材料的數(shù)目以及過程的數(shù)目，從而減少制造成本，其中，所述半色調(diào)掩模包括基底；透射區(qū)，形成在所述基底上以透射預(yù)定波長(zhǎng)的輻射光；以及半透過區(qū)，形成在所述基底上，具有由兩種或多種半透過材料交替層疊的多個(gè)層，并且半透過區(qū)形成有根據(jù)層疊的半透過材料的數(shù)目具有不同透射率的多個(gè)半透過部；以及具有阻擋層的阻擋區(qū)，該阻擋層形成在具有交替層疊的多種半透過材料上。
文檔編號(hào)H01L21/027GK102449736SQ201080023385
公開日2012年5月9日 申請(qǐng)日期2010年5月26日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月26日
發(fā)明者金武成 申請(qǐng)人:Lg伊諾特有限公司