專利名稱：供氣單元及供氣裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及種使多種氣體切換流通的供氣單元及供氣裝置。
背景技術：
目前，在用于半導體制造工序等的供氣單元中，為了抑制由于載氣流路的截面積 變化所引起的氣壓的急劇變化，使載氣流路的截面形狀和截面積在整個流路上基本保持一 定(例如，參照專利文獻1)。參照圖6 8對專利文獻1所記載結構的進行說明。圖6是供氣單元的平面圖， 圖7是圖6的7-7線的截面圖，圖8是圖6的8-8線的截面圖。在上述供氣單元311中，在載氣輸入端口 321s和載氣輸出端口 321e之間形成有 一條載氣流路321，在各閥塊320A 320D中形成有處理氣體流路322，該處理氣體流路322 連通處理氣體輸入端口 322s和載氣流路321。各閥塊320A 320D中，由開閉閥350在塊體335內在處理氣體流路322和載氣 流路321之間進行通斷操作。塊體335內部形成有倒V字型的塊狀流路331，與閥室324連 通的處理氣體流路322通過閥孔325與流路331連通。在基塊340中形成有V字形的塊狀 流路332并且該塊狀流路332之間設置有間隔地，閥塊320A 320D的各塊狀流路331和 基塊340的塊狀流路332進行直列式連接而構成一條載氣流路321。因此，根據(jù)專利文獻1記載的供氣單元311，因為載氣流路321的截面形狀和橫截 面積基本一定，所以能夠抑制載氣流路321中流通的載氣的壓力發(fā)生急劇變化，并能抑制 紊流的產(chǎn)生。專利文獻1 國際公開第2004/036099號。

發(fā)明內容
但是，專利文獻1中所記載的結構為各閥塊320A 320D的塊狀流路331和基塊 340的塊狀流路332分別形成為V字形，且這些塊狀流路331、332相互連接，所以載氣流路 321呈在多處彎曲的復雜形狀。因此，有可能會妨礙載氣順利地流通。另外，處理氣體輸入端口 322s設于與配置有開閉閥350的側面部335a垂直的側 面部335c上，所以需要在閥塊320A 320D的側面上確保設置處理氣體輸入端口 322s所 需的空間。在此，可以考慮將處理氣體流路322延伸至與所述側面部335a平行的側面部 335b后使其開口，但在此種情況下將產(chǎn)生載氣流路321和處理氣體流路322A (用雙點劃線 表示)之間會相互干擾的問題。因此，很難縮小閥塊320A 320D的寬度(圖8中左右方 向上的長度)，難以并行排列供氣單元311以進行高集成化。本發(fā)明是鑒于上述實際情況而提出的，其主要目的在于提供一種供氣單元，該供 氣單元能夠使載氣(吹掃氣體(purge gas))順利流通并能夠縮小設置有多個開閉閥的塊 的寬度。 為解決上述課題采用以下方法。
本發(fā)明第一方面提供一種供氣單元，該供氣單元包括內部設有流路的流路塊，所 述流路包括主流路和多個分別與所述主流路連通的副流路，每個所述副流路都包括開閉 閥，所述開閉閥使對應的所述副流路和所述主流路隔斷以及連通，其特征在于，所述流路塊 形成為呈長條狀延伸的長方體狀，且包括搭載所述開閉閥的閥搭載面以及副流路開口面， 其中，所述副流路在所述副流路開口面形成有開口，所述閥搭載面和所述副流路開口面位 于相反的兩側，所述開閉閥沿著所述閥搭載面的長度方向進行直列式設置，所述開閉閥的 各閥室設于所述閥搭載面，所述副流路與所述閥室連通，在所述流路塊內部設有連接所述 主流路和所述閥室的連接流路，所述連接流路與所述閥室的大致中央連通且向背離所述閥 搭載面的方向延伸，所述主流路形成得比所述連接流路粗且沿著所述閥搭載面的長度方向 呈直線狀延伸，并且，在所述流路塊中，所述主流路設置在關于所述閥搭載面的寬度方向從 所述閥室的中央偏向一側的部分處；在所述流路塊中，所述副流路在關于所述閥搭載面的 寬度方向從所述閥室的中央偏向與所述主流路相反的一側的部分中通過。根據(jù)上述構成，因為主流路形成得比所述連接流路粗且沿所述閥搭載面的長度方 向呈直線狀延伸，所以可以減小載氣(吹掃氣體)在主流路中流通時的阻力，并能夠抑制載 氣的紊流。因此，載氣能夠在主流路中順利流通。其結果，在主流路中流通載氣的情況下， 能夠快速運輸處理氣體。另外，在主流路中流通吹掃氣體的情況下，能夠將處理氣體快速更 換為吹掃氣體。在所述流路塊中，主流路設置在關于搭載開閉閥的閥搭載面的寬度方向從所述閥 室的中央偏向一側的部分中，所以能夠在與設置有主流路的部分相反一側的部分確保用于 設置其他流路所需的體積(空間)。在此，因為主流路形成得比連接流路粗，所以，即使將主 流路設置在關于閥搭載面的寬度方向從所述閥室的中央偏向一側的部分處，也易于確保主 流路和連接流路之間的連接。而且，因為副流路的開口形成在與所述閥搭載面相反一側的副流路開口面，所以 無需在從寬度方向夾持閥搭載面的兩側面設置處理氣體的輸入端口。在此，因為在所述流 路塊中副流路在關于所述閥搭載面的寬度方向從所述閥室的中央偏向與所述主流路相反 的一側的部分中通過，即，在與設置主流路的部分相反的一側用于設置流路的部分中通過， 所以易于在流路塊中在閥搭載面的寬度范圍內設置副流路。因此，能夠縮小流路塊的寬度， 進而能夠使包含多個供氣單元的供氣裝置高度集成化。為了盡量縮小供氣單元的寬度，在這樣的流路塊中將閥搭載面和副流路開口面的 寬度限制為所需最低限度的寬度是很常見的。對此，采用以下本發(fā)明第2 第4任一方面 的構成是很有效的。本發(fā)明第2方面在于，在本發(fā)明第1方面中，所述副流路中從所述主流路旁側通過 的部分形成得比其他部分細，所以易于在流路塊中設置副流路使其不會干擾主流路。因此， 能夠縮小流路塊的寬度。本發(fā)明第3方面在于，在本發(fā)明第1或第2方面中，所述連接流路垂直于所述閥搭 載面進行延伸，所以能夠縮小流路塊的寬度，且能夠易于對閥室和連接流路之間的連接部 (例如設于閥室的閥座)進行加工。而且，在所述流路塊中副流路在關于所述閥搭載面的寬度方向從所述閥室的中央 偏向與所述主流路相反的一側的部分中通過，在這種情況下，如果副流路的開口形成在副流路開口面的靠寬度方向一端的位置處，可能就難以充分確保設置副流路所需的寬度。對于這一點，本發(fā)明第4方面在于，在本發(fā)明第1 第3任一方面中，所述副流路 的開口形成在所述副流路開口面的寬度方向的中央處，所以即使流路塊的寬度受限制的情 況下，也能夠充分確保設置副流路所需的寬度。本發(fā)明第5方面在于，在本發(fā)明第1 第4任一方面中，在所述流路塊中在從寬 度方向夾持所述閥搭載面的兩側面設有加熱器，所以，主流路到加熱器之間的距離變短，并 且，副流路到加熱器之間的距離也變短，其中，所述主流路設置在關于閥搭載面的寬度方向 從閥室的中央偏向一側的部分處，所述副流路在關于閥搭載面的寬度方向從閥室的中央偏 向與主流路相反的一側的部分中通過。因此，能夠有效地加熱在主流路和副流路中通過的 氣體。如上所述，在本發(fā)明的供氣單元中，不需要在從寬度方向夾持閥搭載面的兩側面 設置處理氣體的輸入端口。因此，如本發(fā)明第6方面那樣，包括多個本發(fā)明第1 第5任一 方面所述的供氣單元，所述供氣單元并行排列使得從寬度方向夾持所述閥搭載面的兩側面 相互抵接，由此能夠縮小各供氣單元的寬度，并能夠省略供氣單元之間的間隙。所以能夠使 供氣裝置高度集成化。


圖1是本發(fā)明的供氣單元的平面圖。
圖2是圖1的2-2線的截面圖。
圖3是圖1的3-3線的截面圖。
圖4是表示載氣流路的變形例的截面圖。
圖5是表示供氣單元的變形例的截面圖。
圖6是現(xiàn)有供氣單元的平面圖。
圖7圖6的7-7線的截面圖。
圖8是6的8-8線的截面圖。
附圖標記說明
20流路塊
20a作為閥搭載面的頂面
20b作為副流路開口面的底面
21作為主流路的載氣流路
22作為副流路的處理氣體流路
24閥室
26連接流路
具體實施例方式下面參照附圖對具體表現(xiàn)本發(fā)明的一個實施方式進行說明。如圖1所示，供氣裝置10包括多個相同結構的供氣單元11。這些供氣單元11被 相互固定，作為一個整體被一體化。供氣單元11包括形成為以長條狀延伸的長方體狀的流路塊20和多個開閉閥50(50A)。在流路塊20的頂面20a(閥搭載面)搭載有開閉閥50。開閉閥50沿著頂面20a 的長度方向直列式設置。開閉閥50大致呈圓柱狀。流路塊20的頂面20a的寬度與開閉閥 50呈圓形的頂面的直徑大致相等。而且，開閉閥50處于流路塊20的頂面20a的寬度范圍 內即可，不限于大致圓柱狀的形狀，也可以采用四方柱狀等任意形狀。在流路塊20的頂面20a的寬度方向(與長度方向正交的方向)上，多個供氣單元 11的側面相互抵接。即，多個供氣單元11并列排列，使得在流路塊20中從寬度方向夾持頂 面20a的兩個側面相互抵接。為此，在疊加供氣單元11的方向上，即，在流路塊20的頂面 20a的寬度方向上，在流路塊20彼此之間沒有形成間隙。在流路塊20的頂面20a的長度方向的一個端部設置有載氣(吹掃氣體)的輸出 端口 29。在與輸出端口 29相反一側的端部設置的開閉閥50A變更載氣的流通狀態(tài)，其他的 開閉閥50變更各處理氣體的流通狀態(tài)。接下來，參照圖2、圖3以一個供氣單元11的構成為代表對其進行說明。另外，圖 2是圖1的2-2線的截面圖。圖3表示圖1的3-3線的截面圖，其中省略了開閉閥50。流路塊20的內部設有沿其長度方向(頂面20a的長度方向)直線狀延伸的載氣 流路21(主流路)。載氣流路21形成為具有大致圓形的流路截面，且其粗細(直徑)一定。 具體地，載氣流路21通過用鉆孔機等從流路塊20的長度方向的端面20d進行加工來形成。 此外，其加工孔通過栓31進行關閉。載氣流路21的與栓31相反一側的端部連接有載氣的 輸出端口 29。流路塊20的內部設有多個分別與載氣流路21連通的處理氣體流路22 (副流 路)。處理氣體流路22(22A)的開口形成在流路塊20的底面20b (副流路開口面)。處理 氣體流路22的開口形成在底面20b的寬度方向(圖3的左右方向)的中央。S卩，以虛擬平 面F為中心均等地配置處理氣體流路22的開口部，該虛擬平面F將流路塊20在寬度方向 上二等分。在流路塊20的頂面20a上，沿著流路塊20的長度方向(頂面20a的長度方向) 以預定間隔設有上述開閉閥50的閥室24。上述各處理氣體流路22與各閥室24連通。艮口， 對每一個處理氣體流路22設置有開閉閥50。閥室24沿載氣流路21延伸的方向以預定間隔設置，且設置在流路塊20的寬度方 向(流路塊20的頂面20a的寬度方向)的中央。閥室24形成為大致圓形的凹部。并且， 為了縮小流路塊20的寬度，沿著流路塊20的寬度方向的大致整個長度設置閥室24。換言 之，流路塊20的寬度設定為與閥室24的直徑基本相等或比閥室24的直徑稍寬。閥室24的中央設有閥座24a，開閉閥50的閥體51可與該閥座24a抵接或脫離。 閥座24a形成為大致圓環(huán)狀的突部。閥室24的中央即由閥座24a包圍的部分與連接流路 26連通。在流路塊20內，連接流路26在背離流路塊20的頂面20a的方向上延伸并連接到 上述載氣流路21。即，連接流路26連接閥室24和載氣流路21。因此，上述處理氣體流路 22通過閥室24及連接流路26連接到載氣流路21。為了盡量縮短在隔斷處理氣體后形成死腔(dead space)的連接流路26，將載氣 流路21設置在閥室24附近。連接流路26從流路塊20的頂面20a垂直地延伸并連接到載 氣流路21。具體地，關于頂面20a的寬度方向，連接流路26連接到載氣流路21的端部附 近。此外，連接流路26配置于流路塊20的寬度方向的中央。因此，流路塊20中多個連接 流路26的中心軸線位于虛擬平面F上，該虛擬平面F將流路塊20在寬度方向上二等分。
6
載氣流路21被形成得比連接流路26及處理氣體流路22粗。因此，即使是載氣流 路21在流路塊20的長度方向上呈直線狀延伸的結構，也能較為容易地進行加工。
開閉閥50是電磁驅動式閥，通過對線圈52的通電控制，對閥體51進行往復驅動。 此外，通過使閥體51抵接或脫離被設于閥室24的閥座24a，來阻斷或連通閥室24和連接流 路26。另外，開閉閥50并不限于電磁驅動式閥，也可以采用氣動式閥或壓電元件驅動式閥 等任意結構的閥。這里，載氣流路21設置在關于流路塊20的寬度方向從閥室24的中央偏向一側的 部分、即，偏離虛擬平面F的部分處。即，載氣流路21的中心軸線偏離虛擬平面F，載氣流路 21偏離流路塊20的寬度方向的中央。換言之，在流路塊20中，載氣流路21的配置位置靠 近兩個側面20c中的一個側面，該兩個側面20c在寬度方向上夾持頂面20a。因此，在流路 塊20中，能夠在與設有載氣流路21的部分相反一側的部分確保用于配置其他流路的體積 (空間)。此外，在能夠與從閥室24的中央垂直于頂面20a延伸的連接流路26連接的范圍 內，載氣流路21在流路塊20的寬度方向上從閥室24的中央偏向一側。此外，對載氣流路 21的流路截面積(直徑)進行設定，使得能夠在氣體供給單元11中使所需量的載氣流通。此外，通過將載氣流路21設置為偏離于虛擬平面F，能使處理氣體流路22在相反 側所確保的部分中通過。在流路塊20中，處理氣體流路22在從虛擬平面F偏向與載氣流 路21相反一側的部分中通過后連接到上述閥室24。因此，無需在與設有開閉閥50(閥室 24)的頂面20a垂直的側面20c設置處理氣體的輸入端口。處理氣體流路22包括相對于流路塊20的頂面20a垂直延伸的垂直部分22b。并 且，該垂直部分22b通過載氣流路21的旁側。因此，流路塊20內，能夠設置垂直部分22b以 使載氣流路21和側面20c之間的間隔保持一定。在處理氣體流路22中，通過載氣流路21 旁側的垂直部分22b比其他部分即傾斜部分22a細。根據(jù)這種結構，即使在流路塊20的寬 度受限制的情況下，也易于在流路塊20內設置處理氣體流路22 (垂直部分22b)使其不干 擾載氣流路21。此外，處理氣體流路22在流路塊20的底面20b的寬度方向的中央形成開 口，且彎曲以避開載氣流路21并連接到閥室24。在上述構成的供氣單元11中，在多個處理氣體流路22中，在流路塊20的長度方 向的與載氣(吹掃氣體)的輸出端口 29相反一側的端部設置的氣體處理流路22A被用作 載氣的流路。而且，通過與該處理氣體流路20A對應的開閉閥50A使載氣隔斷及流通。在 其他的氣體處理流路22中供應各處理氣體，通過各自所對應的開閉閥使各處理氣體隔斷 及流通。另外，由并行排列的供氣單元11構成供氣裝置10，作為整體對載氣和處理氣體的 流通狀態(tài)進行控制。另外，在載氣流路21中也可以不流通載氣，而是將載氣流路21用作處 理氣體及吹掃氣體的流路。以上詳細描述的本實施方式具有以下優(yōu)點。因為載氣流路21被形成得比連接流路26粗且沿著流路塊20的長度方向(頂面 20a的長度方向)呈直線狀延伸，所以可以減小載氣在載氣流路21中流通時的阻力，并能夠 抑制載氣的紊流。為此，能夠使得載氣在載氣流路21中順利地流通。其結果，在載氣流路 21中流通載氣的情況下，能夠快速輸送處理氣體。另外，在載氣流路21中流通吹掃氣體的 情況下，能夠將處理氣體快速更換為吹掃氣體。在流路塊20中，載氣流路21設置在頂面20a的寬度方向上從閥室24的中央偏向一側的部分，即，設置在偏離虛擬平面F的部分處，其中，在頂面20a上搭載有開閉閥50，虛 擬平面F將流路塊20在寬度方向上二等分。因此，能夠在與設有載氣流路21的部分相反 一側的部分確保用于配設其他流路的體積(空間)。這里，由于載氣流路21被形成得比連 接流路26粗，因此，即使在偏離虛擬平面F的部分處設置有載氣流路21，也易于確保載氣流 路21和連接流路26之間的連接。而且，因為處理氣體流路22的開口形成在與頂面20a相反一側的底面20b，其中， 頂面20a設有開閉閥50的閥室24，所以，無需在從寬度方向夾持頂面20a的兩的側面20c、 即，垂直于頂面20a的側面20c設置處理氣體的輸入端口。在此，在流路塊20中，處理氣體 流路22通過從虛擬平面F偏向與載氣流路21相反一側的部分后，S卩，通過與配置有載氣流 路21的部分相反一側用于設置其他流路的部分后連接到閥室24，所以，易于在流路塊20的 寬度范圍內設置處理氣體流路22。因此，能夠縮小流路塊20的寬度，進而能夠將包含多個 供氣單元11的供氣裝置10高度集成化。為了盡量減小供氣單元11的寬度，在流路塊20中將頂面20a和底面20b的寬度 限定為所需最低限度的寬度。對此，以下的構成是有效的。在處理氣體流路中，從載氣流路21的旁側通過的垂直部分22b被形成得比其他部 分即傾斜部分22a細，所以易于設置處理氣體流路22使得不會在流路塊20中干擾載氣流 路21。因此，能夠縮小流路塊20的寬度。因為連接流路26垂直于流路塊20的頂面20a延伸，因此能夠縮小流路塊20的寬 度，且易于對閥室24和連接流路26的連接部即閥座24a進行加工。而且，在流路塊20中，處理氣體流路22在關于頂面20a的寬度方向從閥室24的 中央偏向與載氣流路21相反的一側的部分中通過，在這種情況下，如果處理氣體流路22的 開口形成在底面20b的靠寬度方向一端的位置處，可能就難以充分確保設置處理氣體流路 22所需的寬度。對于這一點，由于處理氣體流路22在流路塊20的底面20a的流路塊20寬度方向 的中央形成開口，因此，即使在流路塊20的寬度受限制的情況下，也能夠充分確保用于設 置處理氣體流路22所需的寬度。在供氣單元11中，無需在與設有開閉閥50 (閥室24)的頂面20a垂直的側面20c 設置處理氣體的輸入端口。并且，供氣裝置包括多個供氣單元11，且供氣單元11并行排列 使得從寬度方向夾持頂面20a的兩個側面20c相互抵接。為此，能夠縮小各供氣單元11的 寬度，并能夠省略各供氣單元11之間的間隙。其結果，能夠將供氣裝置10高度集成化。本發(fā)明不限于所述實施方式，例如還可以如下實施。處理氣體流路22的開口形成在流路塊20的底面20b在寬度方向的中央處，且彎 折以避開載氣流路21并連接到閥室24。但是，如果載氣流路21和處理氣體流路22不相互 干擾，也可以設置從底面20b沿傾斜方向延伸到閥室24的直線狀的處理氣體流路。并且， 還可以使處理氣體流路的粗細一定。在圖2中，在流路塊20的長度方向的端部設置有堵住載氣流路21上游側的端部 的栓31，但是也可使載氣從該開口流入，以代替設置該栓31。在此情況下，使處理氣體從處 理氣體流路22k流入，開閉閥50A使處理氣體隔斷及連通。另外，改變載氣流通狀態(tài)的開閉 閥與供氣單元11另行設置即可。另外，在載氣流路21下游側的端部設置有在流路塊20的頂面20a處開口的輸出端口 29，但也可以使載氣流路21的下游側延伸至流路塊20的端部 后形成開口。如圖4所示，還可通過設置于流路塊120的側面120c的槽122和設置于槽開口處 的蓋123形成載氣流路121。根據(jù)這樣的構成，與圖3所示需要在流路塊20的側面20c附 近確保形成載氣流路21的內壁的厚度的情況不同，即使在流路塊120的寬度受限制的情況 下，也易于在流路塊120的寬度方向上確保載氣流路121的寬度(槽122的深度)。如圖5所示，也可以在與虛擬平面F相向的側面20c上設置加熱器70A、70B，該虛 擬平面F將流路塊20在寬度方向上二等分。在此情況下，載氣流路21到加熱器70A之間 的距離變短，并且處理氣體流路22到加熱器70B之間的距離也變短，其中，載氣流路21設 置在偏離虛擬平面F的部分處，處理氣體流路22通過由虛擬平面F偏向與載氣流路21相 反一側的部分。因此，能夠有效地加熱載氣流路21及處理氣體流路22中流通的氣體。而 且，如圖5所示，通過將加熱器70A、70B形成為沿流路塊20的長度方向延伸的薄板狀或薄 膜狀，能夠抑制供氣單元11的寬度擴大。另外，在多個供氣單元11并行排列以構成供氣裝 置10的情況下，在加熱器70A被夾于相鄰的流路塊20之間的狀態(tài)下，通過采用使相鄰的流 路塊20 —體化的構成，能夠通過一個加熱器70A加熱相鄰的兩個流路塊20。另外，在此情 況下只設置加熱器70A或加熱器70B。流路塊20被形成為縱長大于橫寬的長方體狀，但也可以采用橫寬和縱長相等的 方形柱狀的流路塊。在圖1中，也可以通過將多個供氣單元11的輸出端口 29連接來組合多個供氣單 元11從而控制氣體的種類和流量。
權利要求
供氣單元，包括內部設置有流路的流路塊，所述流路包括主流路以及多個分別與所述主流路連通的副流路，每個所述副流路具有開閉閥，所述開閉閥使對應的所述副流路和所述主流路隔斷及連通，其特征在于，所述流路塊形成為呈長條狀延伸的長方體狀，并具有搭載所述開閉閥的閥搭載面以及副流路開口面，其中，所述副流路在所述副流路開口面形成有開口，所述閥搭載面和所述副流路開口面位于相反的兩側，所述開閉閥沿所述閥搭載面的長度方向進行直列式設置，所述開閉閥的各閥室設于所述閥搭載面，所述副流路與所述閥室連通，所述流路塊的內部設有連接所述主流路和所述閥室的連接流路，所述連接流路與所述閥室的大致中央連通且向背離所述閥搭載面的方向延伸，所述主流路形成得比所述連接流路粗并沿所述閥搭載面的長度方向呈直線狀延伸，并且，在所述流路塊中，所述主流路設置在關于所述閥搭載面的寬度方向從所述閥室的中央偏向一側的部分中，在所述流路塊中，所述副流路在關于所述閥搭載面的寬度方向從所述閥室的中央偏向與所述主流路相反的一側的部分中通過。
2.根據(jù)權利要求1所述的供氣單元，其特征在于，所述副流路中從所述主流路的旁側 通過的部分比其他部分細。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的供氣單元，其特征在于，所述連接流路相對于所述閥搭載 面垂直延伸。
4.根據(jù)權利要求1 3的任意一項所述的供氣單元，其特征在于，所述副流路在所述副 流路開口面的寬度方向的中央形成開口。
5.根據(jù)權利要求1 4的任意一項所述的供氣單元，其特征在于，在所述流路塊中，在 寬度方向上夾持所述閥搭載面的兩個側面設有加熱器。
6.供氣裝置，其特征在于，包括多個權利要求1 5的任意一項所述的供氣單元，所述供氣單元并列設置使得在 寬度方向上夾持閥搭載面的兩個側面相互抵接。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠使載氣(吹掃氣體)順利通過且能夠縮小設置有多個開閉閥的塊的寬度的供氣單元。在供氣單元中，閥室(24)沿流路塊(20)的長度方向以預定的間隔設于流路塊(20)的頂面(20a)，連接流路(26)與閥室(24)的大致中央連接并向背離頂面(20a)的方向延伸。載氣流路(21)形成為比連接流路(26)粗，且沿流路塊(20)的長度方向直線狀延伸，并且設置于偏離虛擬平面F的部分處，其中，虛擬平面在寬度方向上將流路塊(20)二等分。處理氣體流路(22)在與頂面(20a)相反側的底面(20b)開口，且在流路塊(20)中通過從虛擬平面F偏向與載氣流路(21)相反一側的部分后與閥室(24)連接。
文檔編號H01L21/00GK101937834SQ201010211499
公開日2011年1月5日 申請日期2010年6月23日 優(yōu)先權日2009年6月30日
發(fā)明者三輪敏一, 井上貴史, 加藤啟介, 西田成伸 申請人:Ckd株式會社