技術總結
提供離子性熱酸產生劑，其具有以下通式(I)：其中：Ar1表示任選經取代的碳環(huán)或雜環(huán)芳香族基團；W獨立地表示選自羧基、羥基、硝基、氰基、C1?5烷氧基和甲酰基的基團；X為陽離子；Y獨立地表示鍵聯(lián)基團；Z獨立地表示選自羥基、氟化醇、酯、任選經取代的烷基、C5或更高碳的任選經取代的單環(huán)、多環(huán)、稠合多環(huán)環(huán)脂肪族、或芳基的基團，其可任選地包含雜原子，其限制條件為Z的至少一次出現(xiàn)為羥基；a為0或更大的整數；b為1或更大的整數；其限制條件為a+b為至少1且不超過所述芳香族基團的可用芳香族碳原子的總數。此外提供光致抗蝕劑圖案修整組合物以及使用所述修整組合物修整光致抗蝕劑圖案的方法。所述熱酸產生劑、組合物和方法尤其適用于制造半導體裝置。

技術研發(fā)人員：I·考爾;劉驄;K·羅威爾;G·波勒爾斯;李明琦
受保護的技術使用者：羅門哈斯電子材料有限責任公司
文檔號碼：201610916348
技術研發(fā)日：2016.10.20
技術公布日：2017.05.10