組合物、圖案的形成方法、晶粒及顯示裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種負(fù)型感光性樹脂組合物、圖案的形成方法、金屬圖案的形成方法、發(fā)光二極管晶粒的制造方法以及有機(jī)發(fā)光顯示裝置的制造方法，負(fù)型感光性樹脂組合物包括酚醛清漆樹脂(A)、光酸產(chǎn)生劑(B)、堿性化合物(C)、交聯(lián)劑(D)以及溶劑(E)。酚醛清漆樹脂(A)包括羥基型酚醛清漆樹脂(A-1)與二甲酚型酚醛清漆樹脂(A-2)。羥基型酚醛清漆樹脂(A-1)是由羥基苯甲醛類化合物與芳香族羥基化合物縮聚而得。二甲酚型酚醛清漆樹脂(A-2)是由醛類化合物與二甲酚類化合物縮聚而得。
【專利說明】組合物、圖案的形成方法、晶粒及顯示裝置的制造方法 【【技術(shù)領(lǐng)域】】
[0001] 本發(fā)明是有關(guān)于一種感光性樹脂組合物及其應(yīng)用，且特別是有關(guān)于一種負(fù)型感光 性樹脂組合物及其應(yīng)用。 【【背景技術(shù)】】
[0002] 近年來，隨著半導(dǎo)體工業(yè)、液晶顯示器（liquidcrystaldisplay,LCD)以及有機(jī) 電激發(fā)光顯不裝置（organicelectro-luminescencedisplaydevice, 0ELD)的發(fā)展，伴隨 而來對于尺寸縮小化的需求，使得微影（photolithography)工藝成為非常重要的議題。在 微影（photolithography)工藝中，必須將所需的光阻圖案（photoresistpattern)微細(xì)化 (finer)，以達(dá)到尺寸縮小化的目的。
[0003] -般而言，在半導(dǎo)體工藝中，金屬圖案（metallicpattern)可以剝離法（lift-off method)來制作。所述剝離法的步驟如下：首先，在基板上形成光阻圖案。接著，在上面形 成有光阻圖案的基板上蒸鍍金屬層。最后，剝離光阻圖案與形成在光阻圖案上的金屬層來 形成金屬圖案。在剝離法中，由于光阻圖案的剖面為逆錐狀（reversedtaperedshape),因 此覆蓋在基板上的金屬層與覆蓋在光阻圖案上的金屬層不連續(xù)，而易于移除。值得一提的 是，上述光阻圖案存在有耐熱性不佳、吸水性高等問題。
[0004] 另一方面，在有機(jī)電激發(fā)光顯示裝置中，通常是以光阻圖案作為在第一電極層上 的隔離壁（spacer)，并且將有機(jī)EL介質(zhì)涂布經(jīng)由隔離壁而暴露出的第一電極層上來形成 像素層。接著，在隔離壁與像素層的整體表面上蒸鍍金屬層來形成位于像素層上的第二電 極層。值得一提的是，由于有機(jī)發(fā)光組件容易受到水份、溶劑等成分破壞，因此希望以吸水 性低的材料作為隔離壁。又，為了除去隔離壁中殘留的水份與溶劑，通常在高溫下對隔離壁 與其它有機(jī)發(fā)光組件進(jìn)行脫氣處理（deaerationtreatment)。然而，隔離壁卻因此變形，而 不利于使用。
[0005]日本特許3320397號揭示一種逆錐狀光阻圖案的形成方法，其是使用雙酚類化合 物來作為負(fù)型感光性樹脂組合物，并且以所述負(fù)型感光性樹脂組合物來形成光阻圖案。如 此一來，便可以蒸鍍方式于光阻圖案上形成金屬圖案，并且所述光阻圖案亦可形成為耐熱 性佳、吸水性低的隔離壁。然而，使用所述負(fù)型感光性樹脂組合物來形成的光阻圖案卻存在 與基板之間剝除性不佳以及不耐蒸鍍工藝的問題。
[0006] 于是，亟需發(fā)展一種負(fù)型感光性樹脂組合物，其適于形成一種與基板之間的剝除 性佳，且耐蒸鍍工藝的光阻圖案。 【
【發(fā)明內(nèi)容】
】
[0007] 本發(fā)明提供一種負(fù)型感光性樹脂組合物，其用于形成一種與基板之間的剝除性 佳，且耐蒸鍍工藝的光阻圖案。
[0008] 本發(fā)明提供一種負(fù)型感光性樹脂組合物，其包括酚醒清漆樹脂（novolacresin) (A)、光酸產(chǎn)生劑（photoacidgenerator)?)、堿性化合物（basiccompound) (C)、交聯(lián) 劑（cross-linkingagent) (D)以及溶劑（E)。酚醒清漆樹脂（A)包括輕基型酚醒清漆 樹脂（hydroxy-typenovolacresin) (A-1)與二甲酌?型酌?醒清漆樹脂（xylenol-type novolacresin) (A-2)。羥基型酚醛清漆樹脂（A-1)是由羥基苯甲醛類化合物 (hydroxybenzaldehydecompound)與芳香方矣輕基化合物（aromatichydroxycompound)縮 聚而得。二甲酚型酚醒清漆樹脂（A-2)是由醒類化合物（aldehydecompound)與二甲酚類 化合物（xylenolcompound)縮聚而得。
[0009] 在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的光酸產(chǎn)生劑（B)可包括鐵鹽化合物（oniumsalt compound)、含齒化合物（halogen-containingcompound)、諷化合物（sulfonecompound)、 橫酸化合物（sulfonicacidcompound)、橫醜亞胺化合物（sulfonimidecompound)或上述 化合物之組合。
[0010] 在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的堿性化合物（C)包括脂肪族伯胺（aliphatic primaryamine)、月旨肪方矣7[中月安（aliphaticsecondaryamine)、月旨肪方矣叔月安（aliphatic tertiaryamine)、胺基醇（aminoalcohol)、芳香族胺（aromaticamine)、季銨氫氧化物 (quaternaryammoniumhydroxide)、脂環(huán)族胺（alicyclicamine)或上述化合物之組合。 [0011] 在本發(fā)明的一實(shí)施例中，其中基于酚醛清漆樹脂（A) 100重量份，光酸產(chǎn)生劑（B) 的使用量為〇. 1至5重量份；堿性化合物（C)的使用量為0. 1至5重量份；交聯(lián)劑（D)的使 用量為5至50重量份；且溶劑（E)的使用量為100至1000重量份。
[0012] 在本發(fā)明的一實(shí)施例中，其中基于羥基型酚醛清漆樹脂（A-1)與二甲酚型酚醛清 漆樹脂（A-2)的總使用量為100重量％，羥基型酚醛清漆樹脂（A-1)的使用量為10重量％ 至80重量％，且二甲酚型酚醛清漆樹脂（A-2)的使用量為90重量％至20重量％。
[0013] 本發(fā)明亦提供一種光阻圖案的形成方法，其包括下述步驟：首先，于基板上，涂布 上述的負(fù)型感光性樹脂組合物。接著，對負(fù)型感光性樹脂組合物進(jìn)行處理步驟，以形成光阻 圖案。
[0014] 在本發(fā)明的一實(shí)施例中，其中上述的光阻圖案為隔離壁。
[0015] 本發(fā)明另提供一種金屬圖案的形成方法，其包括下述步驟：首先，于基板上形成上 述的光阻圖案。接著，于基板上及光阻圖案上形成金屬層。最后，移除光阻圖案與位于光阻 圖案上的金屬層，以形成金屬圖案。
[0016] 本發(fā)明還提供一種發(fā)光二極管晶粒（grain)的制造方法，其包括下述步驟：首先， 于基板上形成半導(dǎo)體層。接著，于半導(dǎo)體層的至少其中一側(cè)形成金屬圖案，以作為電極層， 其中金屬圖案是以上述的方法來形成。
[0017] 本發(fā)明提供一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置的形成方法，其步驟如下：首先，于基板 上形成第一電極層。接著，于基板上涂布上述的負(fù)型感光性樹脂組合物。然后，對負(fù)型感光 性樹脂組合物進(jìn)行處理步驟，以形成隔離壁。接著，于隔離壁所定義的區(qū)域內(nèi)形成有機(jī)層。 最后，于有機(jī)層上形成第二電極層。
[0018] 基于上述，本發(fā)明通過負(fù)型感光性樹脂組合物的酚醛清漆樹脂（A)同時(shí)包括羥基 型酚醛清漆樹脂（A-1)與二甲酚型酚醛清漆樹脂（A-2)，可以有效改善由習(xí)知負(fù)型感光性 樹脂組合物作為光阻圖案時(shí)，光阻圖案與基板之間的剝除性不佳以及光阻圖案不耐蒸鍍工 藝的問題。
[0019] 為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉實(shí)施例，并詳細(xì)說明如下。
[0020] 【圖式簡單說明】
[0021] 圖1A至圖1C是依照本發(fā)明的一實(shí)施例的一種發(fā)光二極管晶粒的制作方法的示意 圖。
[0022] 圖2A至圖2C是依照本發(fā)明的一實(shí)施例的一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置的制作方 法的示意圖。
[0023] 【符號說明】
[0024] 100 :發(fā)光二極管晶粒
[0025] 110、210:基板
[0026] 120 :半導(dǎo)體層
[0027] 120a:N型半導(dǎo)體層
[0028] 120b :主動(dòng)層
[0029] l2〇c:P型半導(dǎo)體層
[0030] 130 :光阻圖案
[0031] 140:金屬層
[0032] 140a:金屬圖案
[0033] 142、220 :第一電極層
[0034] 144、250 :第二電極層
[0035] 200 :有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置
[0036] 230:隔離壁
[0037] 240 :有機(jī)層
[0038] 【實(shí)施方式】
[0039] 〈負(fù)型感光性樹脂組合物的制備〉
[0040] 本發(fā)明提供一種負(fù)型感光性樹脂組合物，其包括酚醛清漆樹脂（A)、光酸產(chǎn)生劑 (B)、堿性化合物（C)、交聯(lián)劑（D)以及溶劑（E)。此外，若需要，負(fù)型感光性樹脂組合物可進(jìn) 一步包括添加劑（F)。以下將詳細(xì)說明用于本發(fā)明的負(fù)型感光性樹脂組合物的各個(gè)成分。
[0041] 酚醛清漆樹脂（A)
[0042] 酚醛清漆樹脂（A)包括羥基型酚醛清漆樹脂（A-1)與二甲酚型酚醛清漆樹脂 (A-2)。
[0043] 羥基型酚醛清漆樹脂（A-1)
[0044] 羥基型酚醛清漆樹脂（A-1)是由羥基苯甲醛類化合物與芳香族羥基化合物在酸 性催化劑（acidiccatalyst)存在下經(jīng)縮合反應(yīng)而得。
[0045] 羥基苯甲醛類化合物的具體例包括：鄰-羥基苯甲醛、間-羥基苯甲醛及對-羥 基苯甲醒或其類似物的輕基苯甲醒化合物（hydroxybenzaldehydecompound) ;2, 3_二 羥基苯甲醛、2, 4-二羥基苯甲醛、2, 5-二羥基苯甲醛、3, 4-二羥基苯甲醛及3, 5-二羥 基苯甲醒或其類似物的二輕基苯甲醒化合物（dihydroxybenzaldehydecompound); 2, 3, 4-三羥基苯甲醛、2, 4, 5-三羥基苯甲醛、2, 4, 6-三羥基苯甲醛、3, 4, 5-三羥基苯甲 醒或其類似物的三輕基苯甲醒化合物（trihydroxybenzaldehydecompound);鄰-輕甲 基苯甲醛、間-羥甲基苯甲醛、對-羥甲基苯甲醛或其類似物的羥基烷基苯甲醛化合物 (hydroxyalkylbenzaldehydecompound)，或上述化合物之組合。輕基苯甲醒類化合物可單 獨(dú)使用或組合多種來使用。羥基苯甲醛類化合物較佳為鄰-羥基苯甲醛、間-羥基苯甲醛、 對-羥基苯甲醛、2, 3-二羥基苯甲醛、2, 4-二羥基苯甲醛、3, 4-二羥基苯甲醛、2, 3, 4-三羥 基苯甲醛或鄰-羥甲基苯甲醛。
[0046] 芳香族輕基化合物的具體例包括：苯酚（phenol);間-甲酚（m-cresol)、 對-甲酚（P_cresol)、鄰-甲酚（o-cresol)或其類似物的甲酚（cresol)類；2, 3_二 甲苯酌?（2, 3-dimethylphenol)、2, 5_ 二甲苯酌?（2, 5-dimethylphenol)、3, 5_ 二甲苯 酷（3,5-(1;[11161:1171卩1161101)、3,4-二甲苯酌'(3,4-(1;[11161:1171卩1161101)或其類似物的二甲酌' (xylenol)類；間-乙基苯酚、對-乙基苯酚、鄰-乙基苯酚、2, 3, 5-三甲基苯酚、2, 3, 5-三 乙基苯酚、4-叔丁基苯酚、3-叔丁基苯酚、2-叔丁基苯酚、2-叔丁基-4-甲基苯酚、2-叔 丁基-5-甲基苯酚、6-叔丁基-3-甲基苯酚或其類似物的燒基苯酚（alkylphenol)類； 對-甲氧基苯酚、間-甲氧基苯酚、對-乙氧基苯酚、間-乙氧基苯酚、對-丙氧基苯酚、 間-丙氧基苯酚或其類似物的燒氧基苯酚（alkoxyphenol)類；鄰-異丙烯基苯酚、對-異 丙烯基苯酚、2-甲基-4-異丙烯基苯酚、2-乙基-4-異丙烯基苯酚或其類似物的異丙烯基 苯酌?（isopropenylphenol)類；苯基苯酌?（phenylphenol)的芳基苯酌?（arylphenol) 類；4,4'_ 二輕基聯(lián)苯（4,4'-dihydroxybiphenyl)、雙酌?AODisphenolA)、間-苯二酌? (resorcinol)、對-苯二酚（hydroquinone)、1,2, 3_ 苯三酚（pyrogallol)或其類似物的多 輕基苯（polyhydroxyphenol)類,或上述化合物之組合。芳香族輕基化合物可單獨(dú)使用或 組合多種來使用。芳香族羥基化合物較佳為鄰-甲酚、間-甲酚、對-甲酚、2, 5-二甲苯酚、 3, 5-二甲苯酚或2, 3, 5-三甲基苯酚。
[0047]酸性催化劑的具體例包括：鹽酸（hydrochloricacid)、硫酸（sulfuric acid)、甲酸（methanoicacid)、醋酸（aceticacid)、草酸（oxalicacid)、對甲苯橫酸 (p-toluenesulfonicacid)或其類似物，或上述化合物之組合。
[0048] 二甲酚型酚醛清漆樹脂（A-2)
[0049] 二甲酚型酚醛清漆樹脂（A-2)是由醛類化合物與二甲酚類化合物在的酸性催化 劑存在下經(jīng)縮合反應(yīng)而得，其中酸性催化劑可使用如合成羥基型酚醛清漆樹脂（A-1)所使 用的酸性催化劑。
[0050]醒類化合物的具體例包括：甲醒（formaldehyde)、多聚甲醒 (paraformaldehyde)、三聚甲醒（trioxane)、乙醒、丙醒、丁醒、三甲基乙醒、丙烯醒 (acrolein)、丁烯醒（crotonaldehyde)、環(huán)己醒（cyclohexanecarbaldehyde)、呋喃甲 醒（furfural)、呋喃基丙烯醒（furylacrolein)、苯甲醒（benzaldehyde)、對苯二甲 醒（terephthalaldehyde)、苯乙醒、a-苯基丙醒、0 -苯基丙醒、鄰-甲基苯甲醒、 間-甲基苯甲醛、對-甲基苯甲醛、鄰-氯苯甲醛、間-氯苯甲醛、對-氯苯甲醛、肉桂醛 (cinnamaldehyde)或其類似物，或上述化合物之組合。醒類可單獨(dú)使用或組合多種來使用。 醛類化合物較佳為甲醛或苯甲醛。
[0051] 二甲酚類化合物的具體例包括：2, 3-二甲苯酚、2, 5-二甲苯酚、3, 5-二甲苯酚、 3, 4-二甲苯酚或上述化合物之組合。
[0052] 基于羥基型酚醛清漆樹脂（A-1)與二甲酚型酚醛清漆樹脂（A-2)的總使用量為 100重量％，羥基型酚醛清漆樹脂（A-1)的使用量為10重量％至80重量％ ;且二甲酚型酚 醛清漆樹脂（A-2)的使用量為90重量％至20重量％。較佳地，羥基型酚醛清漆樹脂（A-1) 的使用量為15重量％至85重量％;且二甲酚型酚醛清漆樹脂（A-2)的使用量為85重量％ 至15重量％。更佳地，羥基型酚醛清漆樹脂（A-1)的使用量為20重量％至80重量％ ;且 二甲酚型酚醛清漆樹脂（A-2)的使用量為80重量％至20重量％。
[0053] 值得一提的是，由于包括羥基型酚醛清漆樹脂（A-1)之負(fù)型感光性樹脂組合物所 形成的光阻圖案與基板之間剝除性較佳，而包括二甲酚型酚醛清漆樹脂（A-2)之負(fù)型感光 性樹脂組合物所形成的光阻圖案，其耐蒸鍍工藝的程度較佳。因此，若負(fù)型感光性樹脂組合 物不使用羥基型酚醛清漆樹脂（A-1)或二甲酚型酚醛清漆樹脂（A-2)，則所得之負(fù)型感光 性樹脂組合物所形成的光阻圖案具有剝除性不佳與不耐蒸鍍工藝的問題。
[0054] 在可達(dá)到前述目的的前提下，本發(fā)明的負(fù)型感光性樹脂組合物的酚醛清漆樹脂 (A) 可進(jìn)一步包括其它酚醛清漆樹脂（A-3)。其它酚醛清漆樹脂（A-3)是由醛類化合物與 芳香族羥基化合物在上述的酸性催化劑存在下經(jīng)縮合反應(yīng)而得。醛類化合物與芳香族羥基 化合物如上述所列舉的化合物，但其它酚醛清漆樹脂（A-3)的結(jié)構(gòu)與上述的羥基型酚醛清 漆樹脂（A-1)及二甲酚型酚醛清漆樹脂（A-2)的結(jié)構(gòu)不同。其它酚醛清漆樹脂（A-3)可單 獨(dú)使用或組合多種來使用。
[0055] 光酸產(chǎn)生劑（B)
[0056] 光酸產(chǎn)生劑（B)是一種照射光之后可產(chǎn)生酸的化合物。在本發(fā)明中，光酸產(chǎn)生劑 (B) 作為酚醛清漆樹脂（A)與下述交聯(lián)劑（D)進(jìn)行聚合反應(yīng)的催化劑。具體而言，光酸產(chǎn)生 劑（B)例如是鎗鹽化合物、含齒化合物、砜化合物、磺酸化合物、磺酰亞胺化合物或上述化 合物的組合。
[0057] 鐵鹽化合物例如是碘鹽（iodoniumsalt)、琉鹽（sulfoniumsalt)、 鱗鹽(phosphoniumsalt)、重氮鹽(diazoniumsalt)、批P定鹽(pyridinium salt)或其類似物。鎗鹽化合物的具體例包括二苯基碘三氟甲烷磺酸 鹽(diphenyliodoniumtrifluoromethanesulfonate)、 二 苯基碘 對甲苯 橫酸鹽（diphenyliodoniump-toluenesulfonate)、二苯基碘六氟鋪酸鹽 (diphenyliodoniumhexafluoroantimonate)、二苯基碘六氟憐酸鹽（diphenyliodonium hexafluorophosphate)、二苯基碘四氟硼酸鹽（diphenyliodoniumtetrafluoroborate) > 三苯基琉三氟甲燒石黃酸鹽（triphenylsulfoniumtrifluoromethanesulfonate)、三苯 基琉對甲苯磺酸鹽（triphenylsulfoniump-toluenesulfonate)、三苯基琉六氟鋪酸鹽 (triphenylsulfoniumhexafluoroantimonate)、4_ 叔丁基苯基二苯基琉三氟甲燒橫酸鹽 (4-t-butylphenyldiphenylsulfoniumtrifluoromethanesulfonate)、4_ 叔丁基苯基二苯 基琉對甲苯橫酸鹽（4-t_butylphenyldiphenylsulfoniump-toluenesulfonate)、4, 7_ 二 正丁氧基萘基四氫噻吩鐵三氟甲燒磺酸鹽（4, 7-di-n-butoxynaphthyltetrahydrothiophe niumtrifluoromethanesulfonate)或上述化合物之組合。
[0058] 此外，鎗鹽化合物也可以是環(huán)己基甲基（2-側(cè)氧基環(huán)己基）锍三氟甲烷磺酸鹽（ cyclohexylmethyl(2-oxocyclohexyl)sulfoniumtrifluoromethanesulfonate)、二環(huán)己 基（2_側(cè)氧基環(huán)己基）琉三氟甲燒橫酸鹽（dicyclohexyl(2-oxocyclohexyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate)、（2-側(cè)氧基環(huán)己基）（2-降冰片燒基）琉三氟甲燒磺酸鹽 (2-oxocyclohexyl) (2-norbornyl)sulfoniumtrifluoromethanesulfonate)、2_ 環(huán)己基諷 基環(huán)己麗（2-cyclohexylsulfonylcyclohexanone)、二甲基（2_側(cè)氧基環(huán)己基）琉三氣甲 焼石黃酸鹽（dimethyl(2-oxocyclohexyl)sulfoniumtrifluoromethanesulfonate)、N-輕基 丁二酸亞胺三氟甲焼橫酸鹽（N-hydroxysuccinimidetrifluoromethanesulfonate)、苯 基對甲苯磺酸鹽（phenylp-toluenesulfonate)或上述化合物的組合。
[0059] 含齒化合物例如是含有齒焼基的碳?xì)浠衔铮╤aloalkyl-containing hydrocarboncompound)或含有齒焼基的雜環(huán)化合物（haloalkyl-containing heterocycliccompound)。含鹵化合物的具體例包括1，10-二溴正癸焼 (1，l〇-dibromo_n-decane)、l，1_ 雙（4_ 氯苯基）_2,2,2_ 三氯乙焼（1，l-bis(4_chlorophe nyl)_2, 2, 2-trichloroethane)、苯基-雙（三氯甲基）_s_ 三嗪（phenyl_bis(trichlorom ethyl)-s-triazine)、4_ 甲氧基苯基-雙（三氯甲基）-s-三嗪（4-methoxyphenylbis(tr ichloromethyl)-s_triazine)、苯乙烯基雙（三氯甲基）_s_ 三嗪）（styrylbis(trichlor omethyl)-s_triazine)、萘基雙（三氯甲基）_s_ 三嗪（naphthylbis(trichloromethyl)-s-triazine)、2, 4_雙（三氯甲基）_6_對-甲氧基苯乙烯基-s-三嗪（2, 4_bis(trichloro methyl)-6-p-methoxystyryl-s-triazine，TAZ-110)或類似之s_ 三嗪，或上述化合物之組 合。
[0060] 此外，含鹵化合物也可以是三（2, 3-溴丙基）磷酸酯（tris(2, 3-dibromopropyl) phosphate)、三（2, 3-二溴-3-氯丙基）憐酸酯（tris (2, 3-dibrom〇-3-chloropropyl )phosphate)、四溴氯丁焼（tetrabromochlorobutane)、2_ [2_ (3, 4_ 二甲氧基苯基）乙 烯基]-4, 6_ 雙（三氯甲焼）-S-三嗪（2-[2-(3,4_(1;[1116七11017卩1161171)6七1161171]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine)、2-[2-(4_ 甲氧基苯基）乙烯基]_4, 6_ 雙（三 氯甲焼）_s_ 三嗪(2-[2-(4-methoxypheny) ethenyl]-4, 6~bis(trichloromethyl)-s -triazine)、六氣苯（hexachlorobenzene)、六漠苯（hexabromobenzene)、六漠環(huán)十二 焼（hexabromocyclododecane)、六漠環(huán)十二?。╤exabromocyclododecene)、六漠聯(lián)苯 (hexabromobiphenyl)、丙烯基三溴苯基醚（allyltribromophenyl ether)、四氯雙酷 八（七6奸8。111〇1'〇1318卩11611〇1八）、四溴雙酌^(^6奸&131'0111〇1318卩11611〇1八）、四氯雙酌^的雙（氯 乙基）醚（bis(chloroethyl)ether of tetrachlorobisphenol A)、四溴雙酌'A 的雙（溴乙 基）醚（1^8(131'011106也71)6也61'0：[>七6奸&131'011101318卩1161101六）、雙酌^的雙（2,3-二氯丙 基）醚0^8(2,3-(1；[。11101'0卩1'0卩71)6也61'0：[ >1318卩1161101六）、雙酌^的雙（2,3-二溴丙基） 醚（bis (2, 3-dibromopropyl) ether of bisphenol A)、四氯雙酌'A 的雙（2, 3-二氯丙基）醚 0^8(2,3-(1；[。11101'0卩1'0卩71)6也61'0：[>七6奸&。11101'01318卩1161101六）、四溴雙酌^的雙（2,3-二 溴丙基）醚（bis (2, 3-dibromopropyl) ether of tetrabromobisphenol A)、四氯雙酌'S 的 雙（氯乙基）醚（bis(chloroethyl)ether of the tetrachlorobisphenol S)、四溴雙酷 S(tetrabromobisphenolS)、四氯雙酌?S(tetrachlorobisphenolS)、四溴雙酌?S的雙（溴 乙基）醚0^803!'011106也71)6也61'0：[>七6奸&131'011101318卩11611013)、雙酷3的雙（2,3-二氯丙 基）醚0^8(2,3-(1；[。11101'0卩1'0卩71)6也61'0：[ >也6 1318卩11611013)、雙酷3的雙（2,3-二溴丙 基）醚03丨8(2,3-(1；[(311101'(^1'(^71)6也61'0：[ >也6 1318。11611013)、三（2,3-二溴丙基）三聚 氰酸酯（奸丨8(2,3-(1;[131'0111(^1'(^71)180073而以七6)、2,2-雙（4-輕基-3,5-二溴苯基）丙焼 (2,2-1^8(4-117(11'017-3,5-(1;[131'01110卩1161171)卩1'0卩&116)、2,2-雙（4-(2-輕基乙氧基）-3,5-二 溴苯基）丙焼（2, 2-bis(4-(2_hydroxyethoxy)-3, 5-dibromophenyl)propane)或其類似物 的齒素系阻燃劑（halogenseriesflameretardant)。
[0061]諷化合物例如是0-酮諷化合物（0-ketosulfonecompounds)、諷基化 合物（0-sulfonylsulfonecompounds)或上述這些化合物的a-重氮化合物 (a-diazocompound)。諷化合物的具體例包括4_三苯甲酉先甲基諷（4-trisphenacyl 8111：[>0116)、2,4,6-三甲苯基苯甲酉先甲基諷（11168；^71卩]1611&〇718111：[ >0116)、雙（苯甲酉先甲基 砜基）甲焼（bis(phenacylsulfonyl)methane)或上述化合物之組合。
[0062]磺酸化合物例如是焼基磺酸酯類（alkylsulfonicacidester)、鹵焼基磺酸酯 類（haloalkylsulfonicacidester)、芳基橫酸酯類（arylsulfonicacidester)或亞 胺基磺酸酯類（iminosulfonate)。磺酸化合物的具體例包括安息香甲苯磺酸酯（benzoin tosylate)、五倍子酌?三（三氟甲焼橫酸酯）（pyrogalloltris(trifluoromethanesulfona te))、鄰硝基苯基三氟甲焼橫酸酯（o-nitrobenzyltrifluoromethanesulfonate)、鄰硝基 苯基對甲苯磺酸酯（o-nitrobenzylp-toluenesulfonate)或上述化合物之組合。
[0063] 磺酰亞胺化合物的具體例包括N-(三氟甲基砜基氧基）丁二酰亞胺 (N-(trifluoromethylsulfonyloxy)succinimide)、N_(三氟甲基諷基氧基）酞酸亞胺 (N-(trifluoromethylsulfonyloxy)phthalimide)、N-(三氟甲基諷基氧基）二苯基馬來 酉先亞胺（N_(trifluoromethylsulfonyloxy)diphenylmaleimide)、N-(三氟甲基諷基氧 基）-雙環(huán)[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基亞酸胺（?^-(^1'1：[11101'01116也718111：[ >01171017) bicyclo[2. 2.l]hept-5-ene_2, 3-dicarboxyimide)、N-(三氣甲基諷基氧基）蔡二甲酉先亞 胺（N_(trifluoromethylsulfonyloxy)naphthylimide，NAI_105)或上述化合物之組合。
[0064] 前述之光酸產(chǎn)生劑（B)較佳為2, 4-雙（三氯甲基）_6_對-甲氧基苯乙烯基-s-三 嗪（2, 4-bis(trichloromethyl) -6-p-methoxystyryl-s-triazine，TAZ-110)、N-(三氟甲基 諷基氧基）萘二甲酸亞胺（N_(trifluoromethylsulfonyloxy)naphthylimide，NAI_105)、 三苯基鏡三氟甲焼橫酸鹽（triphenylsulfoniumtrifluoromethanesulfonate)或上述化 合物之組合。
[0065] 基于酚醛清漆樹脂（A)的使用量為100重量份，光酸產(chǎn)生劑（B)的使用量通常為 0. 1至5重量份，較佳為0. 3至5重量份，且更佳為0. 5至4重量份。
[0066] 堿性化合物（C)
[0067] 堿性化合物（C)例如是脂肪族伯胺、脂肪族仲胺、脂肪族叔胺、胺基醇、 芳香族胺、季銨氫氧化物、脂環(huán)族胺或上述化合物之組合。堿性化合物（C)的具 體例包括丁胺（butylamine)、己胺（hexylamine)、乙醇胺（ethanolamine)、三乙 醇胺（triethanolamine)、2_ 乙基己胺（2_ethylhexylamine)、2-乙基己氧基丙 胺(2-ethylhexyloxypropylamine) ^ 甲氧基丙胺(methoxypropylamine)、二乙 胺 基丙胺（diethylaminopropylamine)、N-甲苯胺（N-methylaniline)、N-乙 苯胺（N_ethylaniline)、N-丙苯胺（N-propylaniline)、二甲基-N-甲苯胺 (dimethyl-N-methylaniline)、二乙基-N-甲苯胺（diethyl-N-methylaniline)、二異丙 基-N-甲苯胺（diisopropyl-N-dimethylaniline)、N_ 甲胺基酌?（N-methylaminophenol)、 N_ 乙胺基酌?（N-ethylaminophenol)、N，N_ 二甲苯胺（N，N-dimethylaniline)、N，N_ 二 乙苯胺（N，N_diethylaniline)、N，N_ 二甲胺基酌?（N，N_dimethylaminophenol)、三戊胺 (tripentylamine)、氫氧化四丁基銨（tetrabutylammoniumhydroxide)、氫氧化四甲基銨 (tetramethylammoniumhydroxide) ^ 1, 8-[5.4. 0]-7-~h-^ (1, 8-diazabicy clo[5. 4. 0] -7-undecene)、1，5_ 二氮雜雙環(huán)[4. 3. 0] _5_ 壬烯（1，5-diazabicyclo[4. 3. 0]-5-nonene)或上述化合物之組合。
[0068] 前述之堿性化合物（C)較佳為三戊胺（tripentylamine)、N-乙苯胺 (N-ethylaniline)、N，N_ 二甲胺基酌?（N，N_dimethylaminophenol)、氫氧化四甲基銨 (tetramethylammoniumhydroxide,TMAH)、二乙胺基丙胺（diethylaminopropylamine)或 上述化合物之組合。
[0069] 若負(fù)型感光性樹脂組合物無使用堿性化合物（C)，則所得之負(fù)型感光性樹脂組合 物所形成的光阻圖案會(huì)有剝除性不佳之問題。
[0070] 基于酚醛清漆樹脂（A)的使用量為100重量份，堿性化合物（C)的使用量通常為 0. 1至5重量份，較佳為0. 5至5重量份，且更佳為0. 5至4重量份。
[0071] 交聯(lián)劑〇))
[0072] 交聯(lián)劑（D)是一種促進(jìn)線性分子（linearmolecule)之間的共價(jià)鍵 (covalentbond)或離子鍵（ionicbond)形成的化合物，其可使線性分子相互鍵結(jié)，進(jìn)而形 成網(wǎng)狀聚合物（polymernetwork)。值得注意的是，酚醒清漆樹脂（A)可經(jīng)由上述光酸產(chǎn) 生劑（B)的催化與交聯(lián)劑（D)反應(yīng),而形成交聯(lián)度（degreeofcrosslinking)較高的聚合 物。
[0073]交聯(lián)劑（D)例如是燒氧基甲基化尿素樹脂（alkoxymethylatedurearesin)、 燒氧基甲基化三聚氰胺樹脂（alkoxymethylatedmelamineresin)、燒氧基甲基化尿羰 基酸樹脂（alkoxymethylateduronresin)、燒氧基甲基化甘脈樹脂（alkoxymethylated glycolurylresin)或燒氧基甲基化胺基樹脂（alkoxymethylatedaminoresin)。
[0074] 此外，交聯(lián)劑（D)例如是燒基醚化三聚氰胺樹脂（alkyletherifiedmelamine resin)、苯并胍胺樹脂（benzoguanamineresin)、燒基醚化苯并胍胺樹脂（alkyl etherifiedbenzoguanamineresin)、尿素樹脂（urearesin)、燒基醚化尿素樹脂（alkyl etherifiedurearesin)、氨基甲酸乙脂甲醒樹脂（urethaneformaldehyderesins)、溶 膠態(tài)酚醒型酚樹脂（resol-typephenol-formaldehyderesin)、燒基醚化溶膠態(tài)酚醒型酚 豐對月旨（alkyletherifiedresol-typephenol-formaldehyderesin)或環(huán)氧豐對月旨（epoxy resin)〇
[0075] 在上述交聯(lián)劑之中，較佳為烷氧基甲基化胺基樹脂。烷氧基甲基化胺基樹脂的 具體例包括甲氧基甲基化胺基樹脂（methoxymethylatedaminoresin)、乙氧基甲基 化胺基樹脂（ethoxymethylatedaminoresin)、正丙氧基甲基化胺基樹脂（n-propoxy methylatedaminoresin)、正丁氧基甲基化胺基樹月旨（n-butoxymethylatedamino resin)或上述化合物之組合。舉例而言，烷氧基甲基化胺基樹脂的市售產(chǎn)品的具體例包括 PL-1170、PL-1174、UFR65、CYMEL300、CYMEL303(以上由三井塞鐵克（SumitomoCytec)制 造）、BX-4000、NIKALACMW-30、MX-290、MW-30HM、MS-ll、MS-001、MX-750 或MX-706(以上由 三和化學(xué)（sanwachemicals)制造）或上述化合物之組合。
[0076] 前述之交聯(lián)劑（D)較佳為CYMEL303、NIKALACMW-30、PL-1170或上述化合物之組 合。
[0077] 基于酚醛清漆樹脂（A)的使用量為100重量份，交聯(lián)劑（D)的使用量通常為5至 50重量份，較佳為7至45重量份，且更佳為10至40重量份。
[0078]溶劑（E)
[0079] 負(fù)型感光性樹脂組合物所使用的溶劑（E)是指可將上述成分溶解，但又不與上述 成分反應(yīng)的有機(jī)溶劑。
[0080] 溶劑（E)例如是（聚）亞烷基二醇單烷醚類、（聚）亞烷基二醇單烷醚醋酸酯 類（alkyleneglycolmonoalkyletheracetate)、其它醚類、酮類、乳酸焼酯類（alkyl lactate)、芳香族經(jīng)類、酰胺類或其組合。
[0081] (聚）亞烷基二醇單烷醚類的具體例包括乙二醇單甲醚（ethyleneglycol monomethylether)、乙二酉享單乙醚（ethyleneglycolmonoethylether)、二乙二酉享單 乙醚（diethyleneglycolmonoethylether)、二乙二醇單正丙醚（diethyleneglycol mono-n-propylether)、二乙二酉享單正丁醚（diethyleneglycolmon〇-n-butylether)、三 乙二醇單甲醚（triethyleneglycolmonomethylether)、三乙二醇單乙醚（triethylene glycolmonoethylether)、丙二酉享單甲醚（propyleneglycolmonomethylether)、丙二 醇單乙醚（propyleneglycolmonoethylether，PGEE)、二丙二醇單甲醚（dipropylene glycolmonomethylether)、二丙二酉享單乙醚（dipropyleneglycolmonoethylether)、 二丙二醇單正丙醚（dipropyleneglycolmono-n-propylether)、二丙二醇單正丁醚 (dipropyleneglycolmon〇-n-butylether)、三丙二酉享單甲醚（tripropyleneglycol monomethylether)、三丙二醇單乙醚（tripropyleneglycolmonoethylether)或其類似 物，或上述化合物之組合。
[0082] (聚）亞焼基二醇單焼醚醋酸酯類（alkyleneglycolmonoalkyletheracetate) 的具體例包括乙二醇甲醚醋酸酯（ethyleneglycolmonomethyletheracetate)、乙 二醇乙醚醋酸酯（diethyleneglycolmonoethyletheracetate)、丙二醇甲醚醋酸酯 (propyleneglycolmonomethyletheracetate，PGMEA)、丙二醇乙醚醋酸酯（propylene glycolmonoethyletheracetate)或其類似物，或上述化合物之組合。
[0083] 醚類的具體例包括二乙二醇二甲醚（diethyleneglycoldimethylether)、二 乙二醇甲乙醚（diethyleneglycolmethylethylether)、二乙二醇二乙醚（diethylene glycoldiethylether)、四氫咲喃（tetrahydrofuran)或其類似物，或上述化合物之組合。
[0084]酮類的具體例包括甲乙酮（methylethylketone)、環(huán)己酮（cyclohexanone)、 2_庚酮（2-heptone)、3-庚酮（3-heptone)或其類似物，或上述化合物之組合。
[0085] 乳酸焼酯類（alkyllactate)的具體例包括2-輕基丙酸甲酯（methyl2_hydroxy propionate)、2_ 輕基丙酸乙酯（ethyl2_hydroxypropionate)(亦稱為乳酸乙酯（ethyl lactate，EL))或其類似物，或上述化合物之組合。
[0086] 其它酯類的具體例包括2-輕基-2-甲基丙酸甲酯（methyl2-hydroxy-2_methyl propionate)、2_ 輕基 _2_ 甲基丙酸乙酯（ethyl2-hydroxy-2_methylpropionate)、3_ 甲 氧基丙酸甲酯（methyl3_methoxypropionate)、3-甲氧基丙酸乙酯（ethyl3_methoxy propionate)、3-乙氧基丙酸甲酯（methyl3_ethoxypropionate)、3-乙氧基丙酸乙酯 (ethyl3_ethoxypropionate)、乙氧基醋酸乙酯（ethylethoxyacetate)、輕基醋酸乙 酯（ethylhydroxylacetate)、2_ 輕基 _3_ 甲基丁酸甲酯（methyl2-hydroxy-3_methyl butanoate)、3_ 甲基-3-甲氧基丁基醋酸酯（3-methyl-3_methoxybutylacetate)、3_ 甲 基-3-甲氧基丁基丙酸酯（3-methyl-3_methoxybutylpropionate)、醋酸乙酯（ethyl acetate)、醋酸正丙酯（n-propylacetate)、醋酸異丙酯（i-propylacetate)、醋酸正丁酯 (n-butylacetate)、醋酸異丁酯（i-butylacetate)、醋酸正戊酯（n-pentylacetate)、 醋酸異戊酯（i-pentylacetate)、丙酸正丁酯（n-butylpropionate)、丁酸乙酯（ethyl butanoate)、丁酸正丙酯（n-propylbutanoate)、丁酸異丙酯（i-propylbutanoate)、 丁酸正丁酯（n-butylbutanoate)、丙酮酸甲酯（methylpyruvate)、丙酮酸乙酯（ethyl pyruvate)、丙酮酸正丙酯（n-propylpyruvate)、乙醜醋酸甲酯（methylacetoacetate)、 乙醜醋酸乙酯（ethylacetoacetate)、2_ 側(cè)氧基丁酸乙酯（ethyl2-oxobutanoate)或其 類似物，或上述化合物之組合。
[0087]芳香族經(jīng)類的具體例包括甲苯（toluene)、二甲苯（xylene)或其類似物，或上述 化合物之組合。
[0088] 酰胺類的具體例包括N-甲基批咯燒酮（N-methylpyrrolidone)、N,N-二甲基甲 醜胺（N，N_dimethylformamide)、N，N_ 二甲基乙醜胺（N，N_dimethylacetamide)或其類 似物，或上述化合物之組合。溶劑（E)可單獨(dú)使用或組合多種來使用。溶劑（E)較佳為丙 二醇單乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯或乳酸乙酯。
[0089] 基于酚醛清漆樹脂（A)的使用量為100重量份，溶劑（E)的使用量通常為100至 1000重量份，較佳為150至900重量份，且更佳為200至800重量份。
[0090] 添加劑（F)
[0091] 本發(fā)明的負(fù)型感光性樹脂組合物可選擇性地進(jìn)一步添加添加劑（F)，具體而言，添 加劑（F)例如是粘附助劑（adhesionauxiliaryagent)、流平劑（levelingagent)、稀釋 劑或增感劑（sensitizer)或其類似物。
[0092] 粘合助劑例如是硅烷系（silane)化合物，以增加負(fù)型感光性樹脂組合物與基板 之間的粘合性（adhesionproperty)。娃燒（silane)系化合物的具體包括：乙烯基三甲氧 基娃燒（vinyltrimethoxysilane)、乙烯基三乙氧基娃燒（vinyltriethoxysilane)、3_(甲 基）丙烯醜氧基丙基三甲氧基娃燒（3-(methyl)acryloyloxypropyltrimethoxysilane,MP TMS)、乙烯基三（2-甲氧基乙氧基）娃燒（vinyltris(2_methoxyethoxy)silane)、N-(2-胺 基乙基）-3_ 胺基丙基甲基二甲氧基娃燒（N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimet hoxysilane)、N_(2_ 胺基乙基）_3_ 胺基丙基三甲氧基娃燒（N-(2-aminoethyl)-3_aminop ropyltrimethoxysilane)、3_ 胺基丙基三乙氧基娃燒（3-aminopropyltriethoxysilane)、 3-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基娃燒（3-glycidoxypropyltrimethoxysilane)、3_環(huán)氧丙氧基 丙基二甲基甲氧基娃燒（3-glycidoxypropyldimethylmethoxysilane)、2_(3, 4_ 環(huán)氧環(huán)己 基）乙基三甲氧基娃燒（2_ (3, 4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane)、3_ 氯丙基甲 基二甲氧基娃燒（3-chloropropylmethyldimethoxysilane)、3_氯丙基三甲氧基娃燒（3_c hloropropyltrimethoxysilane)、3_ 疏基丙基三甲氧基娃燒（3-mercaptopropyltrimetho xysilane)、l,2_ 雙 _(三甲氧基娃基）乙燒（l,2-bis-(trimethoxysilyl)ethane)或上述 化合物之組合。
[0093] 在本發(fā)明之具體例中，基于酚醛清漆樹脂（A)的使用量為100重量份，粘合助劑的 使用量通常為〇重量份至2重量份，較佳為0. 001重量份至1重量份，且更佳為0. 005重量 份至0.8重量份。
[0094] 流平劑可包括氟系表面活性劑或硅系表面活性劑。氟系表面活性劑的具體例包括 市售的Flourate FC-430、FC-431(由3M制造）、F top EF122A、122B、122C、126、BL20(*得克姆股份有限公司制造（Tochem Products Co.，Ltd.))或上述化合物之組合。娃系表面 活性劑的具體例包括：市售的SF-8427、SH29PA(由道康寧東麗聚硅氧股份有限公司（Dow Corning Toray Silicone Co.，Ltd.)制造）或上述化合物之組合。
[0095] 基于酚醛清漆樹脂（A)的使用量為100重量份，表面活性劑的使用量一般為0重 量份至1. 2重量份，較佳為0. 025重量份至1. 0重量份，且更佳為0. 050重量份至0. 8重量 份。
[0096] 稀釋劑的具體例包括市售之RE801、RE802 (帝國油墨（TEIK0KUINK)制）或其類 似物，或上述化合物之組合。
[0097] 增感劑的具體例包括：TPPA-1000P、TPPA-100-2C、TPPA-1100-3C、TPPA-1100-4C、 TPPA-1200-24X、TPPA-1200-26X、TPPA-1300-235T、TPPA-1600-3M6C、TPPA-MF市售品（日本 本州島化學(xué)工業(yè)制）或上述化合物之組合。增感劑較佳為TPPA-600-3M6C或TPPA-MF。增 感劑可單獨(dú)使用或組合多種來使用。
[0098] 基于酚醛清漆樹脂（A)的使用量為100重量份，增感劑的使用量通常為0重量份 至20重量份，較佳為0. 5重量份至18重量份，且更佳為1. 0重量份至15重量份。
[0099] 添加劑（F)可單獨(dú)使用或組合多種來使用。此外，本發(fā)明亦可依需要再添加其它 的添加劑，例如是：可塑劑（plasticizer)或穩(wěn)定劑（stabilizer)或其類似物。
[0100] 將上述酚醛清漆樹脂（A)、光酸產(chǎn)生劑（B)、堿性化合物（C)、交聯(lián)劑（D)以及溶劑 (E)放置于攪拌器中攪拌，使其均勻混合成溶液狀態(tài)，即可獲得負(fù)型感光性樹脂組合物，并 且必要時(shí)，亦可添加添加劑（F)。
[0101] 上述負(fù)型感光性樹脂組合物可以用來形成光阻圖案。上述光阻圖案可以用來作為 形成金屬圖案的圖案，并且金屬圖案可進(jìn)一步作為發(fā)光二極管晶粒中的金屬電極。此外，在 有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置中，上述光阻圖案也可以用來作為基板上的隔離壁。具體而言，如 下所述：
[0102] 〈光阻圖案的形成方法〉
[0103] 上述負(fù)型感光性樹脂組合物可用來形成光阻圖案。以下將詳細(xì)描述光阻圖案的形 成方法，其依序包括：使用負(fù)型感光性樹脂組合物來形成光阻膜；對光阻膜進(jìn)行光阻圖案 化曝光；以及通過堿顯影移除未曝光區(qū)域以形成光阻圖案。
[0104] -形成涂膜-
[0105]通過旋轉(zhuǎn)涂布（spincoating)、流延涂布（castcoating)或棍式涂布（(roll coating))等涂布方式，在基板上均勻地涂布溶液狀態(tài)的負(fù)型感光性樹脂組合物，以形成涂 膜。上述基板例如是硅基板、玻璃基板、銦錫氧化物（Indiumtinoxide，IT0)膜基板、鉻膜 形成基板或樹脂基板。
[0106] 形成涂膜之后，以減壓干燥方式去除光硬化性聚硅氧烷組合物的大部分有機(jī)溶 齊U，然后以預(yù)烤（pre-bake)方式將殘余的有機(jī)溶劑完全去除，使其形成光阻膜。一般而言， 預(yù)烤為在80°C至110°C溫度下對光阻膜進(jìn)行10秒至200秒的加熱處理。如此一來，便可獲 得厚度為〇. 5微米至5微米的光阻膜。
[0107] -光阻圖案化曝光-
[0108] 以具有特定圖案的光罩對上述光阻膜進(jìn)行曝光。在本實(shí)施例中，負(fù)型感光性樹脂 組合物是一種交聯(lián)型光增強(qiáng)光阻材料（cross-linkingamplifiedresistmaterial)，并 且以光酸產(chǎn)生劑（B)以及交聯(lián)劑（D)作為交聯(lián)成份（cross-linkingcomponent)。因此， 在對光阻膜圖案化曝光后，在l〇〇°C至130°C的溫度下，對光阻膜進(jìn)行加熱處理10秒至200 秒，以增強(qiáng)交聯(lián)反應(yīng)的程度。
[0109] 在曝光過程中所使用的光線例如是紫外光、遠(yuǎn)紫外光、KrF準(zhǔn)分子激光束（KrF excimerlaserbeam)或X光（Xray)。具體而言，曝光所使用的光線的具體例包括436納 米、405納米、365納米、254納米的萊的放射線光譜（linespectrum)以及248納米的KrF 準(zhǔn)分子激光束。
[0110] _ 顯影 _
[0111] 將上述經(jīng)曝光的光阻膜浸漬于堿性顯影液（alkalidevelopingsolution)中，以 去除上述未經(jīng)曝光的部分的光阻膜，由此可在基板上形成光阻圖案。
[0112] 一般而言，使用堿性水溶液作為顯影劑。堿性顯影液例如是氫氧化鈉（sodium hydroxide)> 氫氧化鉀(potassiumhydroxide)> 娃酸鈉(sodiumsilicate)、氨 (ammonia)或其類似物的無機(jī)堿；乙胺（ethylamine)、丙胺（propylamine)或其類似 物的伯胺（primaryamine);二乙胺（diethylamine)、二丙胺（propylamine)或其類 似物的仲胺（secondaryamine);三甲胺（trimethylamine)、三乙胺（triethylamine) 或其類似物的叔胺（tertiaryamine);二乙基乙醇胺（diethylethanolamine)、三乙 醇胺（triethanolamine)或其類似物的胺基醇（aminoalcohols);氫氧化四甲基銨 (tetramethylammoniumhydroxide)、氫氧化四乙基銨（tetraethylammoniumhydroxide)、 氫氧化三乙基氫氧基甲基銨（triethylhydroxymethylammoniumhydroxide)、氫氧化三甲 基氫氧基乙基銨（trimethylhydroxyethylammoniumhydroxide)或其類似物的氫氧化季 銨（quaternaryammoniumhydroxide)。必要時(shí)，亦可在喊性水溶液中添加甲醇（methyl alcohol)、乙醇（ethylalcohol)、丙醇（propylalcohol)、乙二醇（ethyleneglycol)或其 類似物的水溶性有機(jī)溶劑（water-solubleorganicsolvent);表面活性劑（surfactant); 或樹脂的溶解抑制劑（dissolutioninhibitor)。
[0113] 〈發(fā)光二極管晶粒（grain)的制造方法〉
[0114] 在本實(shí)施例中，可以使用上述負(fù)型感光性樹脂組合物來形成的光阻圖案作為圖案 來形成發(fā)光二極管晶粒的金屬電極。具體而言，發(fā)光二極管晶粒的形成方法如圖1A至圖1C 所示。
[0115] 請參見圖1A，首先，在基板110上形成半導(dǎo)體層120。在本實(shí)施例中，半導(dǎo)體層120 包括N型半導(dǎo)體層120a、主動(dòng)層120b以及P型半導(dǎo)體層120c，并且自基板110上依序?yàn)镹 型半導(dǎo)體層120a、主動(dòng)層120b以及P型半導(dǎo)體層120c。接著，通過上述光阻圖案的形成方 法在半導(dǎo)體層120上形成光阻圖案130。在本實(shí)施例中，光阻圖案130例如是上寬下窄的形 狀（亦即逆錐狀）。
[0116] 然后，請參見圖1B，利用溉射法（sputtering)、蒸鍍法（depositionmethod)或其 它合適的方法分別于半導(dǎo)體層120的兩側(cè)形成金屬層140,以使金屬層140分別覆蓋在基板 110、半導(dǎo)體層120以及光阻圖案130上。此外，金屬層140的材質(zhì)可為金、銀、鋁、銅或是其 它合適的金屬材料。
[0117] 然后，請參見圖1C。利用剝離法移除光阻圖案130與位于光阻圖案130上的金屬 層140,來對金屬層140進(jìn)行圖案化，由此在半導(dǎo)體層120上形成金屬圖案140a。值得注意 的是，在本實(shí)施例中，由于光阻圖案130為上寬下窄的形狀（亦即逆錐狀），因此覆蓋在半導(dǎo) 體層120上的金屬層140與覆蓋在光阻圖案130上的金屬層140不連續(xù)，而易于移除。在 其它實(shí)施例中，也可以視需求，將光阻圖案設(shè)計(jì)為上窄下寬的形狀（亦即順錐狀）或上下等 寬（亦即垂直狀）。
[0118] 值得一提的是，在半導(dǎo)體層120上的金屬圖案140a可用來作為第一電極層142,并 且位于基板110上的金屬層140可作為第二電極層144。如此一來，便可形成如圖1C所示 的發(fā)光二極管晶粒100。此外，雖然在本實(shí)施例中，第二電極層144未經(jīng)圖案化，并且全面覆 蓋于基板110上，但設(shè)計(jì)者亦可視產(chǎn)品需求而將第二電極層144圖案化。
[0119] 〈有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置制造方法〉
[0120] 在本實(shí)施例中，可以上述負(fù)型感光性樹脂組合物來形成的光阻圖案做為隔離壁， 由此形成有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置。具體而言，有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置的制造方法如圖 2A至圖2C所示。
[0121] 請參見圖2A，首先，在基板210上形成第一電極層220。根據(jù)一實(shí)施例，第一電極層 220為多個(gè)電極圖案，其材質(zhì)包括金屬氧化物，其例如是銦錫氧化物或是其它的類似物。根 據(jù)另一實(shí)施例，第一電極層220包括多個(gè)電極圖案以及與電極圖案電性連接的主動(dòng)組件。 所述電極圖案之材質(zhì)包括金屬氧化物，其例如是銦錫氧化物或是其它的類似物。所述主動(dòng) 組件包括至少一薄膜晶體管。
[0122] 然后，在基板210上形成隔離壁230。在本實(shí)施例中，形成隔離壁的230的方法例 如是使用上述說明書第15頁〈光阻圖案的形成方法〉部分?第16頁〈顯影〉部分所記載 的光阻圖案的形成方法。在此，隔離壁230是位于第一電極層220的外圍。此外，在本實(shí)施 例中，隔離壁230為逆錐狀。在其它實(shí)施例中，也可以視需求，將隔離壁230設(shè)計(jì)為順錐狀 或垂直狀。
[0123] 再接著，請參見圖2B，以噴墨法（Ink-jetmethod)法，將有機(jī)材料涂布于上述隔 離壁230所定義的區(qū)域內(nèi)，以形成有機(jī)層240。值得注意的是，有機(jī)層240可為單層或多 層結(jié)構(gòu)，具體而言，有機(jī)層240包括發(fā)光層（light-emittinglayer)、電洞傳輸材料（hole transportingmaterial)、電洞注入材料（holeinjectingmaterial)、電子傳輸材料 (electrontransportingmaterial)、電子注入材料（electroninjectingmaterial)或 上述的組合。
[0124] 最后，請參見圖2C，以濺射法、蒸鍍法或是其它合適的方法于隔離壁230與有機(jī)層 240的表面上蒸鍍一層金屬層，以形成第二電極層250。如此一來，便可形成如圖2C所不的 有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置200。
[0125] [合成例]
[0126] _酚醛清漆樹脂A-1-1的合成例_
[0127] 在一容積1000毫升的四頸錐瓶上設(shè)置氮?dú)馊肟?、攪拌器、加熱器、冷凝管及溫?計(jì)，并且導(dǎo)入氮?dú)?。接著，添?.70摩爾的間-甲酚、0.30摩爾的對-甲酚、0.5摩爾的 3, 4-二羥基苯甲醛及0. 020摩爾的草酸于上述四頸錐瓶中。然后，一邊攪拌一邊加熱反 應(yīng)溶液的溫度至l〇〇°C，并于100°C下進(jìn)行縮聚6小時(shí)。接著，加熱反應(yīng)溶液至180°C，并 以lOmmHg的壓力進(jìn)行減壓干燥，以使溶劑蒸發(fā)（evaporate)。最后，可獲得酚醛清漆樹脂 (A-1-1)。酚醛清漆樹脂（A-1-1)的成份種類及其使用量如表1所示。
[0128] -酚醛清漆樹脂A-1-2至A-3-3的合成例-
[0129] 同酚醛清漆樹脂A-1-1的合成方法，不同處在于酚醛清漆樹脂A-1-2至A-3-3改 變酚醛清漆樹脂（A-1)中反應(yīng)物種類及其使用量、反應(yīng)溫度以及縮聚時(shí)間。有關(guān)酚醛清漆 樹脂A-1-2至A-3-3的反應(yīng)物種類及其使用量、反應(yīng)溫度以及縮聚時(shí)間如表1所示。
[0130] 值得注意的是，酚醛清漆樹脂A-1-1至A-1-3為羥基型酚醛清漆樹脂（A-1);酚 醛清漆樹脂A-2-1至A-2-3為二甲酚型酚醛清漆樹脂（A-2);并且酚醛清漆樹脂A-3-1至 A-3-3為其它酚醛清漆樹脂（A-3)。
[0131] 表 1
[0132]
【權(quán)利要求】
1. 一種負(fù)型感光性樹脂組合物，其特征在于，包括： 酚醛清漆樹脂（A); 光酸產(chǎn)生劑（B); 堿性化合物（C); 交聯(lián)劑（D);以及 溶劑（E)， 其中所述酚醛清漆樹脂（A)包括羥基型酚醛清漆樹脂（A-1)與二甲酚型酚醛清漆樹 脂（A-2)，所述羥基型酚醛清漆樹脂（A-1)是由羥基苯甲醛類化合物與芳香族羥基化合物 縮聚而得，且所述二甲酚型酚醛清漆樹脂（A-2)是由醛類化合物與二甲酚類化合物縮聚而 得。
2. 如權(quán)利要求1所述的負(fù)型感光性樹脂組合物，其中所述光酸產(chǎn)生劑（B)包括鎗鹽化 合物、含齒化合物、砜化合物、磺酸化合物、磺酰亞胺化合物或上述化合物之組合。
3. 如權(quán)利要求1所述的負(fù)型感光性樹脂組合物，其中所述堿性化合物（C)包括脂肪族 伯胺、脂肪族仲胺、脂肪族叔胺、胺基醇、芳香族胺、季銨氫氧化物、脂環(huán)族胺或上述化合物 之組合。
4. 如權(quán)利要求1所述的負(fù)型感光性樹脂組合物，其中基于所述酚醛清漆樹脂（A) 100重 量份，所述光酸產(chǎn)生劑（B)的使用量為0. 1至5重量份；所述堿性化合物（C)的使用量為 0. 1至5重量份；所述交聯(lián)劑（D)的使用量為5至50重量份，且所述溶劑（E)的使用量為 100至1000重量份。
5. 如權(quán)利要求4所述的負(fù)型感光性樹脂組合物，其中基于所述羥基型酚醛清漆樹脂 (A-1)與所述二甲酚型酚醛清漆樹脂（A-2)的總使用量為100重量％，所述羥基型酚醛清漆 樹脂（A-1)的使用量為10重量％至80重量％，且所述二甲酚型酚醛清漆樹脂（A-2)的使 用量為90重量％至20重量％。
6. -種光阻圖案的形成方法，其特征在于，包括： 于基板上涂布負(fù)型感光性樹脂組合物，所述負(fù)型感光性樹脂組合物如權(quán)利要求1?5 項(xiàng)中任一項(xiàng)所述；以及 對所述負(fù)型感光性樹脂組合物進(jìn)行處理步驟，以形成光阻圖案。
7. 如權(quán)利要求6所述的光阻圖案的形成方法，其中所述光阻圖案為隔離壁。
8. -種金屬圖案的形成方法，其特征在于，包括： 于基板上形成光阻圖案，其中所述光阻圖案是以如權(quán)利要求6所述之方法而形成； 于所述基板上以及所述光阻圖案上形成金屬層；以及 移除所述光阻圖案以及位于所述光阻圖案上的所述金屬層，以形成金屬圖案。
9. 一種發(fā)光二極管晶粒的制造方法，其特征在于，包括： 于基板上形成半導(dǎo)體層；以及 于所述半導(dǎo)體層的至少其中一側(cè)形成金屬圖案，以作為電極層，其中所述金屬圖案是 以如權(quán)利要求8所述的方法形成。
10. -種有機(jī)發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括： 于基板上形成第一電極層； 于所述基板上涂布負(fù)型感光性樹脂組合物，其中所述負(fù)型感光性樹脂組合物如權(quán)利要 求1至5中任一項(xiàng)所述； 對所述負(fù)型感光性樹脂組合物進(jìn)行處理步驟，以形成隔離壁； 于所述隔離壁所定義的區(qū)域內(nèi)形成有機(jī)層；以及 于所述有機(jī)層上形成第二電極層。
【文檔編號】H01L51/56GK104238270SQ201410227750
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2014年5月27日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月11日
【發(fā)明者】蔡宇杰 申請人:奇美實(shí)業(yè)股份有限公司