板狀體的研磨方法及板狀體的研磨裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種板狀體的研磨方法，具有：平面度測(cè)定工序，測(cè)定板狀體的被研磨面的平面度；和研磨工序，研磨測(cè)定了平面度的上述板狀體的被研磨面，在該研磨工序中，在相對(duì)推壓上述板狀體的被研磨面和研磨工具的同時(shí)使上述板狀體的被研磨面和上述研磨工具相對(duì)旋轉(zhuǎn)，而通過上述研磨工具研磨上述板狀體的被研磨面，根據(jù)在上述平面度測(cè)定工序中所測(cè)定的上述板狀體的被研磨面的平面度，變更上述研磨工序的研磨條件。
【專利說明】板狀體的研磨方法及板狀體的研磨裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種板狀體的研磨方法及板狀體的研磨裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]作為液晶顯示器等FPD (Flat Panel Display/平板顯示器)用玻璃板的制造方法的一例，公知使用了被稱為浮法的成形法的浮法制造方法。該制造方法具有以下工序:成形工序，向金屬液槽(float bath)中貯存的熔融金屬的表面供給熔融玻璃，形成帶狀玻璃板；切斷/倒角工序，將上述帶狀玻璃板切斷成預(yù)定尺寸的矩形玻璃板，并對(duì)切斷而得的矩形玻璃板的周緣部進(jìn)行磨削；研磨工序，通過研磨裝置研磨上述矩形玻璃板的被研磨面，來研磨并去除該被研磨面的微小凹凸、波紋；以及檢查工序，洗凈研磨結(jié)束后的矩形玻璃板，測(cè)定被研磨面的平面度(是因被研磨面的表面存在的微小凹凸、波紋等引起的表面高度的形變的大小，定義為波紋高度相對(duì)于波紋間距的比率(波紋高度/波紋間距))。經(jīng)過這些工序，將矩形玻璃板制造成適于Fro用玻璃板的、厚度為0.2?1.5mm且平面度高的玻璃板。
[0003]專利文獻(xiàn)I公開了以FPD用玻璃板為對(duì)象的批式研磨裝置。專利文獻(xiàn)I的研磨裝置具有膜體，該膜體由吸附并保持玻璃板的吸附片、和架設(shè)該吸附片的膜框構(gòu)成。通過該研磨裝置，向上述膜體和安裝膜體的夾具之間供給加壓流體，通過加壓流體的壓力將由吸附片吸附保持的玻璃板的被研磨面推壓到研磨墊(研磨工具)上，并且使玻璃板和研磨墊相對(duì)旋轉(zhuǎn)(自轉(zhuǎn)及/或公轉(zhuǎn))來研磨上述被研磨面。
[0004]另外，在上述檢查工序中，檢查研磨后的玻璃板的被研磨面的平面度是否在適于Fro用玻璃板的規(guī)格值內(nèi)。該平面度的檢查例如使用專利文獻(xiàn)2中公開的現(xiàn)有的平面度測(cè)定裝置來進(jìn)行。
[0005]專利文獻(xiàn)2的平面度測(cè)定裝置具有:光源，將具有周期性明暗的圖案照射到玻璃板上；受光單元，接受透過了玻璃板的圖案或反射了的圖案；平面度測(cè)定單元，根據(jù)受光圖像的明暗周期相對(duì)于光源的圖案的明暗周期的偏離，計(jì)算玻璃板的被研磨面的平面度。并且，平面度測(cè)定單元具有:平均化單元，將受光圖像中的尺寸與照射到玻璃板的圖案的明暗周期對(duì)應(yīng)的區(qū)域的明暗平均化；處理單元，利用平均化單元輸出的平均化信號(hào)，輸出用于確定玻璃板中的表面形狀的變形部位和變形量的信號(hào)。
[0006]根據(jù)專利文獻(xiàn)2的平面度測(cè)定裝置，將具有周期性明暗的圖案照射到玻璃板，接受透過了玻璃板的圖案或反射了的圖案，為檢測(cè)受光圖像的明暗周期的偏離(相對(duì)于照射到玻璃板的圖案的明暗周期的偏離)，將受光圖像中的尺寸與照射到玻璃板的圖案的明暗周期對(duì)應(yīng)的區(qū)域的明暗平均化，根據(jù)平均化了的信號(hào)計(jì)算玻璃板的被研磨面的平面度。
[0007]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0008]專利文獻(xiàn)
[0009]專利文獻(xiàn)1:日本國特開2004-122351號(hào)公報(bào)
[0010]專利文獻(xiàn)2:日本國特許第3411829號(hào)公報(bào)
【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]發(fā)明要解決的問題
[0012]在現(xiàn)有批式研磨裝置中，為使平面度在規(guī)格值以內(nèi)，在研磨工序中，基于以下理由，將實(shí)際的研磨量設(shè)定成比被預(yù)估為滿足規(guī)格值的平面度的最佳研磨量的研磨量稍多地進(jìn)行研磨。
[0013]即，這是因?yàn)?，研磨前的玻璃板中，各玻璃板的被研磨面的平面度并不一樣，因此在以相同的研磨條件研磨玻璃板時(shí)，可能無法使所有玻璃板的被研磨面的平面度均在規(guī)格值以內(nèi)。因此，將實(shí)際的研磨量設(shè)定成比預(yù)估的研磨量稍多，即使各玻璃板的平面度不一樣，也可使所有玻璃板的被研磨面的平面度在規(guī)格值以內(nèi)。
[0014]換言之，在以對(duì)平面度高的玻璃板實(shí)現(xiàn)最佳研磨量的研磨條件研磨平面度低的玻璃板時(shí)，研磨量較少，因而平面度在規(guī)格值以外。因此，以對(duì)平面度低的玻璃板實(shí)現(xiàn)最佳研磨量的研磨條件，不僅研磨平面度低的玻璃板，還研磨平面度高的玻璃板，從而使所有玻璃板的被研磨面的平面度處于規(guī)格值以內(nèi)。
[0015]但是，上述研磨方法中存在以下問題:以必要之上的研磨量研磨平面度高的玻璃板，因此研磨時(shí)間變長(zhǎng)，玻璃板的生產(chǎn)效率變低。
[0016]本發(fā)明鑒于上述問題，其目的在于提供一種能夠提高板狀體的生產(chǎn)效率的板狀體的研磨方法及板狀體的研磨裝置。
[0017]用于解決問題的手段
[0018]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種板狀體的研磨方法，具有:平面度測(cè)定工序，測(cè)定板狀體的被研磨面的平面度；和研磨工序，研磨測(cè)定了平面度的上述板狀體的被研磨面，在該研磨工序中，在相對(duì)推壓上述板狀體的被研磨面和研磨工具的同時(shí)使上述板狀體的被研磨面和上述研磨工具相對(duì)旋轉(zhuǎn)，而通過上述研磨工具研磨上述板狀體的被研磨面，根據(jù)在上述平面度測(cè)定工序中所測(cè)定的上述板狀體的被研磨面的平面度，變更上述研磨工序的研磨條件。
[0019]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種板狀體的研磨裝置，具有:平面度測(cè)定單元，測(cè)定板狀體的被研磨面的平面度；研磨單元，研磨測(cè)定了平面度的上述板狀體的被研磨面，該研磨單元在相對(duì)推壓上述板狀體的被研磨面和研磨工具的同時(shí)使上述板狀體的被研磨面和上述研磨工具相對(duì)旋轉(zhuǎn)，而通過上述研磨工具研磨上述板狀體的被研磨面；以及控制單元，根據(jù)通過上述平面度測(cè)定單元測(cè)定的上述板狀體的被研磨面的平面度，變更上述研磨單元的研磨條件。
[0020]本發(fā)明以下述研磨方法及研磨裝置為對(duì)象:在相對(duì)推壓板狀體的被研磨面和研磨工具的同時(shí)使板狀體的被研磨面和研磨工具相對(duì)旋轉(zhuǎn)，而通過研磨工具研磨板狀體的被研磨面。即，本發(fā)明以專利文獻(xiàn)I公開的通過I臺(tái)研磨工具研磨I張板狀體的批式研磨方法及研磨裝置為對(duì)象。即，本發(fā)明的研磨方法及研磨裝置不以以下連續(xù)式研磨方法及研磨裝置為對(duì)象:例如日本國特開2007-190657號(hào)公報(bào)及國際公開第2011/074616A1號(hào)公報(bào)等公開的連續(xù)式研磨方法及研磨裝置，即，沿著板狀體的傳送方向配置多臺(tái)研磨工具，在以一定速度連續(xù)傳送多張板狀體的同時(shí)，通過多臺(tái)研磨工具逐漸研磨板狀體的被研磨面。此外，將I張板狀體用第I臺(tái)粗磨工具粗磨后，通過第2臺(tái)精磨工具進(jìn)行精磨的研磨方法及研磨裝置是批式的，因此是本發(fā)明的對(duì)象。[0021]根據(jù)本發(fā)明，首先，在研磨板狀體之前，通過平面度測(cè)定單元對(duì)各板狀體測(cè)定板狀體的被研磨面的平面度。接著，控制單元對(duì)各板狀體計(jì)算與上述平面度對(duì)應(yīng)的最佳研磨量，計(jì)算與該最佳研磨量對(duì)應(yīng)的最佳研磨條件，并將研磨單元的研磨條件變更為上述最佳研磨條件。因此，板狀體的被研磨面被以與平面度對(duì)應(yīng)的最佳研磨條件進(jìn)行研磨。這樣一來，根據(jù)本發(fā)明，和現(xiàn)有研磨裝置相比，板狀體的生產(chǎn)效率提高。
[0022]上述最佳研磨量當(dāng)然是用于使平面度在規(guī)格值以內(nèi)的研磨量，是被設(shè)定成使研磨后的被研磨面的平面度的分布峰值(平均值)比現(xiàn)有研磨方法的平面度的分布的峰值更接近規(guī)格值的研磨量。由此，本發(fā)明和現(xiàn)有技術(shù)相比，縮短了作為研磨條件之一的研磨時(shí)間，因而使板狀體的生廣效率提聞。
[0023]并且，本發(fā)明中所說的研磨條件，當(dāng)研磨壓力一定時(shí)，研磨時(shí)間為代表性的研磨條件。在本發(fā)明中，因是批式的，所以可按板狀體變更(前饋控制)平面度彼此不同的多個(gè)板狀體的研磨時(shí)間。與之相對(duì)，在上述連續(xù)式研磨裝置中，難以對(duì)平面度彼此不同的多個(gè)板狀體的每一個(gè)控制研磨時(shí)間。即，這是因?yàn)?，上述連續(xù)式研磨裝置是以一定速度傳送板狀體的裝置，換言之，是研磨時(shí)間一定的裝置。
[0024]此外,研磨條件不僅是研磨時(shí)間，也包括研磨工具相對(duì)于板狀體的被研磨面的研磨壓力、研磨工具和板狀體的相對(duì)轉(zhuǎn)速等其他研磨條件,但優(yōu)選按平面度變更研磨時(shí)間。這是因?yàn)?，從裝置結(jié)構(gòu)及控制系統(tǒng)構(gòu)造的角度而言，和按板狀體變更上述研磨壓力、上述轉(zhuǎn)速相比，使上述研磨壓力、上述轉(zhuǎn)速一定而僅變更研磨時(shí)間較為容易。
[0025]并且，在具有上述粗磨工具和上述精磨工具的研磨方法及研磨裝置中，控制粗磨工具和精磨工具中的至少任意一個(gè)的研磨時(shí)間即可。例如，當(dāng)所測(cè)定的平面度相對(duì)于規(guī)格平面度大幅度偏離時(shí)，將粗磨工具的研磨時(shí)間變更為較長(zhǎng)。并且，當(dāng)所測(cè)定的平面度相對(duì)于規(guī)格平面度偏離極小時(shí)，將粗磨工具的研磨時(shí)間變更為極短時(shí)間，并且將精磨工具的研磨時(shí)間也變更為短時(shí)間。即，優(yōu)選的是，根據(jù)所測(cè)定的平面度進(jìn)行變更，以使粗磨工具和精磨工具的總研磨時(shí)間為最短研磨時(shí)間。
[0026]本發(fā)明的研磨方法的一種方式優(yōu)選，在上述研磨工序的后續(xù)工序中，具有平面度再測(cè)定工序，在該平面度再測(cè)定工序中再次測(cè)定在上述研磨工序中研磨后的上述板狀體的被研磨面的平面度，根據(jù)在上述平面度再測(cè)定工序中所測(cè)定的上述板狀體的被研磨面的平面度，進(jìn)一步變更上述研磨工序的研磨條件。
[0027]本發(fā)明的研磨裝置的一種方式優(yōu)選，具有平面度再測(cè)定單元，該平面度再測(cè)定單元再次測(cè)定通過上述研磨單元研磨后的上述板狀體的被研磨面的平面度，上述控制單元根據(jù)通過上述平面度再測(cè)定單元測(cè)定的上述板狀體的被研磨面的平面度，進(jìn)一步變更上述研磨單元的研磨條件。
[0028]根據(jù)本發(fā)明的一種方式，基于通過平面度再測(cè)定單元測(cè)定的研磨后的被研磨面的平面度，進(jìn)一步變更(反饋控制)研磨時(shí)間等研磨條件。即，本發(fā)明的一種方式中，根據(jù)研磨后的被研磨面的平面度對(duì)根據(jù)研磨前的被研磨面的平面度而變更的研磨時(shí)間進(jìn)行微調(diào)，因此能夠制造平面度波動(dòng)小的質(zhì)量均勻的板狀體。
[0029]此外，在本發(fā)明中，根據(jù)研磨前的板狀體的表面狀態(tài)的不同，可能存在研磨后的被研磨面的平面度偏離規(guī)格值的板狀體，優(yōu)選將最佳研磨量設(shè)定成使該偏離規(guī)格值的板狀體的頻率在其批量(總合)整體的0.5%以下，優(yōu)選在0.3%以下。通過平面度再測(cè)定單元檢測(cè)偏離規(guī)格值的板狀體，優(yōu)選之后通過微調(diào)了研磨時(shí)間的研磨單元進(jìn)行再次研磨。這樣一來，能夠使偏離規(guī)格值的板狀體處于規(guī)格值以內(nèi)。并且，為提高板狀體的生產(chǎn)效率，也可在上述平面度再測(cè)定單元之后設(shè)置其他研磨單元，通過該其他研磨單元再次研磨偏離規(guī)格值的板狀體來使平面度處于規(guī)格值以內(nèi)。即，根據(jù)通過上述平面度再測(cè)定單元測(cè)定的平面度，由上述控制單元設(shè)定上述其他研磨單元的研磨時(shí)間。
[0030]本發(fā)明的研磨方法的一個(gè)方式優(yōu)選，在上述研磨工序中，配置多臺(tái)上述研磨工具，通過板狀體供給單元將在上述平面度測(cè)定工序中測(cè)定了平面度的上述板狀體分配供給到上述多臺(tái)研磨工具中的I臺(tái)研磨工具。
[0031]本發(fā)明的研磨裝置的一個(gè)方式優(yōu)選，配置多臺(tái)上述研磨單元的上述研磨工具，所述板狀體的研磨裝置具有板狀體供給單元，該板狀體供給單元將通過上述平面度測(cè)定單元測(cè)定了平面度的上述板狀體分配供給到上述多臺(tái)研磨工具中的I臺(tái)研磨工具。
[0032]根據(jù)本發(fā)明的一種方式，能夠提聞研磨工序的運(yùn)行效率，進(jìn)一步提聞板狀體的生產(chǎn)效率。并且，也可在多臺(tái)研磨工具中按研磨工具分別設(shè)定不同的研磨時(shí)間，對(duì)應(yīng)基于在平面度測(cè)定工序中測(cè)定的平面度的研磨時(shí)間，將該板狀體分配到與該研磨時(shí)間對(duì)應(yīng)的研磨工具上。
[0033]發(fā)明效果
[0034]根據(jù)本發(fā)明的板狀體的研磨方法及板狀體的研磨裝置，能夠提高板狀體的生產(chǎn)效率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0035]圖1是表示第I實(shí)施方式的板狀體的研磨裝置的要部結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0036]圖2是表示圖1所示的研磨裝置的結(jié)構(gòu)的框圖。
[0037]圖3是表示FPD用玻璃板的制造工序的流程圖。
[0038]圖4是I批的多張玻璃板的研磨前的被研磨面的平面度的柱狀圖。
[0039]圖5是通過現(xiàn)有研磨方法研磨后的被研磨面的平面度的柱狀圖。
[0040]圖6是通過實(shí)施方式的研磨方法研磨后的被研磨面的平面度的柱狀圖。
[0041]圖7是表示第2實(shí)施方式的研磨裝置的結(jié)構(gòu)的框圖。
【具體實(shí)施方式】
[0042]下面，根據(jù)附圖詳述本發(fā)明的板狀體的研磨方法及板狀體的研磨裝置的優(yōu)選實(shí)施方式。
[0043]圖1是表示第I實(shí)施方式的板狀體的研磨裝置10的要部結(jié)構(gòu)的立體圖。圖2是表示圖1所示的研磨裝置10的結(jié)構(gòu)的框圖。實(shí)施方式的研磨裝置10以專利文獻(xiàn)I公開的批式研磨裝置作為基本結(jié)構(gòu)。因此，在圖1、圖2中僅表示要部結(jié)構(gòu)，其他裝置結(jié)構(gòu)和專利文獻(xiàn)I的研磨裝置相同，因此省略其說明。
[0044]研磨裝置10是下述研磨裝置:將例如一邊是600mm以上的玻璃板(板狀體)G研磨成FH)用玻璃板需要的厚度、例如0.2mm?1.5mm，并且將玻璃板G的被研磨面研磨成FPD用玻璃板所需的平面度。
[0045]如圖2所示，研磨裝置10具有:切斷/倒角裝置12，將從浮法成形裝置(未圖示)的徐冷爐(未圖示)傳送來的帶狀玻璃板(未圖示)切斷成預(yù)定的矩形玻璃板G(參照?qǐng)D1)，并磨削其周緣部；平面度測(cè)定裝置(平面度測(cè)定單元:平面度測(cè)定工序)14，測(cè)定玻璃板G的被研磨面的平面度；玻璃板供給裝置18，將測(cè)定了平面度的玻璃板G供給到研磨部(研磨單元:研磨工序)16 ;研磨部16，研磨供給來的玻璃板G的被研磨面；平面度再測(cè)定裝置(平面度再測(cè)定單元、平面度再測(cè)定工序)20，洗凈研磨了被研磨面的玻璃板G，再次測(cè)定被研磨面的平面度；以及控制器(控制單元)22。
[0046]控制器22具有以下功能:根據(jù)在平面度測(cè)定裝置14中測(cè)定的玻璃板G的被研磨面的平面度，變更研磨部16的研磨時(shí)間(研磨條件)的功能；和根據(jù)在平面度再測(cè)定裝置20中測(cè)定的玻璃板G的被研磨面的平面度,進(jìn)一步變更研磨部16的研磨時(shí)間(研磨條件)的功能。此外，控制器22變更研磨部16的研磨時(shí)間的控制，必須根據(jù)在平面度測(cè)定裝置14中實(shí)施的研磨前的被研磨面的平面度來進(jìn)行，但并不必根據(jù)在平面度再測(cè)定裝置20中實(shí)施的研磨后的被研磨面的平面度來進(jìn)行。但是，控制器22根據(jù)研磨后的被研磨面的平面度來控制研磨時(shí)間，這能夠?qū)ρ心ゲ?6的研磨量向著規(guī)格值進(jìn)行微調(diào)，因此優(yōu)選。此外，平面度測(cè)定裝置14及平面度再測(cè)定裝置20是同一裝置，是專利文獻(xiàn)2公開的公知的裝置，因此在此省略其說明。
[0047]研磨部16如圖1所示，具有粗磨用的第I研磨部24和精磨用的第2研磨部26。此外，研磨前的玻璃板G的被研磨面的相反側(cè)面由膜框(未圖示)上架設(shè)的吸附片(未圖示)吸附。
[0048]接下來，說明研磨部16的研磨頭28，由于第I研磨部24的研磨頭28及第2研磨部26的研磨頭28結(jié)構(gòu)相同，因此標(biāo)以相同的標(biāo)號(hào)進(jìn)行說明。
[0049]研磨頭28具有筐體狀的夾具30和與夾具30的上表面垂直連接的主軸32。主軸32經(jīng)由減速機(jī)構(gòu)與未圖示的電機(jī)的輸出軸連接，傳送上述電機(jī)的驅(qū)動(dòng)力，從而使夾具30以主軸32的軸心Cl為中心自轉(zhuǎn)。并且，主軸32上連接有未圖示的公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，通過該公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)力，以垂直軸芯C2為中心公轉(zhuǎn)。進(jìn)一步，主軸32上連接有未圖示的升降機(jī)構(gòu)，通過該升降機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)力升降。這樣一來，夾具30相對(duì)于第I研磨部24的研磨墊(研磨工具)34及第2研磨部26的研磨墊(研磨工具)36進(jìn)退移動(dòng)。夾具30的下表面安裝有上述膜框。因此，當(dāng)夾具30進(jìn)出移動(dòng)時(shí)，上表面被吸附保持在上述膜框的上述吸附片的下表面的玻璃板G的被研磨面與研磨墊34、36抵接。
[0050]研磨墊34安裝在研磨平臺(tái)38的上表面，在研磨平臺(tái)38的下部連接有未圖示的電機(jī)的旋轉(zhuǎn)軸。并且，研磨墊36安裝在研磨平臺(tái)40的上表面，在研磨平臺(tái)40的下部連接有未圖示的電機(jī)的旋轉(zhuǎn)軸。因此，通過驅(qū)動(dòng)上述電機(jī)，使研磨平臺(tái)38、40以上述旋轉(zhuǎn)軸的軸心為中心旋轉(zhuǎn)(自轉(zhuǎn)及/或公轉(zhuǎn))。
[0051]并且，夾具30的下表面具有凹部(未圖示)，在該凹部與上述膜體的上述吸附片之間形成空氣腔(未圖示)，向該凹部供給壓縮空氣的流體供給裝置(未圖示)經(jīng)由旋轉(zhuǎn)接頭(未圖示)連接到夾具30。在將上述壓縮空氣供給到上述空氣腔后，壓縮空氣的壓力經(jīng)由上述吸附片被傳送到玻璃板G，通過該壓力，將玻璃板G的被研磨面推壓到研磨墊34、36進(jìn)行研磨。通過像這樣的研磨部16的研磨動(dòng)作，研磨玻璃板G的被研磨面，去除被研磨面的表面存在的微小凹凸、波紋。
[0052]圖3是表示FPD用玻璃板G的制造工序的一例的流程圖。[0053]根據(jù)圖3，由以下工序構(gòu)成:成形工序(SI)，將熔融玻璃供給到金屬液槽的熔融金屬的表面，成行為帶狀玻璃板；切斷/倒角工序(S2)，通過切斷/倒角裝置12將帶狀玻璃板切斷為預(yù)定尺寸的玻璃板G，并磨削玻璃板G的周緣部；平面度測(cè)定工序(S3)，通過平面度測(cè)定裝置14測(cè)定玻璃板G的被研磨面的平面度；計(jì)算基于平面度的測(cè)定結(jié)果的研磨時(shí)間的工序(S4);將研磨部16的研磨時(shí)間變更為計(jì)算出的研磨時(shí)間的工序(S5);研磨工序(S6)，以變更后的研磨時(shí)間通過研磨部16研磨玻璃板G的被研磨面；以及平面度再測(cè)定工序(S7)，洗凈研磨后的玻璃板G，通過平面度再測(cè)定裝置20再次測(cè)定被研磨面的平面度。通過SI至S7的工序，由熔融玻璃制造出適于FPD用玻璃板G的玻璃板G。
[0054]接著，參照?qǐng)D1至圖3說明利用如上構(gòu)成的研磨裝置10的玻璃板G的研磨方法。
[0055]首先，在研磨玻璃板G之前，通過平面度測(cè)定裝置14對(duì)各玻璃板G測(cè)定玻璃板G的被研磨面的平面度(S3)。
[0056]接著，控制器22對(duì)各玻璃板G計(jì)算和上述平面度對(duì)應(yīng)的最佳研磨量，計(jì)算和該最佳研磨量對(duì)應(yīng)的最佳研磨時(shí)間(S4)，并將研磨部16的研磨時(shí)間變更為上述最佳研磨時(shí)間
(S5)。
[0057]接著，在研磨部16中，以和平面度對(duì)應(yīng)的最佳研磨時(shí)間來研磨玻璃板G的被研磨面(S6)。
[0058]此時(shí)，控制器22控制第I研磨部24及第2研磨部26中的至少任意一個(gè)的研磨時(shí)間。例如，當(dāng)所測(cè)定的平面度大幅度偏離規(guī)格平面度時(shí)，將第I研磨部24的研磨時(shí)間變更為較長(zhǎng)。并且，當(dāng)所測(cè)定的平面度相對(duì)于規(guī)格平面度偏離極小時(shí)，將第I研磨部24的研磨時(shí)間變更為極短時(shí)間，并且將第2研磨部26的研磨時(shí)間也變更為短時(shí)間。即，優(yōu)選根據(jù)測(cè)定的平面度進(jìn)行變更，以使第I研磨部24和第2研磨部26的總研磨時(shí)間為最短研磨時(shí)間。
[0059]由此，根據(jù)實(shí)施方式的研磨裝置10，與保險(xiǎn)起見設(shè)定為較長(zhǎng)研磨時(shí)間的現(xiàn)有研磨裝置相比，提高了 Fro用玻璃板G的生產(chǎn)效率。
[0060]上述最佳研磨量當(dāng)然是用于使平面度處于規(guī)格值以內(nèi)的研磨量，是被設(shè)定成使研磨后的被研磨面的平面度的分布峰值(平均值)比現(xiàn)有研磨方法的平面度的分布峰值更接近規(guī)格值的研磨量。
[0061]圖4表示通過平面度測(cè)定裝置14測(cè)定的I批的多張玻璃板G的研磨前的被研磨面的平面度的柱狀圖。并且，圖5表示通過現(xiàn)有研磨方法研磨后的被研磨面的平面度的柱狀圖，圖6表示通過實(shí)施方式的研磨方法研磨后的被研磨面的平面度的柱狀圖。在各圖中，橫軸表示平面度(μ m)，縱軸表示頻率(%)。并且，在圖5、圖6中，研磨后的被研磨面的平面度的規(guī)格值是1.0,以規(guī)格值為中心，左側(cè)表示規(guī)格值內(nèi)的頻率，以規(guī)格值為中心，右側(cè)表示規(guī)格值外的頻率。即，以規(guī)格值為中心，隨著朝向左側(cè)，表示研磨時(shí)間變長(zhǎng)，并且以規(guī)格值為中心，隨著朝向右側(cè)，表示研磨時(shí)間變短。在圖6的實(shí)施方式的研磨方法中，將上述最佳研磨量設(shè)定成使研磨后的被研磨面的平面度的分布峰值(0.92)比圖5的現(xiàn)有研磨方法的平面度的分布峰值(0.56)更接近規(guī)格值。這樣一來，本發(fā)明和現(xiàn)有技術(shù)相比研磨時(shí)間縮短，因此玻璃板G的生產(chǎn)效率提高。
[0062]在此，比較實(shí)施方式的研磨裝置10的研磨方法和現(xiàn)有研磨裝置的研磨方法。
[0063]如圖4所示，可知玻璃板G的研磨前的被研磨面的平面度在1.99?2.63的較大范圍內(nèi)不規(guī)則地波動(dòng)。對(duì)于這種玻璃板G，在現(xiàn)有研磨方法下，如圖5所示，能夠?qū)⑵矫娑雀纳频?.46?1.10。但是,現(xiàn)有研磨方法是無論平面度的大小如何,均使研磨時(shí)間一定地進(jìn)行研磨的方法，因此研磨后的被研磨面的平面度和圖4所示的研磨前的柱狀圖一樣，分布在較大范圍內(nèi)。
[0064]與之相對(duì)，實(shí)施方式的研磨方法中，根據(jù)各玻璃板G的被研磨面的平面度，計(jì)算接近規(guī)格值的研磨量及研磨時(shí)間，并以該研磨時(shí)間研磨玻璃板G，因此如圖6所示，研磨后的被研磨面的平面度的分布峰值(0.92)分布在規(guī)格值(1.0)附近的較小范圍內(nèi)。因此，根據(jù)實(shí)施方式的研磨方法，能夠制造出平面度波動(dòng)小的質(zhì)量均勻的玻璃板G，并且從以I批為單位來看，和現(xiàn)有研磨方法相比可縮短研磨時(shí)間。
[0065]說明研磨時(shí)間縮短的理由。首先，如圖4所示，研磨前的玻璃板的被研磨面的平面度存在波動(dòng)?，F(xiàn)有研磨方法中，為使所有玻璃板在規(guī)格值以內(nèi)，以相同的較多的研磨量來研磨玻璃板。因此，“總研磨時(shí)間=研磨張數(shù)X較長(zhǎng)的研磨時(shí)間”，其結(jié)果是，研磨時(shí)間變長(zhǎng)，并且研磨后的玻璃板的被研磨面的平面度也存在波動(dòng)(參照?qǐng)D5)。
[0066]因此，為提高生產(chǎn)性，只要使平面度在規(guī)格值以內(nèi)、且使平面度剛好是規(guī)格值即可。即，使平面度好的玻璃板以較少的研磨量剛好處于規(guī)格值以內(nèi)，使平面度差的玻璃板以較多的研磨量剛好處于規(guī)格值以內(nèi)。使所有玻璃板的被研磨面的平面度剛好處于規(guī)格值以內(nèi)的結(jié)果是，平面度的波動(dòng)變少(參照?qǐng)D6)。
[0067]進(jìn)一步，如果平面度的波動(dòng)變少，則可使FPD的性能穩(wěn)定。其原因在于，若用平面度波動(dòng)小、即具有一定的表面性狀的玻璃板在一定制造條件下制造FPD，則制造出的FPD的性能也穩(wěn)定。
[0068]因此，實(shí)施方式的研磨方法中，對(duì)應(yīng)各玻璃板G的被研磨面的平面度，以剛好處于規(guī)格值以內(nèi)的研磨量來研磨玻璃板G，即以最佳研磨量(=研磨時(shí)間)來研磨玻璃板,因此和現(xiàn)有研磨方法相比，可縮短研磨時(shí)間，提高生產(chǎn)性。
[0069]并且，根據(jù)實(shí)施方式的研磨方法，圖2的控制器22基于通過平面度再測(cè)定裝置20所測(cè)定的研磨后的被研磨面的平面度，進(jìn)一步變更(反饋控制)研磨部16的研磨時(shí)間。即，根據(jù)研磨后的被研磨面的平面度，對(duì)根據(jù)平面度測(cè)定裝置14所測(cè)定的研磨前的被研磨面的平面度而變更了的研磨時(shí)間(和研磨量同義)進(jìn)行微調(diào)，因此能夠制造出平面度波動(dòng)更小的質(zhì)量均勻的玻璃板G。
[0070]即，當(dāng)具有某個(gè)研磨前平面度的玻璃板G的研磨后的平面度略微偏離規(guī)格值的情況下，當(dāng)研磨具有相同研磨前平面度的其他玻璃板時(shí)，以微調(diào)了的研磨時(shí)間來研磨上述其他玻璃板，以使平面度變?yōu)橐?guī)格值。
[0071]此外，在實(shí)施方式的研磨方法下也會(huì)產(chǎn)生平面度偏離規(guī)格值的玻璃板G，優(yōu)選將最佳研磨量設(shè)定成使該偏離規(guī)格值的玻璃板G的頻率在其批量(總合)整體的0.5%以下，優(yōu)選在0.3%以下。并且，從有效縮短研磨時(shí)間的角度出發(fā)，優(yōu)選將研磨時(shí)間設(shè)定成使平面度的分布峰值相對(duì)于規(guī)格值存在于-0.15至-0.05的范圍內(nèi)。
[0072]通過平面度再測(cè)定裝置20檢測(cè)平面度偏離規(guī)格值的玻璃板G，優(yōu)選之后通過微調(diào)了研磨時(shí)間的第2研磨部26再次研磨。這樣一來，能夠使平面度偏離規(guī)格值的玻璃板G處于規(guī)格值以內(nèi)。
[0073]并且，為提高玻璃板G的生產(chǎn)效率，也可在平面度再測(cè)定裝置20后設(shè)置其他研磨部，通過該其他研磨部再次研磨偏離規(guī)格值的玻璃板G，以使平面度處于規(guī)格值以內(nèi)。即，優(yōu)選由控制器22根據(jù)平面度再測(cè)定裝置20所測(cè)定的平面度，設(shè)定上述其他研磨部的研磨時(shí)間。
[0074]圖7是表示第2實(shí)施方式的研磨裝置50的結(jié)構(gòu)的框圖，對(duì)和圖1、圖2所示的第I實(shí)施方式的研磨裝置10相同或類似的部件，標(biāo)以同樣的標(biāo)號(hào)，并省略其說明。
[0075]研磨裝置50在研磨部16具備多臺(tái)(圖7中為6臺(tái))研磨部52、研磨部54、研磨部56、研磨部58、研磨部60及研磨部62。并且，在研磨部16和平面度測(cè)定裝置14的測(cè)定臺(tái)之間設(shè)置有分配供給裝置(板狀體供給單元)64。進(jìn)一步，在研磨部16和平面度再測(cè)定裝置20之間設(shè)置有傳送部66，所述傳送部66將通過各研磨部52?62研磨后的玻璃板G傳送到平面度再測(cè)定裝置20的測(cè)定臺(tái)。
[0076]研磨裝置50通過分配供給裝置64將在平面度測(cè)定裝置14中測(cè)定了平面度的玻璃板G分配供給到6臺(tái)研磨部52?62中空著的I臺(tái)研磨部、或者要到達(dá)研磨結(jié)束時(shí)間的I臺(tái)研磨部。由控制器22根據(jù)平面度測(cè)定裝置14所測(cè)定的平面度，控制研磨部52?62的研磨時(shí)間。
[0077]根據(jù)研磨裝置50，能夠提高研磨部16的運(yùn)行效率，能夠進(jìn)一步提高玻璃板G的生
產(chǎn)效率。
[0078]另外，當(dāng)控制器22只單一地控制研磨部52?62的研磨時(shí)間時(shí)，有同時(shí)存在多張?jiān)谘心ゲ?2?62研磨結(jié)束了的玻璃板G的情況。這種情況下，傳送部66將研磨結(jié)束了的玻璃板G逐張傳送到平面度再測(cè)定裝置20的測(cè)定臺(tái)，因此存在不得不使在研磨部52?62研磨結(jié)束了的玻璃板G待機(jī)，從而研磨部16的運(yùn)行效率下降的問題。
[0079]因此，在具有多臺(tái)研磨部52?62的研磨裝置50中，需要以不同時(shí)存在多張研磨結(jié)束了的玻璃板G的方式進(jìn)行研磨。
[0080]說明其研磨方法的一例。
[0081]用于使玻璃板G的被研磨面的平面度在規(guī)格值以內(nèi)的研磨條件除了研磨時(shí)間外，還包括研磨墊相對(duì)于玻璃板G的被研磨面的研磨壓力、研磨墊和玻璃板G的相對(duì)轉(zhuǎn)速。因此，控制器22根據(jù)通過平面度測(cè)定裝置14測(cè)定的各玻璃板G的被研磨面的平面度，對(duì)各研磨部52?62控制上述研磨壓力、上述轉(zhuǎn)速，以使研磨部52?62中的研磨結(jié)束時(shí)間不是同一時(shí)刻。并且，控制器22控制傳送部66，使得傳送部66提前在研磨結(jié)束的研磨部52?62中的一臺(tái)研磨部中待機(jī)。
[0082]通過該研磨方法，可解決使研磨結(jié)束了的玻璃板G在研磨部52?62中待機(jī)的問題，提高研磨部16的運(yùn)行效率。
[0083]并且，作為其他研磨方法，也可以對(duì)各研磨部52?62分別設(shè)定不同的研磨時(shí)間，對(duì)應(yīng)基于在平面度測(cè)定裝置14中測(cè)定的平面度的研磨時(shí)間，將該玻璃板G分配到和該研磨時(shí)間對(duì)應(yīng)的研磨部52?62中。
[0084]此外，在圖1、圖2的研磨裝置10中，示例了具有第I研磨部24和第2研磨部26的研磨部16，但也可是由一臺(tái)或三臺(tái)以上的研磨部構(gòu)成研磨部16的研磨裝置。
[0085]并且，在實(shí)施方式中，作為研磨對(duì)象的板狀體示例了 Fro用玻璃板，但不限于此，只要是需要表面研磨的玻璃板即可，并且不限于玻璃板，也可是需要表面研磨的金屬制及樹脂制的板狀體。
[0086]符號(hào)說明[0087]G玻璃板
[0088]10研磨裝置
[0089]12切斷/倒角裝置
[0090]14平面度測(cè)定裝置
[0091]16研磨部
[0092]18玻璃板供給裝置
[0093]20平面度再測(cè)定裝置
[0094]22控 制器
[0095]24第I研磨部
[0096]26第2研磨部
[0097]28研磨頭
[0098]30夾具
[0099]32主軸
[0100]34研磨墊
[0101]36研磨墊
[0102]38研磨平臺(tái)
[0103]40研磨平臺(tái)
[0104]50研磨裝置
[0105]52、54、56、58、60、62 研磨部
[0106]64分配供給裝置
[0107]66傳送部
【權(quán)利要求】
1.一種板狀體的研磨方法， 具有:平面度測(cè)定工序，測(cè)定板狀體的被研磨面的平面度；和 研磨工序，研磨測(cè)定了平面度的上述板狀體的被研磨面，在該研磨工序中，在相對(duì)推壓上述板狀體的被研磨面和研磨工具的同時(shí)使上述板狀體的被研磨面和上述研磨工具相對(duì)旋轉(zhuǎn)，而通過上述研磨工具研磨上述板狀體的被研磨面， 根據(jù)在上述平面度測(cè)定工序中所測(cè)定的上述板狀體的被研磨面的平面度，變更上述研磨工序的研磨條件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的板狀體的研磨方法，其中， 在上述研磨工序的后續(xù)工序中，具有平面度再測(cè)定工序，在該平面度再測(cè)定工序中再次測(cè)定在上述研磨工序中研磨后的上述板狀體的被研磨面的平面度， 根據(jù)在上述平面度再測(cè)定工序中所測(cè)定的上述板狀體的被研磨面的平面度，進(jìn)一步變更上述研磨工序的研磨條件。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的板狀體的研磨方法，其中， 在上述研磨工序中，配置多臺(tái)上述研磨工具， 通過板狀體供給單元將在上述平面度測(cè)定工序中測(cè)定了平面度的上述板狀體分配供給到上述多臺(tái)研磨工具中的I臺(tái)研磨工具。
4.一種板狀體的研磨裝置，具有: 平面度測(cè)定單元，測(cè)定板狀體的被研磨面的平面度； 研磨單元，研磨測(cè)定了平面度的上述板狀體的被研磨面，該研磨單元在相對(duì)推壓上述板狀體的被研磨面和研磨工具的同時(shí)使上述板狀體的被研磨面和上述研磨工具相對(duì)旋轉(zhuǎn)，而通過上述研磨工具研磨上述板狀體的被研磨面；以及 控制單元，根據(jù)通過上述平面度測(cè)定單元測(cè)定的上述板狀體的被研磨面的平面度，變更上述研磨單元的研磨條件。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的板狀體的研磨裝置，其中， 具有平面度再測(cè)定單元，該平面度再測(cè)定單元再次測(cè)定通過上述研磨單元研磨后的上述板狀體的被研磨面的平面度， 上述控制單元根據(jù)通過上述平面度再測(cè)定單元測(cè)定的上述板狀體的被研磨面的平面度，進(jìn)一步變更上述研磨單元的研磨條件。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的板狀體的研磨裝置，其中， 配置多臺(tái)上述研磨單元的上述研磨工具， 所述板狀體的研磨裝置具有板狀體供給單元，該板狀體供給單元將通過上述平面度測(cè)定單元測(cè)定了平面度的上述板狀體分配供給到上述多臺(tái)研磨工具中的I臺(tái)研磨工具。
【文檔編號(hào)】B24B37/04GK103842130SQ201280007243
【公開日】2014年6月4日 申請(qǐng)日期:2012年9月28日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月28日
【發(fā)明者】竹尾隆史, 廣江晉一, 濱田裕介, 木村友紀(jì) 申請(qǐng)人:旭硝子株式會(huì)社