專利名稱：一種真空氮化爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種真空氮化爐，屬化學(xué)熱處理機(jī)械設(shè)備領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
氮化爐是進(jìn)行氮化合成的常用設(shè)備，利用氮化爐對金屬工件表面進(jìn)行表面處理， 對提高工件表面的耐磨性和抗腐蝕性有著及其重要的作用。目前的氮化爐由于結(jié)構(gòu)原因， 使得隔熱效果差，溫度控制較難，能耗較高，并且處理過的工件表面機(jī)械性能不能滿足設(shè)計(jì)要求。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)合理、隔熱效果好且能耗小，以解決現(xiàn)有氮化爐由于結(jié)構(gòu)原因，使得隔熱效果差、溫控難、能耗高，且處理過的工件表面機(jī)械性能不能滿足設(shè)計(jì)要求問題的真空氮化爐。本實(shí)用新型是通過如下的技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)上述目的的一種真空氮化爐，它由爐體、底座和陰極盤構(gòu)成，其特征在于爐體活動安裝在底座上，底座的中心部位通過支架安裝有陰極盤，陰極盤下方的底座上設(shè)置有抽真空裝置，爐體內(nèi)設(shè)置有隔熱屏，爐體外表面頂部設(shè)置有吊裝環(huán)，吊裝環(huán)的兩側(cè)分別設(shè)置有氨氣進(jìn)口和冷卻循環(huán)水出口，爐體下端設(shè)置有冷卻循環(huán)水進(jìn)口，爐體的圓周上設(shè)置有多個觀察窗；所述的陰極盤與底座之間設(shè)置有隔熱底屏；所述的爐體為夾層結(jié)構(gòu)，夾層內(nèi)設(shè)置有冷卻水循環(huán)腔道。本實(shí)用新型的有益效果在于該真空氮化爐結(jié)構(gòu)合理、簡單，通過隔熱屏和隔熱底屏達(dá)到了很好的隔熱效果，夾層內(nèi)設(shè)置的冷卻水循環(huán)腔道，使冷卻水有序地進(jìn)出，降低了能耗，與現(xiàn)有技術(shù)相比，避免了隔熱效果差、溫控難、能耗高的問題，提高了工效，處理過的工件表面機(jī)械性能滿足了設(shè)計(jì)要求。


附圖為真空氮化爐的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中1、爐體，2、底座，3、陰極盤，4、支架，5、抽真空裝置，6、隔熱底屏，7、隔熱屏， 8、吊裝環(huán)，9、氨氣進(jìn)口，10、冷卻循環(huán)水出口，11、冷卻循環(huán)水進(jìn)口，12、觀察窗，13、冷卻水循環(huán)腔道。
具體實(shí)施方式
該真空氮化爐由爐體1、底座2和陰極盤3構(gòu)成，爐體1活動安裝在底座2上，底座 2的中心部位通過支架4安裝有陰極盤3，陰極盤3下方的底座2上設(shè)置有抽真空裝置5，陰極盤3與底座2之間設(shè)置有隔熱底屏6。爐體1為夾層結(jié)構(gòu)，夾層內(nèi)設(shè)置有冷卻水循環(huán)腔道 13，爐體1內(nèi)設(shè)置有隔熱屏7，爐體1外表面頂部設(shè)置有吊裝環(huán)8，吊裝環(huán)8的兩側(cè)分別設(shè)置有氨氣進(jìn)口 9和冷卻循環(huán)水出口 10，爐體1下端設(shè)置有冷卻循環(huán)水進(jìn)口 11，冷卻循環(huán)水出口 10和冷卻循環(huán)水進(jìn)口 11分別與冷卻水循環(huán)腔道13連通。爐體1的圓周上設(shè)置有多個觀察窗12。 該真空氮化爐采用高壓直流電源，爐體1接陽極，陰極盤3接負(fù)極，工件放置在陰極盤3上。工作時首先通過抽真空裝置5將爐體1抽至真空，正極與負(fù)極間的電壓帶到一定數(shù)值后，即可擊穿正極與負(fù)極之間的稀薄氣體電離氣體，產(chǎn)生輝光放電加熱工件，對工件表面進(jìn)行氮化處理。該真空氮化爐結(jié)構(gòu)合理、簡單，通過隔熱屏7和隔熱底屏6達(dá)到了很好的隔熱效果，夾層內(nèi)設(shè)置的冷卻水循環(huán)腔道13，使冷卻水有序地進(jìn)出，降低了能耗，避免了現(xiàn)有氮化爐隔熱效果差、溫控難、能耗高的問題，提高了工效。
權(quán)利要求1. 一種真空氮化爐，它由爐體(1)、底座(2)和陰極盤(3)構(gòu)成，其特征在于爐體(1) 活動安裝在底座(2)上，底座(2)的中心部位通過支架(4)安裝有陰極盤(3)，陰極盤(3)下方的底座(2)上設(shè)置有抽真空裝置(5)，爐體(1)內(nèi)設(shè)置有隔熱屏(7)，爐體(1)外表面頂部設(shè)置有吊裝環(huán)(8)，吊裝環(huán)(8)的兩側(cè)分別設(shè)置有氨氣進(jìn)口(9)和冷卻循環(huán)水出口(10)，爐體(1)下端設(shè)置有冷卻循環(huán)水進(jìn)口(11)，爐體(1)的圓周上設(shè)置有多個觀察窗(12);所述的陰極盤(3)與底座(2)之間設(shè)置有隔熱底屏(6)；所述的爐體(1)為夾層結(jié)構(gòu)，夾層內(nèi)設(shè)置有冷卻水循環(huán)腔道(13)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種真空氮化爐，屬化學(xué)熱處理機(jī)械設(shè)備領(lǐng)域。它由爐體、底座和陰極盤構(gòu)成，爐體活動安裝在底座上，底座的中心部位裝有陰極盤，陰極盤下方的底座上設(shè)置有抽真空裝置，爐體內(nèi)設(shè)置有隔熱屏，爐體頂部分別設(shè)置有氨氣進(jìn)口和冷卻循環(huán)水出口，爐體下端設(shè)置有冷卻循環(huán)水進(jìn)口，爐體的圓周上設(shè)置有多個觀察窗；爐體為夾層結(jié)構(gòu)，夾層內(nèi)設(shè)置有冷卻水循環(huán)腔道。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)合理、簡單，通過隔熱屏和隔熱底屏達(dá)到了很好的隔熱效果，夾層內(nèi)設(shè)置的冷卻水循環(huán)腔道，使冷卻水有序地進(jìn)出，降低了能耗，與現(xiàn)有技術(shù)相比，解決了隔熱效果差、溫控難、能耗高的問題，提高了工效，處理過的工件表面機(jī)械性能滿足了設(shè)計(jì)要求。
文檔編號C23C8/24GK202265601SQ20112037341
公開日2012年6月6日 申請日期2011年9月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月30日
發(fā)明者廖書華 申請人:湖北省潛江市民?；C(jī)械有限公司