光致抗蝕劑組合物及使用其制造顯示基板的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 示例性實(shí)施方式設(shè)及光致抗蝕劑組合物。更特別地，示例性實(shí)施方式設(shè)及光致抗 蝕劑組合物和使用光致抗蝕劑組合物制造顯示基板的方法。
【背景技術(shù)】
[0002] -般來說，用于顯示器件的顯示基板可W包括可W用作用于驅(qū)動(dòng)像素單元的開關(guān) 元件的薄膜晶體管、連接至薄膜晶體管的信號(hào)線、W及像素電極。信號(hào)線可W包括提供柵極 信號(hào)的柵極線和橫過柵極線并且提供數(shù)據(jù)信號(hào)的數(shù)據(jù)線。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 光致抗蝕劑組合物可W包含通過包括甲酪混合物、二甲苯酪和水楊醒的單 體混合物的縮合反應(yīng)制備的酪醒清漆樹脂（novolakresin);二疊氮化物類光敏劑 (diazide-basedphoto-sensitizer) 及溶劑。
[0004] 光致抗蝕劑組合物可W包含按重量計(jì)約5%至約30%的酪醒清漆樹脂、按重量計(jì) 約2%至約10%的二疊氮化物類光敏劑、W及余量的溶劑。
[0005] 酪醒清漆樹脂可W由W下化學(xué)式1表示：
[0006] <化學(xué)式1〉
[0007]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種光致抗蝕劑組合物，包含： 通過包括甲酚混合物、二甲苯酚和水楊醛的單體混合物的縮合反應(yīng)制備的酚醛清漆樹 脂； 二疊氮化物類光敏劑；以及 溶劑。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中，所述光致抗蝕劑組合物包含按重 量計(jì)5 %至30 %的所述酚醛清漆樹脂、按重量計(jì)2 %至10 %的所述二疊氮化物類光敏劑、以 及余量的所述溶劑。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光致抗蝕劑組合物，其中，所述酚醛清漆樹脂由以下化學(xué)式1 表不： 〈化學(xué)式1>
其中，n、m、p和q表示摩爾分?jǐn)?shù)％并且獨(dú)立地大于0,并且n、m、p和q的總和是100。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光致抗蝕劑組合物，其中，所述酚醛清漆樹脂的重均分子量 范圍從 10, 〇〇〇g/mol 至 25, 000g/mol。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光致抗蝕劑組合物，其中，所述單體混合物包含按重量計(jì) 20 %至50 %的所述甲酚混合物、按重量計(jì)20 %至30 %的所述二甲苯酚、以及按重量計(jì)30 % 至50%的水楊醛。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的光致抗蝕劑組合物，其中，所述甲酚混合物包含以范圍從7:3 至3:7的重量比的間甲酚和對(duì)甲酚。
7. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光致抗蝕劑組合物，其中，所述二疊氮化物類光敏劑包括 2, 3, 4-三羥基二苯甲酮-1，2-二疊氮萘醌-5-磺酸酯和2, 3, 4, 4-四羥基二苯甲酮-1，2-二 疊氮萘醌-5-磺酸酯中的至少一種。
8. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光致抗蝕劑組合物，其中，所述溶劑包括二醇醚、乙二醇烷基 醚乙酸酯、以及二乙二醇中的至少一種。
9. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光致抗蝕劑組合物，進(jìn)一步包含按重量計(jì)0. 1 %至3%的包括 表面活性劑和粘附增強(qiáng)劑的添加劑。
10. -種制造顯示基板的方法，所述方法包括： 在基底基板上形成包括柵電極的柵極金屬圖案； 形成覆蓋所述柵極金屬圖案的柵極絕緣層； 在所述柵極絕緣層上形成氧化物半導(dǎo)體層； 在所述氧化物半導(dǎo)體層上形成源極金屬層； 將根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物涂覆在所述源極金屬層上以形成光致抗 蝕劑層； 將所述光致抗蝕劑層顯影以形成第一光致抗蝕劑圖案；以及 使用所述第一光致抗蝕劑圖案作為掩模蝕刻所述源極金屬層和所述氧化物半導(dǎo)體層 以形成源極金屬圖案和有源圖案。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，蝕刻所述源極金屬層和所述氧化物半導(dǎo)體層 包括： 使用所述第一光致抗蝕劑圖案作為掩模濕法蝕刻所述源極金屬層； 部分去除所述第一光致抗蝕劑圖案以形成部分暴露所述源極金屬層的第二光致抗蝕 劑圖案；以及 使用所述第二光致抗蝕劑圖案作為掩模干法蝕刻所述源極金屬層和所述氧化物半導(dǎo) 體層以形成所述源極金屬圖案和所述有源圖案。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，所述源極金屬層具有鉬/鋁/鉬的三層結(jié)構(gòu)。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，所述半導(dǎo)體層包括非晶硅。
14. 一種制造顯示基板的方法，所述方法包括： 在基底基板上形成薄膜晶體管，所述薄膜晶體管包括柵電極、有源圖案、源電極和漏電 極； 形成電連接至所述漏電極的第一電極； 將根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物涂覆在所述第一電極上以形成犧牲層； 形成覆蓋所述犧牲層的絕緣層； 在所述絕緣層上形成第二電極； 去除所述犧牲層以形成腔體；以及 在所述腔體中提供液晶層。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，去除所述犧牲層包括： 將所述犧牲層暴露于光；以及 向所述犧牲層提供顯影液。
16. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中，所述單體混合物進(jìn)一步包括甲 醛。
【專利摘要】本發(fā)明提供了光致抗蝕劑組合物及使用其制造顯示基板的方法。光致抗蝕劑組合物可以包含酚醛清漆樹脂、二疊氮化物類光敏劑、以及溶劑。酚醛清漆樹脂可以通過包括甲酚混合物、二甲苯酚和水楊醛的單體混合物的縮合反應(yīng)而制備。
【IPC分類】G03F7-004, H01L21-77
【公開號(hào)】CN104865793
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510088685
【發(fā)明人】金貞元, 周振豪, 金東敏, 金昇起, 樸光雨, 咸先美
【申請(qǐng)人】三星顯示有限公司, 株式會(huì)社東進(jìn)世美肯
【公開日】2015年8月26日
【申請(qǐng)日】2015年2月26日
【公告號(hào)】US20150241774