專利名稱：印相顯影裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及進行感光材料的印相、顯影處理的印相顯影裝置。特別是關(guān)于確認處理液狀態(tài)，進行處理液體管理的裝置。
以往，進行感光材料的印相、顯影處理的印相顯影裝置由曝光部、顯影處理部、干燥部等構(gòu)成，并且裝有作各部控制命令的CPU的印相顯影裝置已普及。在自動進行處理的過程中，感光材料的顯影處理過程要仔細地注意處理液管理。
印相顯影裝置的顯影處理部處理液管理先對專稱為控制條的感光材料進行顯影，再根據(jù)密度測定的結(jié)果等進行處理液的疲勞度等的確認?？刂茥l是在規(guī)定的光強、曝光時間、光質(zhì)等特定基準曝光條件下，向具有穩(wěn)定重現(xiàn)性的印相紙進行曝光的未顯影紙條。
控制條需要在黑暗中處理，所以先在暗室中將其裝填于稱為固定架的暗箱后再處置。在印相顯影裝置內(nèi)至顯影處理部的引入處分別安放固定架。
這樣，印相顯影裝置中歷來的處理液體管理方法，是根據(jù)用固定架使控制條顯影后所得結(jié)果而進行的。然而，因固定架旨在遮光，所以收容固定架的機構(gòu)復(fù)雜，裝填操作也麻煩。
將固定架裝在印相顯影裝置時，為了做到完全遮光，帶來操作煩瑣，為了確認處理液的狀態(tài)，必須停止一般的印相操作，將裝填有控制試條的固定架裝在印相顯影裝置內(nèi)部。
作為處理液管理的指南，控制條必須采用在規(guī)定基準曝光條件下曝光的紙條，所以和通常的印相過程分開進行曝光。以往的控制條必須對使用相印顯影裝置的過程預(yù)先準備單獨制造件。
由于裝填控制條、設(shè)置固定架的操作煩瑣，又需特意準備控制條作液體管理用的材料，因此往往不進行這種采用控制條的處理液管理。僅根據(jù)處理頻度、印相顯影裝置的工作時間、所得照片質(zhì)量等，憑著所謂熟練產(chǎn)生的直覺進行處理液管理。
此種情況下，有可能因錯誤判斷而處理液管理不當(dāng)，造成顯影處理質(zhì)量下降。這就要求對裝置操作相當(dāng)熟練，因而有悖處理的簡化和自動化的愿望。
本發(fā)明的目的是在印相顯影裝置上獲得能簡便地進行處理液管理的構(gòu)件，謀求印相處理的簡化和質(zhì)量提高。
為解決上述課題，本發(fā)明使印相顯影裝置結(jié)構(gòu)具有能進行施加以往控制條上的規(guī)定條件構(gòu)成的基準曝光的構(gòu)件、作顯影處理后密度測定的構(gòu)件以及根據(jù)測定結(jié)果提示處理液狀態(tài)的構(gòu)件，省去控制條和固定架。
以下根據(jù)表示一實施例的附圖，詳細說明本發(fā)明印相顯影裝置。

圖1是表示本發(fā)明印相顯影裝置一例的剖面概況圖。構(gòu)件有曝光部1、顯影處理部2、密度測定部3、負片4、感光材料5、控制部6、監(jiān)視器7、燈11、透鏡12、快門13、截斷器14和密度計15。
曝光部1中，用基準膠片作負片4，且使燈11、透鏡12、快門13為基準設(shè)定，對負片4進行基準曝光。經(jīng)基準曝光的感光材料，由顯影處理部2顯影處理后，以密度測定部3的密度計測定其密度。測得的數(shù)值，作為處理液狀態(tài)是否在規(guī)定使用范圍內(nèi)的數(shù)據(jù)顯示于監(jiān)視器7上。
現(xiàn)說明基準設(shè)定。以往，印相顯影裝置所用的在規(guī)定條件(光強、曝光時間、特定光質(zhì))下曝光而未顯影的感光材料，一直采用控制條。讓該控制條通過處理液，根據(jù)其呈現(xiàn)的色彩確認處理液的狀態(tài)。形成控制條的規(guī)定條件下的曝光為基準曝光。
讓用于實現(xiàn)基準曝光的快門、透鏡、燈等按基準條件設(shè)定。圖2中示出本發(fā)明印相顯影裝置所用基準負片一例說明圖?；鶞守撈沁M行基準曝光時用的特定負片，如圖所示，具有已知密度，為白W、灰G、黑B三級。
圖3是表示本發(fā)明印相顯影裝置的曝光部一例的斜視概況圖，圖4和圖5是表示本發(fā)明印相顯影裝置曝光部一例的放大說明圖。圖3所示的曝光部構(gòu)件為基準負片8、印相用底片9、畫面窗口10、馬達16、皮帶輪17、皮帶18、底片傳送輥19、底片罩20、框架M。圖4和圖5表示曝光部中的基準負片8、印相用底片9、畫面窗口10、底片罩20。
如圖3上所示，印相用底片9靠底片傳送輥19連續(xù)傳送。將裝有基準負片8的框架M作固定的皮帶18，通過皮帶輪17由馬達16驅(qū)動，在曝光位置與避光位置之間移動。
底片罩20處于避光位置時，曝光部為圖4所示那樣。如圖中以箭號和虛線所示，印相用底片9被傳送至橫截畫面窗口10的后面?；鶞守撈?備于框架8上，一旦撳操作板的基準曝光按鈕，就從避光位置開始滑動，并調(diào)整到畫面窗口10內(nèi)的曝光位置?；鶞守撈?處于曝光位置時，如圖5所示。
為了獲得基準曝光所需光源，備有與通常印相用光源不同的基準曝光專用光源，并使之自動轉(zhuǎn)換，或者也可與通常印相用光源共用，在基準曝光時，使光源電壓等自動設(shè)定成基準曝光。
圖6表示本發(fā)明印相顯影裝置的光源一例說明圖。圖中符號分別為以下含義。21基準曝光專用燈，22通常印相用燈，27馬達，28皮帶。分別備有通常印相用光源和基準曝光專用光源時，例如圖示那樣，將裝有基準曝光專用燈21和通常印相燈22的皮帶28，用馬達27進行驅(qū)動，做成根據(jù)操作板的指示自動轉(zhuǎn)換光源。
通常印相用光源和基準曝光用光源共用時，必須調(diào)整得光源合適，滿足基準曝光條件。圖7表示本發(fā)明印相顯影裝置的光源另一例的剖面概況圖。圖中符號分別為以下含義。11燈，23機械快門，24快門驅(qū)動部，25調(diào)光濾光器，26濾光器驅(qū)動部，29控制部。例如在圖示結(jié)構(gòu)的光源上設(shè)控制部，用傳感器探測燈的光通量、色溫，將燈電壓，調(diào)光濾光器自動控制成正確值。調(diào)光濾光器，讓YMC濾色鏡介于光路中調(diào)整曝光色。
圖8是表示本發(fā)明印相顯影裝置控制部一例的方框圖。其組成包括進行基準曝光時根據(jù)鍵盤輸入進行光源轉(zhuǎn)換和曝光條件控制的部分以及根據(jù)基準曝光后獲得的濃度測定數(shù)據(jù)進行處理液狀態(tài)運算和顯示的部分。以細線表示的各框圖是進行通常印相時，根據(jù)負片判斷結(jié)果的數(shù)據(jù)及鍵盤輸入，設(shè)定曝光條件的控制部分。
圖9為表示本發(fā)明印相顯影裝置控制程序一例的流程圖。若選擇基準曝光，則轉(zhuǎn)換光源并調(diào)整、確認，設(shè)定曝光時間后，執(zhí)行曝光。通過測定所得紙條的密度，進行處理液狀態(tài)的運算，將該結(jié)果顯示后結(jié)束程序。細線所示各框圖是通常印相的控制程序。
圖10是本發(fā)明印相顯影裝置一例中監(jiān)視器畫面說明圖。對應(yīng)監(jiān)視器畫面的處理液狀態(tài)顯示，例如可如圖所示，示出規(guī)定使用范圍的上限下限各數(shù)值和檢查時的測定值，以及可否使用。
如上所述，本發(fā)明印相顯影裝置具有用和以往預(yù)先施加于控制條上的相同曝光條件進行曝光的基準曝光構(gòu)件、對由基準曝光所得紙條進行測定的密度計以及運算所測結(jié)果后提示和判斷處理液狀態(tài)的構(gòu)件。本發(fā)明裝置能以和通常印相顯影操作一樣簡單的操作確認和提示處理液狀態(tài)。因此，不需要控制條和固定架，消除了裝填控制條和安放固定架等帶來的煩瑣。由于不需要籌集特別材料作處理液管理，因此能有效地簡化印相處理。
圖1是表示本發(fā)明印相顯影裝置一例的剖面概況圖;
圖2是本發(fā)明印相顯影裝置所用的基準負片一例說明圖;
圖3是表示本發(fā)明印相顯影裝置曝光部一例的斜視概況圖;
圖4是表示本發(fā)明印相顯影裝置的曝光部一例的放大說明圖;
圖5是表示本發(fā)明印相顯影裝置的曝光部一例的放大說明圖;
圖6是本發(fā)明印相顯影裝置的光源一例的說明圖;
圖7是本發(fā)明印相顯影裝置的光源另一例的剖面概況圖;
圖8是表示本發(fā)明印相顯影裝置的控制部一例的方框圖;
圖9是表示本發(fā)明印相顯影裝置的控制程序一列的流程圖。
圖10是本發(fā)明的印相顯影裝置一例中監(jiān)視器畫面說明圖。
以下說明圖中符號含義。1曝光部、2顯影處理部、3密度測定部、4負片、5感光材料、6控制部、7監(jiān)視器、8基準負片、9印相用底片、10畫面窗口、11燈、12透鏡、13快門、14截斷器、15密度計、16馬達、17皮帶輪、18皮帶、19底片傳送輥、20底片罩、21基準曝光專用燈、22通常印相用燈、23機械快門、24快門驅(qū)動部、25調(diào)光濾光器、26;濾光器驅(qū)動部、27馬達、28皮帶、29控制部、M框架、W白、G灰、B黑。
權(quán)利要求
1.一種連續(xù)進行感光材料印相、顯影處理的印相顯影裝置，其特征在于具有具備處理液狀態(tài)判斷基準曝光條件的基準曝光構(gòu)件、對以上述基準曝光構(gòu)件作印相、顯影處理的感光材料密度進行測定的密度測定構(gòu)件、以及根據(jù)上述密度測定結(jié)果判斷、顯示處理液狀態(tài)的判斷顯示構(gòu)件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印相顯影裝置，其特征在于上述基準曝光構(gòu)件具有基準曝光條件所定密度級別的基準曝光專用負片以及基準曝光條件所定基準曝光專用光源。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印相顯影裝置，其特征在于上述曝光構(gòu)件具有基準曝光條件所定密度級別的基準曝光專用負片以及基準曝光條件所定基準曝光和通常曝光兼用光源。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或者3所述的印相顯影裝置，其特征在于上述基準曝光專用負片具有根據(jù)需要移至底片罩的曝光位置及非曝光位置的構(gòu)件。
全文摘要
一種印相顯影裝置，結(jié)構(gòu)上具有能進行由施加于以往控制條上的規(guī)定條件構(gòu)成的基準曝光的構(gòu)件、作顯影處理后密度測定的構(gòu)件以及根據(jù)測定結(jié)果提示處理液狀態(tài)的構(gòu)件。備有基準曝光用負片，還具有控制部，進行通常印相時和基準曝光時的光源轉(zhuǎn)換，測定基準曝光后處理所得的感光材料密度，并根據(jù)測定結(jié)果運算、判斷和顯示處理液狀態(tài)。如此獲得能簡便進行液體管理的構(gòu)件，實現(xiàn)印相顯影處理的簡化和質(zhì)量提高。
文檔編號G03B27/72GK1094825SQ9410003
公開日1994年11月9日 申請日期1994年1月7日 優(yōu)先權(quán)日1993年2月10日
發(fā)明者西田茂樹, 谷端透 申請人:諾日士鋼機株式會社