專利名稱：一種勻膠鉻板濾光片翻刻工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于顯示器件用濾光片制造領(lǐng)域，具體涉及一種用于對母板濾 光片進行翻印刻錄制造的勻膠鉻板濾光片翻刻工藝。
背景技術(shù)：
彩色顯像管制造過程中有一道曝光工序，該工序通過一系列曝光刻蝕 的方法在顯像管的屏內(nèi)曲面上制造出均勻排列的石墨黑底條紋。而石墨黑 底排列的好壞會直接影響彩色顯像管圖像顯示的質(zhì)量及對比度高低。所以 要保證此工序能高質(zhì)量完成。
曝光工序所用的設(shè)備中有兩個比較重要的部件， 一是透鏡，二是濾光 片。透鏡的作用是使光線模擬電子束軌跡，進行光路效正。濾光片的作用 是通過對光線的透光率調(diào)整形成感光度不同的黑底條紋，濾光片對石墨黑 底涂敷的好壞對整管品味有很重要的影響。
濾光片長時間使用，其表面上的條紋會隨時間的增加出現(xiàn)磨損脫落的 現(xiàn)象，對石墨黑底涂敷會有不良影響。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種工藝簡單、操作方便，成本低的勻膠鉻板 濾光片翻刻工藝。
為達到上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是
1)首先取一塊厚度為1.4mm-1.6mm的光學(xué)玻璃基板，然后在玻璃基 板上鍍一層厚度為100土20nm的鉻金屬，再在金屬膜上均勻涂敷一層感光膠，對勻膠鉻板玻璃基板及母板濾光片進行清洗；
2) 曝光，將清洗后的母板濾光片貼附在清洗后的勻膠鉻板玻璃基板 上，光線通過母板濾光片上石墨黑底條紋的阻擋射到勻膠鉻板玻璃基板上 與感光膠發(fā)生反應(yīng)形成和母板濾光片上石墨條紋一樣的感光膠條紋；
3) 顯影刻蝕，將曝光完畢的勻膠鉻板玻璃基板放入顯影液中進行顯 影，將硬化附著在玻璃基板表面的感光膠腐蝕掉，沒有硬化的感光膠部分 則留下；顯影完畢后用純水清洗將殘余藥液沖洗掉，然后將顯影完畢后的 勻膠鉻板玻璃基板放入刻蝕液中進行刻蝕，使未硬化的感光膠存留在勻膠 鉻板玻璃基板，這部分被覆蓋的鉻金屬膜被留下，未被覆蓋的部分則被刻 蝕掉，刻蝕完畢后用純水清洗將殘余藥液沖洗干凈
4) 去膠清洗，將勻膠鉻板玻璃基板浸入質(zhì)量濃度為5%的氫氧化鈉溶 液中去膠，去膠時間控制在lmin士5s，去膠完畢用純水清洗后用帶過濾器 的氣槍吹干。
本發(fā)明的清洗勻膠鉻板玻璃基板采用高壓氣槍吹凈鉻版表面，母板濾 光片則用洗滌劑進行清洗，最后沖洗干凈后用高壓空氣吹干；曝光采用膜 對膜的方法進行，即母板濾光片有膜的一面向上，勻膠鉻板玻璃基板有膜 面向下放置在母板濾光片之上，母板濾光片與勻膠鉻板玻璃基板的膜面是 貼在一起，曝光照度為0. 650-0. 750mw/cm2 、曝光時間為20土1秒；顯影 液采用質(zhì)量濃度為4%。一7% 的氫氧化鈉溶液，顯影環(huán)境溫度為22°C±2°C， 顯影時間為25士2s;刻蝕液采用硝酸鈰銨200g;醋酸35mL和1000mL 的純水配制而成，刻蝕溫度在22T:土2X:，時間為28士2s?？涛g完畢后用 純水清洗將殘余藥液沖洗干凈。
本發(fā)明的依靠光刻顯影原理，在勻膠鉻板玻璃基板上進行復(fù)制成像，本發(fā)明主要用于母板濾光片進行翻印刻錄制造出新濾光片，新濾光片與原 濾光片幾乎是一樣的，可以用它來代替原來的濾光片。本發(fā)明的原理簡單， 操作方便，成本較重新購買濾光片低。


圖1是本發(fā)明的操作原理圖圖中1為曝光時的光源以及其射出的光 線，2為勻膠鉻板玻璃基板，3為母板濾光片；
圖2是圖1的局部放大圖，圖中1為曝光時的光源以及其射出的光線，
4是新濾光片的膜層，5是母板濾光片的膜層，6是母板濾光片石墨黑底條 紋，7是與光反應(yīng)硬化部分7， 8是感光膠條紋。
具體實施例方式
下面結(jié)合附圖及實施例對本發(fā)明作進一步詳細說明。 實施例，首先取一塊厚度為1. 4mm-1. 6mm的光學(xué)玻璃基板，然后在玻 璃基板上鍍一層厚度為100士20nm的鉻金屬，再在金屬膜上均勻涂敷一 層感光膠，對勻膠鉻板玻璃基板及母板濾光片進行清洗；因為鉻版上有感 光膠，所以不能用液體直接清洗。使用高壓氣槍吹凈鉻版表面。母板濾光 片則用洗滌劑進行清洗，最后沖洗干凈后用高壓空氣吹干。
2)曝光，勻膠鉻板玻璃基板清洗完畢后進行曝光，(參見圖l， 2)光 線1通過母板濾光片3上石墨黑底條紋6的阻擋射到勻膠鉻板玻璃基板2 上與感光膠發(fā)生反應(yīng)形成和母板濾光片3上石墨條紋6 —樣的感光膠條 紋，為了減少因為光路增加而出現(xiàn)的誤差，采用膜對膜的方法進行曝光， 即母板濾光片3帶有膜層5的一面向上，勻膠鉻板玻璃基板2帶有膜層4 的一面向下放置在母板濾光片3之上，兩個濾光片的膜面貼在一起。曝光 照度為0. 650-0. 750mw/cm2 、曝光時間為20± 1秒；曝光時不采用透鏡進行光路校正，使最終制造出的產(chǎn)品質(zhì)量得到提升，成本有所降低；
3) 顯影刻蝕，將曝光完畢的勻膠鉻板玻璃基板2立即放入顯影液中 進行顯影，將附著在勻膠鉻板玻璃基板2表面的硬化部分7的感光膠腐蝕 掉，而沒有硬化形成感光膠條紋8的感光膠部分則留下。顯影液采用質(zhì)量 濃度為4%。一7%。的氫氧化鈉溶液，顯影環(huán)境溫度22'C士2X:，顯影時間為 25士2s。顯影完畢后用純水清洗將殘余藥液沖洗掉，然后進行刻蝕，刻蝕 液采用硝酸鈽銨200g、醋酸35mL和純水lOOOmL配制而成，將顯影完畢后 的勻膠鉻板玻璃基板2放入刻蝕液中進行刻蝕，由于一部分未硬化的感光 膠還在鉻版上，所以這部分被覆蓋的鉻金屬膜被留下，而未被覆蓋的部分 則被刻蝕掉?？涛g溫度在22°?！?°〇，時間控制在28士2s，刻蝕完畢后用 純水清洗將殘余藥液沖洗干凈。
4) 去膠清洗，完成顯影刻蝕的勻膠鉻板玻璃基板2表面還存在未硬 化顯影掉的感光膠，這就需要進行去膠工作，將勻膠鉻板玻璃基板2浸入 質(zhì)量濃度為5%的氫氧化鈉溶液，去膠時間控制在lmin士5s。去膠完畢用 純水清洗后用帶過濾器的氣槍吹干。
權(quán)利要求
1、一種勻膠鉻板濾光片翻刻工藝，其特征在于1)首先取一塊厚度為1.4mm-1.6mm的光學(xué)玻璃基板，然后在玻璃基板上鍍一層厚度為100±20nm的鉻金屬，再在金屬膜上均勻涂敷一層感光膠，對勻膠鉻板玻璃基板及母板濾光片進行清洗；2)曝光，將清洗后的母板濾光片貼附在清洗后的勻膠鉻板玻璃基板上，光線通過母板濾光片上石墨黑底條紋的阻擋射到勻膠鉻板玻璃基板上與感光膠發(fā)生反應(yīng)形成和母板濾光片上石墨條紋一樣的感光膠條紋；3)顯影刻蝕，將曝光完畢的勻膠鉻板玻璃基板放入顯影液中進行顯影，將硬化附著在玻璃基板表面的感光膠腐蝕掉，沒有硬化的感光膠部分則留下；顯影完畢后用純水清洗將殘余藥液沖洗掉，然后將顯影完畢后的勻膠鉻板玻璃基板放入刻蝕液中進行刻蝕，使未硬化的感光膠存留在勻膠鉻板玻璃基板，這部分被覆蓋的鉻金屬膜被留下，未被覆蓋的部分則被刻蝕掉，刻蝕完畢后用純水清洗將殘余藥液沖洗干凈4)去膠清洗，將勻膠鉻板玻璃基板浸入質(zhì)量濃度為5％的氫氧化鈉溶液中去膠，去膠時間控制在1min±5s，去膠完畢用純水清洗后用帶過濾器的氣槍吹干。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的勻膠鉻板濾光片翻刻工藝，其特征在于 所說的清洗勻膠鉻板玻璃基板采用高壓氣槍吹凈鉻版表面，母板濾光片則 用洗滌劑進行清洗，最后沖洗干凈后用高壓空氣吹干。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的勻膠鉻板濾光片翻刻工藝，其特征在于-所說的曝光采用膜對膜的方法進行，即母板濾光片有膜的一面向上，勻膠鉻板玻璃基板有膜面向下放置在母板濾光片之上，母板濾光片與勻膠鉻板玻璃基板的膜面是貼在一起，曝光照度為0. 650-0. 750mw/cm2 、曝光時間 為20士1秒。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的勻膠鉻板濾光片翻刻工藝，其特征在于 所說的顯影液采用質(zhì)量濃度為4%。一7%。的氫氧化鈉溶液，顯影環(huán)境溫度為 22°C±2°C，顯影時間為25土2s。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的勻膠鉻板濾光片翻刻工藝，其特征在于 所說的刻蝕液采用硝酸鈰銨200g;醋酸35mL和lOOOmL的純水配制而 成，刻蝕溫度在22。C士2-C，時間為28土2s。刻蝕完畢后用純水清洗將殘 余藥液沖洗干凈。
全文摘要
一種勻膠鉻板濾光片翻刻工藝，首先在玻璃基板上鍍一層鉻金屬，再在金屬膜上均勻涂敷一層感光膠，然后將母板濾光片貼附在玻璃基板上，光線通過母板濾光片上石墨黑底條紋與感光膠發(fā)生反應(yīng)形成和母板濾光片上石墨條紋一樣的感光膠條紋；再玻璃基板放入顯影液中進行顯影后進行刻蝕掉，刻蝕完畢后用純水清洗將殘余藥液沖洗干凈，將玻璃基板浸入去膠液中去膠，去膠完畢用純水清洗后用帶過濾器的氣槍吹干。本發(fā)明的依靠光刻顯影原理，在勻膠鉻板玻璃基板上進行復(fù)制成像，本發(fā)明主要用于母板濾光片進行翻印刻錄制造出新濾光片，新濾光片與原濾光片幾乎是一樣的，可以用它來代替原來的濾光片。本發(fā)明的原理簡單，操作方便，成本較重新購買濾光片低。
文檔編號G03F7/20GK101435994SQ20081023275
公開日2009年5月20日 申請日期2008年12月9日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月9日
發(fā)明者剛 王, 田俊武, 趙鵬亮, 偉 陳, 高維剛 申請人:彩虹顯示器件股份有限公司