彩色濾光片的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種彩色濾光片的制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]彩色濾光基板是用來使顯示裝置達到顯示彩色影像的目的。彩色濾光基板包括配置在基材不同位置的彩色濾光元件例如紅色濾光元件、綠色濾光元件與藍色濾光元件。彩色濾光元件的制程一般包括黃光制程。黃光制程的溫度高達200度以上。軟性顯示裝置之彩色濾光基板一般是使用具有可撓性質(zhì)的材料作為基材，例如聚對苯二甲酸二乙酯(PET)等等的塑料。然而，塑料基板的玻璃轉(zhuǎn)變溫度(Tg)通常是遠低于黃光制程的溫度(例如，聚對苯二甲酸二乙酯的玻璃轉(zhuǎn)變溫度約為80度)。因此，塑料基板并不適用于黃光制程。
[0003]在目前工藝制作彩色濾光片時，彩色濾光層需要與黑矩陣有一部分重合區(qū)域，該做法的目的是避免漏光，由于彩色濾光層在烘烤時體積會收縮，如果設(shè)計時彩色濾光層不與黑矩陣重合，那在黃光制程的烘烤后極易造成漏光缺陷。彩色濾光層需要與黑矩陣有一部分重合的做法雖然避免了漏光，但是彩色濾光層與黑矩陣重合的區(qū)域要高于次像素區(qū)，形成了“段差”，對后續(xù)的對盒工藝有很不利的影響，會擾亂液晶的取向。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于提供一種彩色濾光片的制作方法，使得制作的彩色濾光片表面平整，無段差，且能防止漏光。
[0005]為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實施方式提供如下技術(shù)方案:
[0006]—種彩色濾光片的制作方法，包括:將遮光層涂布于基板的表面；對所述遮光層進行開槽，形成黑矩陣層和次像素區(qū)域，所述黑矩陣包括底面和頂面，所述底面貼合于所述基板，所述頂面位于所述黑矩陣之遠離所述基板的表面，所述底面的面積小于所述頂面的面積，所述次像素區(qū)域與所述黑矩陣交替間隔設(shè)置，其中每個所述次像素區(qū)域位于相鄰的兩個所述黑矩陣之間；在所述次像素區(qū)域形成彩色濾光層。
[0007]其中，將遮光層涂布于基板的表面的步驟包括:通過刷涂、噴涂等方法在所述基板上形成膜層，再通過UV光進行固化處理。
[0008]其中，所述膜層厚度均勻。
[0009]其中，通過水割技術(shù)對所述遮光層進行切割，以實現(xiàn)對所述遮光層進行開槽。
[0010]其中，在切割所述遮光層的過程中，用傾斜切割的方法。
[0011]其中，在所述次像素區(qū)域形成彩色濾光層的步驟包括:滴涂像素樹脂，通過UV光進行固化處理。
[0012]其中，所述遮光層和所述濾光層的厚度相同，使得所述彩色濾光片的表面平整。
[0013]其中，所述黑矩陣的垂直于所述基板的截面呈梯形。
[0014]其中，所述基板為柔性基板。
[0015]本發(fā)明通過對所述遮光層進行開槽，形成黑矩陣層和次像素區(qū)域，且利用低溫切割技術(shù)代替現(xiàn)有技術(shù)中的黃光制程實現(xiàn)開槽的步驟，提高了基板的質(zhì)量。所述黑矩陣包括底面和頂面，所述底面貼合于所述基板，所述頂面位于所述黑矩陣之遠離所述基板的表面，所述底面的面積小于所述頂面的面積，通過黑矩陣的上大下小的結(jié)構(gòu)設(shè)計，且使得彩色濾光片表面平整，無段差，且能防止漏光。
【附圖說明】
[0016]為了更清楚地說明本發(fā)明的技術(shù)方案，下面將對實施方式中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施方式，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以如這些附圖獲得其他的附圖。
[0017]圖1是本發(fā)明一種實施方式提供的彩色濾光片的制作方法中在基板上涂布好遮光層的示意圖。
[0018]圖2是在圖1的基礎(chǔ)上，對所述遮光層進行開槽后的示意圖。
[0019]圖3在圖2的基礎(chǔ)上，在所述次像素區(qū)域形成彩色濾光層的示意圖。
【具體實施方式】
[0020]下面將結(jié)合本發(fā)明實施方式中的附圖，對本發(fā)明實施方式中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述。
[0021]本發(fā)明涉及一種彩色濾光片，即CF，的制作方法，圖1至圖3描述了制作的步驟過程。本發(fā)明之彩色濾光片的制作方法，包括如下步驟。
[0022]將遮光層涂布于基板的表面，如圖1所示。具體而言，所述基板為柔性基板，也可以為玻璃、石英、透明樹脂等材質(zhì)的基板?；宓谋砻嫫教?，以利于遮光層的涂布。將遮光層涂布于基板的表面的步驟包括:通過刷涂、噴涂等方法在所述基板上形成膜層，再通過UV光(即紫外光線)進行固化處理。所述膜層厚度均勻。
[0023]對所述遮光層進行開槽，形成黑矩陣層和次像素區(qū)域。本發(fā)明通過水割技術(shù)對所述遮光層進行切割，以實現(xiàn)對所述遮光層進行開槽。切割后形成多個黑矩陣，相鄰的兩個黑矩陣彼此間隔，次像素區(qū)域即形成在每相鄰的兩個黑矩陣之間，即所述次像素區(qū)域與所述黑矩陣交替間隔設(shè)置。而且，在切割所述遮光層的過程中，用傾斜切割的方法，使得每個黑矩陣的遠離基板的一側(cè)的端面尺寸大于貼近基板一側(cè)的端面尺寸。每個黑矩陣的垂直于所述基板的截面呈梯形，上大下小，黑矩陣這樣的形狀能夠防止彩色濾光片漏光。呈梯形的黑矩陣的側(cè)側(cè)均為平面，其它的實施方式中，黑矩陣的側(cè)面，特別是與次像素區(qū)域鄰接的側(cè)面也可以為曲面，可由多段平面組合而成，只要保證黑矩陣遠離基板一側(cè)的端面的尺寸大于貼合基板的表面尺寸，即能實現(xiàn)防漏光的效果。
[0024]每個黑矩陣具體結(jié)構(gòu)為:所述黑矩陣包括底面和頂面，所述底面貼合于所述基板，所述頂面位于所述黑矩陣之遠離所述基板的表面，所述底面的面積小于所述頂面的面積。
[0025]在所述次像素區(qū)域形成彩色濾光層，具體包括如下步驟:滴涂像素樹脂，通過UV光進行固化處理。
[0026]所述遮光層和所述濾光層的厚度相同，使得所述彩色濾光片的表面平整。
[0027]本發(fā)明通過對所述遮光層進行開槽，形成黑矩陣層和次像素區(qū)域，且利用低溫切割技術(shù)代替現(xiàn)有技術(shù)中的黃光制程實現(xiàn)開槽的步驟，提高了基板的質(zhì)量。所述黑矩陣包括底面和頂面，所述底面貼合于所述基板，所述頂面位于所述黑矩陣之遠離所述基板的表面，所述底面的面積小于所述頂面的面積，通過黑矩陣的上大下小的結(jié)構(gòu)設(shè)計，且使得彩色濾光片表面平整，無段差，且能防止漏光。
[0028]以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也視為本發(fā)明的保護范圍。
【主權(quán)項】
1.一種彩色濾光片的制作方法，其特征在于，包括: 將遮光層涂布于基板的表面； 對所述遮光層進行開槽，形成黑矩陣層和次像素區(qū)域，所述黑矩陣包括底面和頂面，所述底面貼合于所述基板，所述頂面位于所述黑矩陣之遠離所述基板的表面，所述底面的面積小于所述頂面的面積，所述次像素區(qū)域與所述黑矩陣交替間隔設(shè)置，其中每個所述次像素區(qū)域位于相鄰的兩個所述黑矩陣之間； 在所述次像素區(qū)域形成彩色濾光層。2.如權(quán)利要求1所述的彩色濾光片的制作方法，其特征在于，將遮光層涂布于基板的表面的步驟包括:通過刷涂、噴涂等方法在所述基板上形成膜層，再通過UV光進行固化處理。3.如權(quán)利要求2所述的彩色濾光片的制作方法，其特征在于，所述膜層厚度均勻。4.如權(quán)利要求1所述的彩色濾光片的制作方法，其特征在于，通過水割技術(shù)對所述遮光層進行切割，以實現(xiàn)對所述遮光層進行開槽。5.如權(quán)利要求4所述的彩色濾光片的制作方法，其特征在于，在切割所述遮光層的過程中，用傾斜切割的方法。6.如權(quán)利要求1所述的彩色濾光片的制作方法，其特征在于，在所述次像素區(qū)域形成彩色濾光層的步驟包括:滴涂像素樹脂，通過UV光進行固化處理。7.如權(quán)利要求1-6任意一項所述的彩色濾光片的制作方法，其特征在于，所述遮光層和所述濾光層的厚度相同，使得所述彩色濾光片的表面平整。8.如權(quán)利要求1-6任意一項所述的彩色濾光片的制作方法，其特征在于，所述黑矩陣的垂直于所述基板的截面呈梯形。9.如權(quán)利要求1-6任意一項所述的彩色濾光片的制作方法，其特征在于，所述基板為柔性基板。
【專利摘要】本發(fā)明公開彩色濾光片的制作方法，包括：將遮光層涂布于基板的表面；對所述遮光層進行開槽，形成黑矩陣層和次像素區(qū)域，所述黑矩陣包括底面和頂面，所述底面貼合于所述基板，所述頂面位于所述黑矩陣之遠離所述基板的表面，所述底面的面積小于所述頂面的面積，所述次像素區(qū)域與所述黑矩陣交替間隔設(shè)置，其中每個所述次像素區(qū)域位于相鄰的兩個所述黑矩陣之間；在所述次像素區(qū)域形成彩色濾光層。通過本發(fā)明之彩色濾光片的制作方法得到的彩色濾光片表面平整，無段差，且能防止漏光。
【IPC分類】G02F1/1335
【公開號】CN105445991
【申請?zhí)枴緾N201410833241
【發(fā)明人】張瑞軍, 覃事建
【申請人】深圳市華星光電技術(shù)有限公司
【公開日】2016年3月30日
【申請日】2014年12月26日
【公告號】WO2016101350A1