具有包括由非氧化或至少部分非氧化的陶瓷制成的防粘涂層的烹飪表面的烹飪裝置及包 ...的制作方法
【專利說明】具有包括由非氧化或至少部分非氧化的陶瓷制成的防粘涂 層的烹飪表面的烹飪裝置及包括這種烹飪裝置的廚用器具 或烹飪家電設(shè)備
[0001] 本發(fā)明總體涉及一種屬于廚用器具或?qū)儆谂腼兗译娫O(shè)備的烹飪裝置，所述烹飪裝 置具有至少一個涂覆有形成烹飪表面的防粘陶瓷涂層的面。本發(fā)明還涉及這種烹飪裝置的 制造方法。
[0002] 目標(biāo)領(lǐng)域首先是廚用器具領(lǐng)域，但本發(fā)明還可涉及任何其他類型的用于食物烹飪 的器具，諸如用于食物烹飪的家電設(shè)備。
[0003] 本領(lǐng)域技術(shù)人員已知使用通過溶膠-凝膠方法而獲得的氧化陶瓷涂層。這主要涉 及由烷氧基硅烷類型的前體通過溶膠-凝膠方法而獲得的涂層。
[0004] 目前，不可能通過溶膠-凝膠方法來實現(xiàn)非氧化或至少部分非氧化的陶瓷（即陶 瓷材料的至少25 %的部分是非氧化的）。
[0005] 為了實現(xiàn)這種陶瓷（即，非氧化或至少部分非氧化的陶瓷），本領(lǐng)域的技術(shù)人員已 知諸如氣相物理沉淀（通常由"物理氣相沉淀"的英文縮寫PVD表示）的不同技術(shù)，例如磁 控管陰極噴涂。尤其，可通過此技術(shù)（磁控管陰極噴涂）將過渡金屬的氮化物或硼化物沉 淀在不銹鋼制成的基體上。所獲得的涂層在具有硬度和強(qiáng)抗氧化的性質(zhì)的同時，與沒有涂 層的不銹鋼制成的烹飪表面相比，還具有在烹飪期間的食物防粘特性以及非常好的清潔方 便性。
[0006] 然而，真空沉淀（尤其通過磁控管陰極噴涂）的實施具有的缺點是引起制造成本 的上升。
[0007] 為了避免真空沉淀及其引起的高成本的限制并且獲得等同的性能水平，本申請人 通過預(yù)陶瓷化聚合物（通常由"聚合物衍生陶瓷"的英文縮寫PDC表示）方法來實現(xiàn)在烹 飪支撐部上的非氧化或至少部分非氧化的陶瓷涂層的實施方法，以便獲得烹飪裝置。
[0008] 預(yù)陶瓷化聚合物方法與用于非氧化或至少部分非氧化的材料的合成的溶膠-凝 膠方法類似。
[0009] 在本發(fā)明中，至少部分非氧化的陶瓷材料指的是一種陶瓷材料，該陶瓷材料包括 非氧化部分，該非氧化部分占涂層的至少25%的原子百分比。
[0010] 作為完全氧化的材料的示例，可例如引用二氧化硅Si02。
[0011] 作為至少部分地非氧化的材料的示例，并且根據(jù)本發(fā)明，可例如引用碳氧化硅 SiCOo
[0012] 本發(fā)明因此具有的目的是提供一種烹飪裝置，所述烹飪裝置具有支撐部，所述支 撐部包括能夠收納食物的內(nèi)面和/或上面以及外面和/或下面，所述內(nèi)面和/或上面涂覆 有防粘涂層，所述防粘涂層形成烹飪表面。
[0013] 根據(jù)本發(fā)明，所述防粘涂層包括至少一層非氧化的連續(xù)的陶瓷薄層或由聚合物衍 生的至少部分非氧化的連續(xù)的陶瓷薄層，所述薄層形成所述烹飪表面。
[0014] 在本發(fā)明中，所述薄層是由聚合物衍生陶瓷制成的，其涉及一種非氧化的陶瓷或 至少部分地非氧化的陶瓷。
[0015] 有利地，根據(jù)本發(fā)明的烹飪裝置的防粘涂層可包括至少一層由聚合物衍生的非氧 化的連續(xù)的陶瓷薄層或由聚合物衍生的至少部分非氧化的連續(xù)的陶瓷薄層，所述薄層形成 所述烹飪表面。
[0016] 根據(jù)本發(fā)明的配備有這種涂層的烹飪裝置具有以下聯(lián)合的優(yōu)點：
[0017] -在烹飪期間的食物防粘性，
[0018] -出色的清潔方便性以及該清潔方便性的持久性，
[0019] -防劃痕，
[0020] -防污性，
[0021] -顏色和外觀的穩(wěn)定性。
[0022] 有利地，根據(jù)本發(fā)明的防粘涂層的非氧化陶瓷或至少部分地非氧化陶瓷由至少一 種預(yù)陶瓷化聚合物獲得，所述預(yù)陶瓷化聚合物滿足通式（1):
【主權(quán)項】
1. 一種烹飪裝置，所述烹飪裝置具有支撐部，所述支撐部包括能夠收納食物的內(nèi)面和 /或上面以及外面和/或下面，所述內(nèi)面和/或上面涂覆有防粘涂層，所述防粘涂層形成烹 飪表面， 其特征在于，所述防粘涂層包括至少一層非氧化的連續(xù)的陶瓷薄層或由聚合物衍生的 至少部分非氧化的連續(xù)的陶瓷薄層，所述薄層形成所述烹飪表面。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的烹飪裝置，其特征在于，所述防粘涂層包括至少一層由聚合 物衍生的非氧化的連續(xù)的陶瓷薄層或由聚合物衍生的至少部分非氧化的連續(xù)的陶瓷薄層， 所述薄層形成所述烹飪表面。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的烹飪裝置，其特征在于，非氧化的或至少部分非氧化的所 述陶瓷由至少一種預(yù)陶瓷化聚合物獲得，所述預(yù)陶瓷化聚合物滿足通式（1):
其中： -X表示在0, B, N或C中選擇的元素， -Y表示在B, N, C, C = C,和=C = N中選擇的元素， -Z表示在過渡金屬、娃和錯中選擇的金屬元素， -Rp R' i、R2、R' 2表示H或者烷基、苯基、酰基或芳烷基類型的羥鏈。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的烹飪裝置，其特征在于，所述薄層具有介于0. 5 和50 μ m之間的厚度。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的烹飪裝置，其特征在于，所述支撐部由在金屬、 玻璃、陶瓷和玻璃陶瓷中選擇的材料制成。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的烹飪裝置，其特征在于，所述支撐部是金屬的，并且包括以下 結(jié)構(gòu)： -單層結(jié)構(gòu)，所述單層結(jié)構(gòu)由經(jīng)陽極處理或未經(jīng)陽極處理的鋁而制成，或者由拋光的、 經(jīng)刷擦的或經(jīng)微珠化的、經(jīng)噴砂處理的、經(jīng)化學(xué)處理的鋁制成、或者由鑄鋁而制成，由尤其 不銹鋼而制成，所述不銹鋼可為拋光的、經(jīng)刷擦的或者經(jīng)微珠化的，或者由鑄鋼制成，或者 由鍛打的或拋光的銅制成；或者 -多層結(jié)構(gòu)，所述多層結(jié)構(gòu)從外向內(nèi)包括以下層：鐵素體不銹鋼/鋁/奧氏體不銹鋼/， 又或者不銹鋼/鋁/銅/鋁/奧氏體不銹鋼，又或者襯有由不銹鋼制成的外底部的由鑄鋁、 鋁或鋁合金制成的帽狀部。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的烹飪裝置，其特征在于，所述防粘涂層包括至少 一層非氧化的或至少部分非氧化的陶瓷底層，所述底層設(shè)置在所述薄層下面。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的烹飪裝置，其特征在于，所述底層和/或所述薄 層包括至少一種填充物和/或至少一種顏料。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的烹飪裝置，其特征在于，所述填充物在由Al 203、SiC、Si3N4、 B 4C、TiC、TiB2、CrB2、ZrBjP它們的混合物所構(gòu)成的組中選擇。
10. 根據(jù)權(quán)利要求8或9任一項所述的烹飪裝置，其特征在于，所述填充物根據(jù)占所述 底層或所述薄層的總質(zhì)量最多50%的質(zhì)量而存在。
11. 一種廚用器具，所述廚用器具包括烹飪裝置，所述烹飪裝置具有支撐部，所述支撐 部包括能夠收納食物的內(nèi)面和/或上面以及用于放置在熱源一側(cè)的外面和/或下面，所述 內(nèi)面和/或上面涂覆有防粘涂層，所述防粘涂層形成烹飪表面，其特征在于，所述烹飪裝置 是根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的烹飪裝置。
12. -種烹飪家電設(shè)備，所述烹飪家電設(shè)備包括烹飪裝置，所述烹飪裝置具有支撐部， 所述支撐部包括能夠收納食物的內(nèi)面和/或上面以及由所述設(shè)備承載的外面和/或下面， 所述內(nèi)面和/或上面涂覆有防粘涂層，所述防粘涂層形成烹飪表面，其特征在于，所述烹飪 裝置是根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的烹飪裝置。
13. -種烹飪裝置的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括以下步驟： a) 具有至少兩個相對的面的支撐部的供應(yīng)和/或?qū)崿F(xiàn)步驟； b) 預(yù)陶瓷化聚合物的制備步驟，所述預(yù)陶瓷化聚合物由所述聚合物的分子前體來制 備，所述制備步驟包括將所述分子前體在流體中懸浮，該流體可為有機(jī)溶劑或水，隨后是所 述分子前體的聚合以獲得預(yù)陶瓷化聚合物的混合物； c) 在所述支撐部的至少一個面上施加至少一層所述預(yù)陶瓷化聚合物的混合物的步 驟； d) 可選的干燥步驟，和 e) 熱處理步驟，其用于陶瓷化所述預(yù)陶瓷化聚合物并且因此形成由聚合物衍生的非氧 化的或由聚合物衍生的至少部分非氧化的陶瓷薄層。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其特征在于，所述預(yù)陶瓷化聚合物滿足通式（1): 其中：
-X表示在0, B, N或C中選擇的元素， -Y表示在B, N, C, C = C,和=C = N中選擇的元素， -Z表示在過渡金屬、娃和錯中選擇的金屬元素， -Rp R' i、R2、R' 2表示H或者烷基、苯基、?；蚍纪榛愋偷牧u鏈。
15. 根據(jù)權(quán)利要求13或14中任一項所述的方法，其特征在于，所述預(yù)陶瓷化聚合物的 混合物的施加通過噴涂、浸漬或旋轉(zhuǎn)沉淀而實現(xiàn)。
16. 根據(jù)權(quán)利要求13至15中任一項所述的方法，其特征在于，所述熱處理步驟在快速 退火式烤爐中以1350°C的最大溫度在小于4小時的持續(xù)時間期間實現(xiàn)。
17. 根據(jù)權(quán)利要求13至16中任一項所述的方法，其特征在于，所述支撐部具有所述烹 飪裝置的最終形式，所述支撐部包括一底部，所述底部具有能夠收納食物的內(nèi)面和/或上 面以及用于放置在熱源一側(cè)的外面和/或下面。
【專利摘要】本發(fā)明的目的是提供一種烹飪裝置，尤其是屬于廚用器具或?qū)儆谂腼兗译娫O(shè)備的烹飪裝置，所述烹飪裝置包括能夠收納食物的內(nèi)面和/或上面以及外面和/或下面，所述內(nèi)面和/或上面涂覆有防粘涂層，所述防粘涂層形成烹飪表面。根據(jù)本發(fā)明，所述防粘涂層包括至少一層非氧化的連續(xù)的陶瓷薄層或由聚合物衍生的至少部分非氧化的連續(xù)的陶瓷薄層，所述薄層形成所述烹飪表面。本發(fā)明還涉及一種該烹飪裝置的制造方法。
【IPC分類】A47J36-02
【公開號】CN104768435
【申請?zhí)枴緾N201380057741
【發(fā)明人】西蒙·阿萊芒德, 斯特凡·蒂弗
【申請人】Seb公司
【公開日】2015年7月8日
【申請日】2013年11月6日
【公告號】EP2916701A1, WO2014072635A1