Oled顯示器件及其制備方法、顯示面板和顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及OLED顯示器件及其制備方法、顯示面板和顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)電致發(fā)光二極管(Organic Light Emitting D1de，OLED)顯示器件是一種利用電流驅(qū)動(dòng)有機(jī)半導(dǎo)體薄膜發(fā)光的器件，其結(jié)構(gòu)屬于夾層式結(jié)構(gòu)，通常由陽極、空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層和陰極等組成。在外電場的作用下，電子和電空穴被注入至有機(jī)發(fā)光層，然后在發(fā)光層內(nèi)復(fù)合后形成激子，由激子輻射衰減而發(fā)光。由于OLED顯示器件具有高對(duì)比度、高亮度、自發(fā)光、色域?qū)捄洼p薄等特點(diǎn)，被視為比較具有發(fā)展前景的一代顯示技術(shù)。
[0003]有源矩陣有機(jī)電致發(fā)光二極管(ActiveMatrix Organic Light Emitting D1de，AM0LED)顯示器件是OLED顯示器件的一種。對(duì)于R/G/B型AMOLED顯示器件，一個(gè)AMOLED顯示器件為一個(gè)包括R/G/B亞像素的像素單元，采用金屬遮罩(Fine Metal Shadow Mask，F(xiàn)MM)技術(shù)形成該AMOLED顯示器件的R/G/B亞像素。但是，由于目前無法形成更精細(xì)的FMM，因此，相應(yīng)的采用FMM技術(shù)制備的AMOLED顯示器件的精細(xì)化程度較低，導(dǎo)致采用FMM技術(shù)制備的AMOLED顯示器件的顯示面板的分辨率較低。雖然，現(xiàn)有技術(shù)中，可以白光OLED加色阻的設(shè)計(jì)來提高AMOLED顯示器件的精細(xì)化程度，但是由于色阻會(huì)使光透過率降低，因此該方法制備的AMOLED顯示器件的亮度大大降低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是提供一種OLED顯示器件及其制備方法、顯示面板和顯示裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)制備的AMOLED顯示器件精細(xì)化程度低，導(dǎo)致顯示面板分辨率低的問題。
[0005]本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0006]本發(fā)明實(shí)施例提供一種OLED顯示器件的制備方法，所述OLED顯示器件對(duì)應(yīng)一個(gè)像素單元，包括:
[0007]提供形成有陽極層和空穴注入層的襯底基板；
[0008]提供第一成型基板和第二成型基板，利用微機(jī)電系統(tǒng)(Micro ElectroMechanical Systems)工藝在所述第一成型基板上形成第一陰模、以及在所述第二成型基板上形成第二陰模；其中，所述第一陰模用于制備與所述像素單元的亞像素對(duì)應(yīng)的空穴傳輸層，所述第二陰模用于制備與所述像素單元的亞像素對(duì)應(yīng)的有機(jī)發(fā)光層；
[0009]采用浸泡工藝使所述第一陰模內(nèi)浸滿空穴傳輸層材料溶液，固化處理得到空穴傳輸層，以及采用浸泡工藝使所述第二陰模內(nèi)浸滿有機(jī)發(fā)光層材料溶液，固化處理得到有機(jī)發(fā)光層；
[0010]將所述第一陰模內(nèi)的所述空穴傳輸層和所述第二陰模內(nèi)的所述有機(jī)發(fā)光層依次通過轉(zhuǎn)移載體轉(zhuǎn)移到所述襯底基板上；
[0011]在完成上述步驟的所述襯底基板上形成電子傳輸層、電子注入層和陰極層。
[0012]本實(shí)施例中，通過微機(jī)電系統(tǒng)工藝形成用于制備亞像素的空穴傳輸層的第一陰模、以及形成用于制備亞像素的有機(jī)發(fā)光層的第二陰模，能夠得到精細(xì)度較高的空穴傳輸層和有機(jī)發(fā)光層，從而使制備形成的OLED顯示器件的像素更精細(xì)，應(yīng)用于顯示面板時(shí)，能夠提高顯示面板的分辨率。
[0013]優(yōu)選的，所述采用浸泡工藝使所述第一陰模內(nèi)浸滿空穴傳輸層材料溶液，以及采用浸泡工藝使所述第二陰模內(nèi)浸滿有機(jī)發(fā)光層材料溶液之前，還包括:
[0014]分別在所述第一陰模內(nèi)和所述第二陰模內(nèi)形成脫模層。
[0015]本實(shí)施例中，在所述第一陰膜和所述第二陰模內(nèi)形成脫模層，有利于提高效率。
[0016]優(yōu)選的，所述脫模層的材料為表面活性劑。
[0017]優(yōu)選的，將所述第一陰模內(nèi)的所述空穴傳輸層和所述第二陰模內(nèi)的所述有機(jī)發(fā)光層依次通過轉(zhuǎn)移載體轉(zhuǎn)移到所述襯底基板上，具體包括:
[0018]將所述第一成型基板與第一轉(zhuǎn)移載體對(duì)位貼合并脫模，使所述空穴傳輸層轉(zhuǎn)移至所述第一轉(zhuǎn)移載體上，繼續(xù)將所述第一轉(zhuǎn)移載體與所述襯底基板對(duì)位貼合并剝離所述第一轉(zhuǎn)移載體，使所述空穴傳輸層貼合于所述襯底基板上；
[0019]將所述第二成型基板與第二轉(zhuǎn)移載體對(duì)位貼合并脫模，使所述有機(jī)發(fā)光層轉(zhuǎn)移至所述第二轉(zhuǎn)移載體上，繼續(xù)將所述第二轉(zhuǎn)移載體與所述襯底基板對(duì)位貼合并剝離所述第二轉(zhuǎn)移載體，使所述有機(jī)發(fā)光層貼合于所述襯底基板上。
[0020]優(yōu)選的，剝離所述第一轉(zhuǎn)移載體和剝離所述第二轉(zhuǎn)移載體時(shí)的環(huán)境溫度為小于5。。。
[0021]優(yōu)選的，采用浸泡工藝使所述第一陰模內(nèi)浸滿空穴傳輸層材料溶液之前，以及采用浸泡工藝使所述第二陰模內(nèi)浸滿有機(jī)發(fā)光層材料溶液之前，還包括在真空環(huán)境下完成空穴傳輸層材料溶液和有機(jī)發(fā)光層材料溶液的調(diào)配。
[0022]優(yōu)選的，與所述像素單元的不同亞像素相對(duì)應(yīng)的不同所述第一陰模的深度相等。
[0023]優(yōu)選的，與所述像素單元的不同亞像素相對(duì)應(yīng)的不同所述第二陰模的深度相等。
[0024]優(yōu)選的，所述第一成型基板和所述第二成型基板為石英基板。
[0025]本發(fā)明實(shí)施例有益效果如下:通過微機(jī)電加工工藝形成用于制備亞像素的空穴傳輸層的第一陰模、以及形成用于制備亞像素的有機(jī)發(fā)光層的第二陰模，能夠得到精細(xì)度較高的空穴傳輸層和有機(jī)發(fā)光層，從而使制備形成的OLED顯示器件的像素更精細(xì)，應(yīng)用于顯示面板時(shí)，能夠提高顯示面板的分辨率。
[0026]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示器件，采用上述實(shí)施例提供的制備方法制備。
[0027]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種顯示面板，包括如上實(shí)施例提供的所述OLED顯示器件。
[0028]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種顯示裝置，包括如上實(shí)施例提供的所述顯示面板。
[0029]本發(fā)明實(shí)施例有益效果如下:通過微機(jī)電系統(tǒng)工藝形成用于制備亞像素的空穴傳輸層的第一陰模、以及形成用于制備亞像素的有機(jī)發(fā)光層的第二陰模，能夠得到精細(xì)度較高的空穴傳輸層和有機(jī)發(fā)光層，從而使制備形成的OLED顯示器件的像素更精細(xì)，應(yīng)用于顯示面板和顯示裝置時(shí)，能夠制備更高分辨率的顯示面板和顯示裝置。
【附圖說明】
[0030]圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的OLED顯示器件的制備方法的流程圖；
[0031]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的第一種OLED顯示器件的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的第二種OLED顯示器件的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0033]下面結(jié)合說明書附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施例的實(shí)現(xiàn)過程進(jìn)行詳細(xì)說明。需要注意的是，自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。
[0034]參見圖1，本發(fā)明實(shí)施例提供一種OLED顯示器件的制備方法，OLED顯示器件對(duì)應(yīng)一個(gè)像素單元，包括:
[0035]101，提供形成有陽極層和空穴注入層的襯底基板。
[0036]102，提供第一成型基板和第二成型基板，利用微機(jī)電系統(tǒng)工藝在第一成型基板上形成第一陰模、以及在第二成型基板上形成第二陰模；其中，第一陰模用于制備與像素單元的亞像素對(duì)應(yīng)的空穴傳輸層，第二陰模用于制備與像素單元的亞像素對(duì)應(yīng)的有機(jī)發(fā)光層。
[0037]對(duì)于OLED顯示器件而言，空穴傳輸層和有機(jī)發(fā)光層是否精細(xì)，尤其有機(jī)發(fā)光層是否具有高的精細(xì)度，關(guān)乎OLED顯示器件是否具有高的精細(xì)度。由于微機(jī)電系統(tǒng)工藝直接在成型基板(例如第一成型基板和第二成型基板)上形成第一陰模和第二陰模，因此，第一陰模和第二陰模可以達(dá)到較高的精細(xì)化程度，而第一陰模用于制備與像素單元的亞像素對(duì)應(yīng)的空穴傳輸層，第二陰模用于制備與像素單元的亞像素對(duì)應(yīng)的有機(jī)發(fā)光層，在第一陰模和第二陰模精細(xì)化程度較高的情況下，相應(yīng)的，能夠得到精細(xì)化程度較高的空穴傳輸層和有機(jī)發(fā)光層，因此，可以得到精細(xì)化程度較高的OLED顯示器件。
[0038]優(yōu)選的，與像素單元的不同亞像素相對(duì)應(yīng)的不同第一陰模的深度相等。
[0039]相似的，與像素單元的不同亞像素相對(duì)應(yīng)的不同第二陰模的深度相等。
[0040]103，采用浸泡工藝使第一陰模內(nèi)浸滿空穴傳輸層材料溶液，固化處理得到空穴傳輸層，以及采用浸泡工藝使第二陰模內(nèi)浸滿有機(jī)發(fā)光層材料溶液，固化處理得到有機(jī)發(fā)光層O
[0041]優(yōu)選的，103之前，還包括:
[0042]分別在第一陰模內(nèi)和第二陰模內(nèi)形成脫模層。脫模層的材料可以選用表面活性劑。本實(shí)施例中，在第一陰膜和第二陰模內(nèi)形成脫模層，可以使脫模效率提高。
[0043]104，將第一陰模內(nèi)的空穴傳輸層和第二陰模內(nèi)的有機(jī)發(fā)光層依次通過轉(zhuǎn)移載體轉(zhuǎn)移到襯底基板上。
[0044]具體如下:
[0045]將第一成型基板與第一轉(zhuǎn)移載體對(duì)位貼合并脫模，使空穴傳輸層轉(zhuǎn)移至第一轉(zhuǎn)移載體上，繼續(xù)將第一轉(zhuǎn)移載體與襯底基板對(duì)位貼合并剝離第一轉(zhuǎn)移載體，使空穴傳輸層