本發(fā)明涉及一種用于傳送基板的裝置，并且更具體地涉及這樣一種用于傳送基板的裝置，其中所述基板在被傳送以用于進行清潔工藝或蝕刻工藝時是傾斜的，從而導致工藝液體在一個方向上流動并由此提高清潔工藝或蝕刻工藝的效率。

背景技術(shù)：

為了對基板進行各種工藝，例如，清潔工藝或蝕刻工藝，需要用于傳送基板的裝置。

這樣的用于傳送基板的裝置大多采用傳送水平設(shè)置的基板的方法。然而，如果要借助于從玻璃上方噴射的液體來進行清潔工藝或蝕刻工藝的玻璃被水平設(shè)置的話，則工藝液體可能會保留在玻璃上，使得清潔工藝或蝕刻工藝無法被均勻地執(zhí)行，并且某些部分可能會被過度清潔或蝕刻，從而降低工藝效率。

由于這些問題，最近已經(jīng)采用了這樣的用于對大型基板進行清潔工藝或蝕刻工藝的方法，其中以水平設(shè)置的方式進行傳送的大型基板停在某一位置并以預定的角度傾斜，并且工藝液體從基板的上方噴射到傾斜的基板。

當蝕刻工藝或清潔工藝完成時，基板被再次水平地鋪放并被傳送，從而完成清潔工藝或蝕刻工藝。然而，如果針對大型基板額外地執(zhí)行這樣的傾斜過程，則整個工藝的生產(chǎn)節(jié)拍時間會增加，從而降低了生產(chǎn)效率。此外，大型基板在傾斜的時候可能會被損壞。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

因此，本發(fā)明被設(shè)想來解決上述問題，并且本發(fā)明的一個方面是提供一種用于傳送基板的裝置，其中基板在被傳送以用于進行清潔工藝或蝕刻工藝時是傾斜的，從而導致工藝液體在一個方向上流動并由此提高清潔工藝或蝕刻工藝的效率。

依據(jù)本發(fā)明的實施方式，提供了一種用于傳送基板的裝置，所述裝置包括：一對 框架，這一對框架包括布置成彼此面對的第一框架和第二框架；以及多個旋轉(zhuǎn)棒，所述多個旋轉(zhuǎn)棒均包括以可旋轉(zhuǎn)的方式安裝到所述第一框架上的一個端部和以可旋轉(zhuǎn)的方式安裝到所述第二框架上的另一端部，并且所述多個旋轉(zhuǎn)棒以彼此間隔開的方式接連布置，其中所述旋轉(zhuǎn)棒的安裝到所述第一框架的所述一個端部被維持為具有相同的高度，并且所述旋轉(zhuǎn)棒的接連地安裝到所述第二框架的所述另一端部被安裝為具有下述區(qū)段，在該區(qū)段中，朝向傳送所述基板的方向，高度連續(xù)地增加并再次連續(xù)地減少。

所述第一框架和所述第二框架中的每個上可相繼地形成有彼此間隔開并向上突出的分隔壁；可由相鄰的所述分隔壁形成支架安裝部；并且與所述旋轉(zhuǎn)棒的端部相聯(lián)接的軸承組件被安裝到一支架，所述支架可被插入并聯(lián)接到每個支架安裝部中。

形成在所述第一框架上的所述支架安裝部的底部可被維持為具有相同的高度；相繼形成在所述第二框架上的所述支架安裝部的底部可被形成為具有下述區(qū)段，在該區(qū)段中，朝向傳送所述基板的方向，高度連續(xù)地增加并再次連續(xù)地減少；并且所述支架可被形成為具有相同的尺寸。

插入并聯(lián)接到形成于下述區(qū)段中的所述支架安裝部的每個支架可包括供穩(wěn)定地安置所述軸承組件的傾斜的底部接觸表面，在所述區(qū)段中，在朝向傳送所述基板的方向，高度連續(xù)地增加并再次連續(xù)地減少。

附圖說明

根據(jù)與附圖一起呈現(xiàn)的例證性實施方式的以下說明，本發(fā)明的以上和/或其它方面將變得清楚并更容易理解，在圖中：

圖1是根據(jù)本發(fā)明的實施方式的用于傳送基板的裝置的平面圖；

圖2是裝置的一個側(cè)視圖；

圖3是裝置的另一側(cè)視圖；

圖4是裝置的局部分解立體圖；

圖5是應用到根據(jù)本發(fā)明的實施方式的用于傳送基板的裝置的支架的截面圖。

具體實施方式

下文中，將參考附圖描述根據(jù)本發(fā)明的用于傳送基板的裝置的例證性實施方式。

為了清晰和便于描述起見，附圖中示出的元件的尺寸、形狀等等可放大。另外，考慮到本發(fā)明的配置和操作而特別限定的術(shù)語可根據(jù)用戶和操作者的意向或?qū)嵺`而變化。關(guān)于這樣的術(shù)語的定義必須基于在以下說明書的全文中給出的內(nèi)容。

圖1是根據(jù)本發(fā)明的實施方式的用于傳送基板的裝置100的平面圖；圖2是裝置100的一個側(cè)視圖；圖3是裝置100的另一側(cè)視圖；以及圖4是裝置100的局部分解立體圖。如圖1至圖4所示，用于傳送基板的裝置100包括：布置成彼此面對的一對框架10a和10b；以及多個旋轉(zhuǎn)棒30，這多個旋轉(zhuǎn)棒30的每個端部以可旋轉(zhuǎn)的方式聯(lián)接到這一對框架10a和10b。

這一對框架10a和10b包括：對應于一個框架的第一框架10a；以及對應于另一框架的第二框架10b。每個旋轉(zhuǎn)棒30均具有：以可旋轉(zhuǎn)的方式安裝到第一框架10a的一個端部；以及以可旋轉(zhuǎn)的方式安裝到第二框架10b的另一端部。

多個旋轉(zhuǎn)棒30安裝到第一框架10a和第二框架10b，并且被布置成間隔開預定的距離，使得基板1可以以穩(wěn)定地安置在多個旋轉(zhuǎn)棒30上的方式被傳送。

也就是說，多個旋轉(zhuǎn)棒30具有以可旋轉(zhuǎn)的方式安裝到第一框架10a的一個端部30a以及以可旋轉(zhuǎn)的方式安裝到第二框架10b的另一端部30b，并且多個旋轉(zhuǎn)棒30被接連地布置成彼此間隔開。因此，如果在把基板穩(wěn)定地安置在多個旋轉(zhuǎn)棒30上的狀態(tài)下使旋轉(zhuǎn)棒30旋轉(zhuǎn)，則基板將在水平方向上進行傳送。

每個旋轉(zhuǎn)棒30均包括多個支撐環(huán)31，多個支撐環(huán)31被布置成彼此間隔開預定的距離。支撐環(huán)31用來接觸并支撐基板1。也就是說，基板1被穩(wěn)定地安置在聯(lián)接到并設(shè)置于旋轉(zhuǎn)棒30上的多個支撐環(huán)31之上。

支撐環(huán)31如同非常薄的盤一樣成形，并且隨著旋轉(zhuǎn)棒30的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)。因此，穩(wěn)定地安置在支撐環(huán)31上的基板10在水平方向上進行傳送。

旋轉(zhuǎn)棒30的旋轉(zhuǎn)可由各種方法實現(xiàn)。例如，可經(jīng)由齒輪嚙合或磁性輸送器結(jié)構(gòu)來同時旋轉(zhuǎn)多個旋轉(zhuǎn)棒。在該實施方式中，可采取現(xiàn)有方法中的任意一種，只要這種方法可以使旋轉(zhuǎn)棒30同時旋轉(zhuǎn)即可。

根據(jù)本發(fā)明的實施方式，用于傳送基板的裝置100在傳送大型基板的同時進行清潔工藝或蝕刻工藝。由此，裝置100可以在使基板1傾斜而不停止的情況下進行清潔工藝或蝕刻工藝。

也就是說，根據(jù)本發(fā)明的實施方式的用于傳送基板的裝置100在傳送基板時并不 使用任何單獨的傾斜裝置，并且在基板被傳送以進行清潔工藝或蝕刻工藝時并不停止的情況下對基板進行清潔工藝或蝕刻工藝。

為此，根據(jù)本發(fā)明的用于傳送基板的裝置100被配置成使得旋轉(zhuǎn)棒30可以傾斜。換句話說，旋轉(zhuǎn)棒30之中的一些旋轉(zhuǎn)棒30可從第一框架10a上升或下降至第二框架10b。

具體而言，如圖2所示，旋轉(zhuǎn)棒30的安裝到第一框架10a的一個端部30a被布置為具有相同的高度；并且如圖3所示，旋轉(zhuǎn)棒30的接連地安裝到第二框架10b的另一端部30b被布置為具有下述區(qū)段，在該區(qū)段中，基板1沿著傳送方向接連地上升和下降。

由此，旋轉(zhuǎn)棒30具有：基板1保持水平的水平區(qū)段；基板1傾斜的傾斜區(qū)段；再次是水平區(qū)段。因此，基板1在經(jīng)過傾斜區(qū)段的同時經(jīng)歷清潔工藝或蝕刻工藝，并因此使從基板1上方噴射的工藝液體從基板1的一側(cè)流向另一側(cè)(因為基板1保持傾斜)，從而在沒有工藝液體殘留的情況下對到基板1進行清潔工藝或蝕刻工藝。

此外，因為并未采取單獨的傾斜裝置來使基板傾斜而是使基板自然傾斜，所以本發(fā)明簡化了裝置的整個結(jié)構(gòu)并降低了裝置的成本。另外，有利的是減少了整個工藝的生產(chǎn)節(jié)拍時間并提高了生產(chǎn)效率，這是因為沒有必要停止傳送基板的操作來執(zhí)行清潔工藝等。

如上所述，旋轉(zhuǎn)棒30的每個端部以可旋轉(zhuǎn)的方式聯(lián)接到一對框架，即，第一框架10a和第二框架10b。為此，根據(jù)本發(fā)明的實施方式，第一框架10a和第二框架10b上接連地形成有彼此間隔開并向上突出的分隔壁11a和11b，使得相鄰的分隔壁可以形成支架安裝部13a、13b，并且每個支架安裝部均接收并聯(lián)接支架70a、70b，聯(lián)接到旋轉(zhuǎn)棒30的端部的軸承組件50a、50b被安裝到支架70a、70b。

分隔壁11a和11b包括：分隔壁11a，該分隔壁11a間隔開預定的距離并且突出于第一框架10a；以及分隔壁11b，該分隔壁11b間隔開預定的距離并且突出于第二框架10b。

形成在第一框架10a上的分隔壁11a以及形成在第二框架10b上的分隔壁11b可突出為具有相同的長度。此外，形成在第一框架10a上的分隔壁11a可突出為具有相同的長度，并且形成在第一框架10b上的分隔壁11b也可突出為具有相同的長度。

然而，形成在第一框架10a上的分隔壁11a具有相同的高度，并且形成在第二框 架10b上的分隔壁11b具有相同的長度但具有不同的高度。

也就是說，如圖3所示，形成在第二框架10b上的分隔壁11b分為：第一水平區(qū)段a，其中在傳送基板的方向上，高度是恒定的；上升區(qū)段b，其中高度從第一水平區(qū)段a的終點起連續(xù)地增加；第二水平區(qū)段c，其中高度從上升區(qū)段b的終點起是恒定的；下降區(qū)段d，其中高度從第二水平區(qū)段c的終點起連續(xù)地減少；以及第三水平區(qū)段e，其中高度從下降區(qū)段d的終點起是恒定的。

形成在(形成在第一框架10a上的)分隔壁11a之間的空間，即，支架安裝部13a，與形成在(形成在第二框架10b上的)分隔壁11b之間的空間，即，支架安裝部13b，可具有相同的尺寸和形狀。此外，如圖2所示，形成在(形成在第一框架10a上的)分隔壁11a之間的空間，即，支架安裝部13a可具有相同的深度。換句話說，形成在第一框架10a上的支架安裝部13a的底部13a'都彼此維持在同一水平上。

然而，如圖3所示，形成在(形成在第二框架10b上的)分隔壁11b之間的空間，即，支架安裝部13b，可具有彼此不同的深度。換句話說，接連地形成在第二框架10b上的支架安裝部13b的底部13b'形成為具有朝向傳送基板1的方向接連地上升的區(qū)段以及再次接連地下降的區(qū)段。

具體而言，接連地形成在第二框架10b上的支架安裝部13b的底部13b'形成為具有：第一水平區(qū)段a，其中在傳送基板的方向上，高度是恒定的；上升區(qū)段b，其中高度從水平區(qū)段a的終點起連續(xù)地增加；第二水平區(qū)段c，其中高度從上升區(qū)段b的終點起是恒定的；下降區(qū)段d，其中高度從第二水平區(qū)段c的終點起連續(xù)地減少；以及第三水平區(qū)段e，其中高度從下降區(qū)段d的終點起是恒定的。

與旋轉(zhuǎn)棒30的端部聯(lián)接的軸承組件50a和50b被安裝到支架70a和70b，支架70a和70b被分別插入并聯(lián)接到支架安裝部13a和13b。具體而言，與旋轉(zhuǎn)棒30的端部30a聯(lián)接的軸承組件50a被安裝到支架70a，支架70a被插入并聯(lián)接到形成在第一框架10a上的支架安裝部13a；并且與旋轉(zhuǎn)棒30的端部30b聯(lián)接的軸承組件50b被安裝到支架70b，支架70b被插入并聯(lián)接到形成在第二框架10b上的支架安裝部13b。

聯(lián)接到旋轉(zhuǎn)棒30的一個端部30a的軸承組件50a可具有與聯(lián)接到旋轉(zhuǎn)棒30的另一端部30b的軸承組件50b相同的形狀和尺寸。

此外，與旋轉(zhuǎn)棒30的一個端部30a聯(lián)接的軸承組件50a被安裝到支架70a，與旋轉(zhuǎn)棒30的另一端部30b聯(lián)接的軸承組件50b被安裝到支架70b，支架70a可形成為 具有與支架70b相同的尺寸。

然而，下述支架70a和70b被分別形成為具有供穩(wěn)定地安置軸承組件50a和50b的傾斜的底部接觸表面70a'和70b'，所述支架70a和70b被插入并聯(lián)接到形成于下述區(qū)段中的支架安裝部13a和13b，在所述區(qū)段中，在朝向傳送基板1的方向上，高度連續(xù)地增加并再次減少。

具體而言，如圖5所示，插入并安裝到下述支架安裝部13a和13b的支架70a和70b的底部接觸表面70a'和70b'在旋轉(zhuǎn)棒30的長度方向上并非水平的而是傾斜的，所述支架安裝部13a和13b被包括在第一水平區(qū)段、上升區(qū)段、第二水平區(qū)段、下降區(qū)段以及第三水平區(qū)段中的上升區(qū)段、第二水平區(qū)段和下降區(qū)段中。

由此，插入并安裝到包括在上升區(qū)段、第二水平區(qū)段和下降區(qū)段中的支架安裝部13a和13b的支架70a和70b的底部接觸表面70a'和70b'之所以是傾斜的原因在于，隨著旋轉(zhuǎn)棒30被傾斜，分別聯(lián)接到旋轉(zhuǎn)棒30的端部30a和30b的軸承組件50a和50b可以傾斜地接觸支架70a和70b的底部接觸表面70a'和70b'。

也就是說，聯(lián)接到在上升區(qū)段、第二水平區(qū)段和下降區(qū)段中傾斜的旋轉(zhuǎn)棒30的兩個端部的軸承組件也以與旋轉(zhuǎn)棒相同的角度傾斜，并且支架70a和70b的在結(jié)構(gòu)上接觸傾斜的軸承組件的底部的底部接觸表面70a'和70b'也以與軸承組件相同的角度傾斜。由此，支架和軸承組件可以在結(jié)構(gòu)上穩(wěn)定而牢固地相聯(lián)接。

利用該配置，如果基板1由用于傳送基板1的裝置100進行傳送，則如圖3所示，基板1在被傳送時自然地傾斜。由此，當布置在基板1上方的噴射模塊(未示出)噴射工藝液體時，工藝液體從基板的一側(cè)流向另一側(cè)，并因此對基板有效地執(zhí)行清潔工藝或蝕刻工藝。也就是說，可以解決由于工藝液體殘留所導致的問題。

此外，因為并未使用單獨的傾斜裝置，所以可以簡化裝置100的結(jié)構(gòu)并降低成本。另外，可以防止在經(jīng)由單獨的傾斜裝置使大型基板傾斜時可能發(fā)生的大型基板的損壞。因為沒有必要停止傳送基板的操作以便經(jīng)由傾斜裝置使基板傾斜，所以生產(chǎn)節(jié)拍時間減少，從而提高了生產(chǎn)效率。

在根據(jù)本發(fā)明的實施方式的用于傳送基板的裝置中，在被傳送以經(jīng)歷清潔工藝或蝕刻工藝的同時使基板傾斜，從而導致工藝液體在一個方向上流動，并由此提高了清潔工藝或蝕刻工藝的效率。

此外，無需使用停止基板的傳送、以預定的角度使基板傾斜并進而執(zhí)行清潔工藝 或蝕刻工藝的現(xiàn)有方法，根據(jù)本發(fā)明的實施方式的用于傳送基板的裝置在連續(xù)傳送以經(jīng)歷所述工藝時使基板傾斜，從而減少了工藝的生產(chǎn)節(jié)拍時間并提高了工藝的效率。

雖然已經(jīng)示出并描述了本發(fā)明的若干例證性實施方式，但本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解的是，這些實施方式可做出改變而不脫離本發(fā)明的原理和精神，本發(fā)明的范圍被限定在隨附權(quán)利要求書及其等同物中。