專利名稱：：復(fù)合銅箔膜的生產(chǎn)工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及到一種制造電線電纜屏蔽層及電器連接的復(fù)合銅箔膜的生產(chǎn)工藝。
背景技術(shù)：
：銅箔膜廣泛使用于電線電纜屏蔽層及電器連接上，目前國內(nèi)生產(chǎn)的銅箔，是經(jīng)過冷扎、延壓、高溫退火形成的，其純度差，厚薄不均，且其表面氧化現(xiàn)象較嚴(yán)重，使用性能不佳，且使用壽命較短。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明針對上述缺陷，目的在于提供一種制造導(dǎo)電性能好、厚度均勻且其表面不易氧化的復(fù)合銅箔膜的生產(chǎn)工藝。本發(fā)明的技術(shù)方案是復(fù)合銅箔膜的生產(chǎn)工藝，它是按以下步驟進(jìn)行的-(1)選用聚脂薄膜為絕緣層，用干式復(fù)合機(jī)在聚脂薄膜的一表面涂絕緣膠液；(2)用烘干機(jī)烘干聚脂薄膜；(3)取電解銅箔，用壓滾機(jī)將電解銅箔的一面與聚脂薄膜進(jìn)行粘合，形成復(fù)合銅箔膜；(4)收巻機(jī)收巻，并把收巻好的復(fù)合銅箔薄膜放置在烘烤箱內(nèi)烘烤，烘烤箱的溫度控制在50-70°C，烘烤時間為36-50小時；(5)用分切機(jī)分切復(fù)合銅箔膜，制成成品。所述的銅箔先電解、然后壓制而成，在其另一面鍍有l(wèi)-3um厚的金屬鈦。本發(fā)明采用電解銅箔為導(dǎo)電層，其厚度比較均勻、純度高，且在電解銅箔的表面鍍有一層金屬鈦?zhàn)鰧?dǎo)電或屏蔽面，不易氧化，且其導(dǎo)電性能優(yōu)于銅。具體實(shí)施例方式本發(fā)明采用電解銅箔作為導(dǎo)電層，PET樹脂作為絕緣層，F(xiàn)級膠液作為粘合劑，其生產(chǎn)工藝如下(1)選用聚脂薄膜為絕緣層，用干式復(fù)合機(jī)在聚脂薄膜的一表面涂絕緣(2)用烘干機(jī)烘干聚脂薄膜；(3)取電解銅箔，用壓滾機(jī)將電解銅箔的一面與聚脂薄膜進(jìn)行粘合，形成復(fù)合銅箔膜；(4)收巻機(jī)收巻，并把復(fù)合銅箔薄膜放置在烘烤箱內(nèi)烘烤，烘烤箱的溫度控制在50-70°C，烘烤時間為36-50小時；(5)用分切機(jī)分切復(fù)合銅箔膜，制成成品。本發(fā)明可在使用電解銅箔前，先在電解銅箔的另一面鍍上一層金屬鈦。本發(fā)明生產(chǎn)出來的復(fù)合銅薄膜中使用的銅箔與傳統(tǒng)用冷軋延壓生產(chǎn)出來的銅箔的各項(xiàng)指標(biāo)如下:<table>tableseeoriginaldocumentpage4</column></row><table>從表中可以看出，本發(fā)明生產(chǎn)出來的復(fù)合銅箔膜具有粘合性好、含銅純度高、抗氧化性、導(dǎo)電性好等優(yōu)點(diǎn)，非常適合于電線電纜屏蔽層及電器的連接。權(quán)利要求1、復(fù)合銅箔膜的生產(chǎn)工藝，其特征在于，它是按以下步驟進(jìn)行的(1)選用聚脂薄膜為絕緣層，用干式復(fù)合機(jī)在聚脂薄膜的一表面涂絕緣膠液；(2)用烘干機(jī)烘干聚脂薄膜；(3)取電解銅箔，用壓滾機(jī)將電解銅箔的一面與聚脂薄膜進(jìn)行粘合，形成復(fù)合銅箔膜；(4)收卷機(jī)收卷，并把收卷好的復(fù)合銅箔薄膜放置在烘烤箱內(nèi)烘烤，烘烤箱的溫度控制在50-70℃，烘烤時間為36-50小時；(5)用分切機(jī)分切復(fù)合銅箔膜，制成成品。2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合銅箔膜的生產(chǎn)工藝，其特征在于，所述的銅箔先電解、然后壓制而成，在其另一面鍍有l(wèi)-3um厚的金屬鈦。全文摘要復(fù)合銅箔膜的生產(chǎn)工藝。本發(fā)明涉及到一種制造電線電纜屏蔽層及電器連接的復(fù)合銅箔膜的生產(chǎn)工藝。選用聚酯薄膜為絕緣層，用干式復(fù)合機(jī)在聚酯薄膜的一表面涂絕緣膠液；然后用烘干機(jī)烘干聚酯薄膜；接著取電解銅箔，用壓滾機(jī)將電解銅箔的一面與聚酯薄膜進(jìn)行粘合，形成復(fù)合銅箔膜；收卷機(jī)收卷，并把收卷好的復(fù)合銅箔薄膜放置在烘烤箱內(nèi)烘烤，烘烤箱的溫度控制在50-70℃，烘烤時間為36-50小時；最后用分切機(jī)分切復(fù)合銅箔膜，制成成品。本發(fā)明采用電解銅箔為導(dǎo)電層，其厚度比較均勻、純度高，且在電解銅箔的表面鍍有一層金屬鈦?zhàn)鰧?dǎo)電或屏蔽面，不易氧化，且其導(dǎo)電性能優(yōu)于銅。文檔編號H01B13/22GK101290821SQ200710021610公開日2008年10月22日申請日期2007年4月18日優(yōu)先權(quán)日2007年4月18日發(fā)明者云張申請人:云張