本發(fā)明涉及一種裸視板光學(xué)測(cè)試治具及其使用方法。

背景技術(shù)：

顯示設(shè)備依據(jù)用途或組件組設(shè)態(tài)樣可分為眾多類別，例如直下式、側(cè)入式顯示設(shè)備或反射式顯示設(shè)備等，該些顯示設(shè)備多半都須透過光源構(gòu)件提供充足光線進(jìn)行顯示。光源構(gòu)件主要仰賴光學(xué)組件使燈源光線形成面光源，并照射至顯示面板進(jìn)而顯示所需畫面。在光源構(gòu)件中，光學(xué)的呈現(xiàn)為影響顯示效果的重要因素之一，例如當(dāng)出光均勻度略有偏差時(shí)，顯示設(shè)備的畫面清晰度則會(huì)受其影響而大幅下降，整體光學(xué)品味亦隨之劣化。

一般來說，在設(shè)計(jì)光源構(gòu)件中的光學(xué)組件時(shí)，是依據(jù)配合使用的燈源種類、光學(xué)組件材質(zhì)、尺寸等條件進(jìn)行設(shè)計(jì)，利用光學(xué)組件將燈源光線均勻地照射至顯示面板。然而，光線極為敏感，些許結(jié)構(gòu)變化或燈源選擇等因素即會(huì)改變整體光學(xué)呈現(xiàn)與光學(xué)品味，例如當(dāng)光學(xué)組件與其余材質(zhì)薄膜結(jié)合使用時(shí)，受薄膜影響則會(huì)造成如局部區(qū)域過亮而導(dǎo)致光源構(gòu)件形成亮暗分明的面光源等情況發(fā)生，降低了光學(xué)品味的呈現(xiàn)。因此為符合各種出光需求進(jìn)行光學(xué)組件設(shè)計(jì)時(shí)，必須考慮各種參數(shù)，并微調(diào)修正各項(xiàng)變因，再逐次進(jìn)行光學(xué)實(shí)驗(yàn)及重復(fù)前述步驟直至獲得所需的出光效果為止，方可完成光源構(gòu)件的整體設(shè)計(jì)。而后續(xù)若更改配合使用的薄膜時(shí)，以設(shè)計(jì)完成的光學(xué)組件，必須再對(duì)應(yīng)變更或調(diào)整原先的結(jié)構(gòu)以維持如出光均勻的要求，故針對(duì)不同的薄膜皆須反復(fù)進(jìn)行光學(xué)實(shí)驗(yàn)與調(diào)整修正，才能再次獲得新產(chǎn)品的設(shè)計(jì)態(tài)樣。

因此在光學(xué)組件產(chǎn)品開發(fā)上，皆須經(jīng)過眾多光學(xué)測(cè)試、打樣及修正才可獲得相關(guān)參數(shù)以完成產(chǎn)品設(shè)計(jì)，此舉造成開發(fā)成本大幅增加，并需花費(fèi)極長(zhǎng)時(shí)間進(jìn)行光學(xué)實(shí)驗(yàn)。所以，本發(fā)明人于此提出一種裸視板光學(xué)測(cè)試治具及其使用方法，以有效縮減現(xiàn)今光學(xué)產(chǎn)品開發(fā)的缺失。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中設(shè)計(jì)光源構(gòu)件中的光學(xué)組件時(shí)的開發(fā)過程繁復(fù)，以及需要費(fèi)時(shí)逐次檢驗(yàn)光學(xué)效果的缺陷，提供一種裸視板光學(xué)測(cè)試治具及其使用方法，降低試誤下衍生的裸視板樣品制作成本與逐次量測(cè)及修改的時(shí)間，有效加速產(chǎn)品開發(fā)。

本發(fā)明是通過下述技術(shù)方案來解決上述技術(shù)問題的：

一種裸視板光學(xué)測(cè)試治具，用于覆設(shè)于至少一光學(xué)薄膜一側(cè)進(jìn)行測(cè)試，用以開發(fā)一裸視板，包括：

一光學(xué)基材，具有一入光側(cè)，用于接收至少一光源發(fā)出的光線；及

一測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群，鄰近該入光側(cè)并呈帶狀布設(shè)于該光學(xué)基材，且該測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群與該入光側(cè)的距離漸變；

其中，當(dāng)該入光側(cè)接收該光源發(fā)出的光線后，該測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群形成一主亮帶分布區(qū)段，透過觀察該主亮帶分布區(qū)段的光學(xué)表現(xiàn)，即可取得一取光能力調(diào)整位置，用以開發(fā)該裸視板。這樣，相對(duì)地有效縮減過往裸視板開發(fā)過程中試誤所衍生的樣品成本與測(cè)試時(shí)間。

較佳地，該測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群為傾斜布設(shè)而與該入光側(cè)具有漸變距離，而可利用主亮帶分布區(qū)段相對(duì)入光側(cè)的距離判得取光能力調(diào)整位置信息。

較佳地，除如前述測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群為傾斜布設(shè)外，該測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群為分段設(shè)置，而于該光學(xué)基材形成面積相等的若干布設(shè)區(qū)，且該若干布設(shè)區(qū)為階梯狀排列，由此可利用布設(shè)區(qū)更為精確地?cái)X取取光能力調(diào)整位置。

較佳地，該測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群為梯形布設(shè)，且其布設(shè)寬度自一端朝另端漸減，亦可于光學(xué)基材接收光源的光線后，形成主亮帶分布區(qū)段以取得取光能力調(diào)整位置。

此外，測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群亦可如下態(tài)樣設(shè)置，該測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群是為分段設(shè)置，而于該光學(xué)基材形成面積漸減的若干布設(shè)區(qū)，并各該布設(shè)區(qū)的中心線相互重合，由此以進(jìn)行測(cè)試取得取光能力調(diào)整位置。

或者，部分的該測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群為傾斜布設(shè)而與該入光側(cè)具有漸變距離，部分的該測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群為水平布設(shè)且布設(shè)寬度自一端朝另端漸減，而使測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群形成特殊布設(shè)態(tài)樣以因應(yīng)光學(xué)薄膜種類進(jìn)行測(cè)試。

本發(fā)明還揭示了一種裸視板光學(xué)測(cè)試治具的使用方法，包含以下步驟：

S1、提供一測(cè)試治具，受至少一光學(xué)薄膜覆蓋，其中該測(cè)試治具包括一光學(xué)基材與一測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群，該光學(xué)基材具有用于接收光線的一入光側(cè)，該測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群鄰近該入光側(cè)并呈帶狀布設(shè)于該光學(xué)基材，且該測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群與該入光側(cè)的距離漸變；及

S2、點(diǎn)亮該光學(xué)基材，該測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群形成一主亮帶分布區(qū)段后，透過觀察該主亮帶分布區(qū)段的光學(xué)表現(xiàn)，即可取得一取光能力調(diào)整位置，以開發(fā)一裸視板。較佳地，該測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群為傾斜布設(shè)而與該入光側(cè)具有漸變距離，而可依據(jù)主亮帶分布區(qū)段與入光側(cè)的間距獲得取光能力調(diào)整位置作為裸視板開發(fā)信息。

較佳地，該測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群為分段設(shè)置，而于該光學(xué)基材形成面積相等的若干布設(shè)區(qū)，且該若干布設(shè)區(qū)為階梯狀排列，以利用該些布設(shè)區(qū)更為精準(zhǔn)地取得取光能力調(diào)整位置。

較佳地，該測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群為梯形布設(shè)，且其布設(shè)寬度自一端朝另端漸減，亦可使光學(xué)基材被點(diǎn)亮后于測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群形成主亮帶分布區(qū)段，進(jìn)而取得取光能力調(diào)整位置。

此外測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群亦可呈如下所述的態(tài)樣設(shè)置，該測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群為分段設(shè)置，而于該光學(xué)基材形成面積漸減的若干布設(shè)區(qū)，并各該布設(shè)區(qū)的中心線相互重合，以由此進(jìn)行測(cè)試取得取光能力調(diào)整位置。

或者，部分的該測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群為傾斜布設(shè)而與該入光側(cè)具有漸變距離，部分的該測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群為水平布設(shè)且布設(shè)寬度自一端朝另端漸減，而使測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群形成特殊布設(shè)態(tài)樣以因應(yīng)光學(xué)薄膜種類進(jìn)行測(cè)試。

本發(fā)明的積極進(jìn)步效果在于：

本發(fā)明的裸視板光學(xué)測(cè)試治具及其使用方法，可有效地降低裸視板開發(fā)與逐次測(cè)試的設(shè)計(jì)成本，提供更為快速的裸視板開發(fā)測(cè)試工序。利用測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群即可獲得配合各種光學(xué)薄膜時(shí)，裸視板可能形成的光學(xué)表現(xiàn)信息，光線進(jìn)入光學(xué)基材后，受光學(xué)薄膜及測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群影響，會(huì)出現(xiàn)主亮帶分布區(qū)段，依據(jù)主亮帶分布區(qū)段的光學(xué)表現(xiàn)即可取得取光能力調(diào)整位置，進(jìn)行裸視板的開發(fā)。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例1的示意圖。

圖2為本發(fā)明實(shí)施例1的使用示意圖。

圖3為本發(fā)明實(shí)施例1再一實(shí)施態(tài)樣的示意圖。

圖4為本發(fā)明實(shí)施例1再一實(shí)施態(tài)樣的使用示意圖。

圖5為為本發(fā)明實(shí)施例1次一實(shí)施態(tài)樣的使用示意圖。

圖6為本發(fā)明實(shí)施例1又一實(shí)施態(tài)樣的使用示意圖。

圖7為本發(fā)明實(shí)施例2的步驟流程圖。

1：測(cè)試治具

10：光學(xué)基材

101：入光側(cè)

102：布設(shè)區(qū)

11：測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群

2：光學(xué)薄膜

3：光源

A：主亮帶分布區(qū)段

具體實(shí)施方式

下面舉個(gè)較佳實(shí)施例，并結(jié)合附圖來更清楚完整地說明本發(fā)明。

實(shí)施例1

請(qǐng)參閱圖1和圖2，其為本發(fā)明實(shí)施例1的示意圖及使用示意圖。本發(fā)明揭示一種裸視板光學(xué)測(cè)試治具1，用于覆設(shè)于至少一光學(xué)薄膜2一側(cè)進(jìn)行測(cè)試，用以開發(fā)一裸視板。所述的測(cè)試治具1包括一光學(xué)基材10及一測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11。

光學(xué)基材10具有一入光側(cè)101，用于接收至少一光源3如發(fā)光二極管所發(fā)出的光線，較佳地，光學(xué)基材10為一板體。測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11鄰近入光側(cè)且呈帶狀布設(shè)于光學(xué)基材10上，測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11與入光側(cè)101的距離并為漸變態(tài)樣。由此，當(dāng)入光側(cè)101接收光源3發(fā)出的光線后，測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11位置會(huì)形成一主亮帶分布區(qū)段A，透過觀察主亮帶分布區(qū)段A的光學(xué)表現(xiàn)，即可取得一取光能力調(diào)整位置，以利用取光能力調(diào)整位置進(jìn)行裸視板的開發(fā)與設(shè)計(jì)。例如由于測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11與入光側(cè)101的距離漸變，因而在主亮帶分布區(qū)段A形成后，利用主亮帶分布區(qū)段A與入光側(cè)101的間距數(shù)值，并藉此決定取光能力調(diào)整位置，而后在裸視板對(duì)應(yīng)取光能力調(diào)整位置處進(jìn)行出光調(diào)配，即可解決裸視板因應(yīng)光學(xué)薄膜而衍生的出光影響。裸視板指可應(yīng)用于反射式顯示設(shè)備的面光源構(gòu)件，亦即藉由裸視板可提供顯示設(shè)備所需光線，以顯示畫面之用。因應(yīng)不同的顯示設(shè)備規(guī)格以及需求，當(dāng)裸視板搭配各類光學(xué)薄膜使用時(shí)，受光學(xué)薄膜的物理性質(zhì)影響，不同的光學(xué)薄膜會(huì)使裸視板具有大相徑庭的光學(xué)呈現(xiàn)。透過本實(shí)施例揭示的測(cè)試治具1，即可快速檢測(cè)裸視板配合光學(xué)薄膜2后的光學(xué)呈現(xiàn)，并透過觀察光學(xué)表現(xiàn)而取得開發(fā)裸視板所需的參數(shù)，減少試誤下而衍生的樣品成本與開發(fā)時(shí)間。

于本實(shí)施例中，測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11的布設(shè)態(tài)樣為傾斜，進(jìn)而與入光側(cè)101具有漸變距離，且較佳地，測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11的布設(shè)密度為一定值，使非覆設(shè)于光學(xué)薄膜2時(shí)，光線進(jìn)入光學(xué)基材10后測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11各區(qū)域的出光量相等。當(dāng)光源3光線由入光側(cè)101進(jìn)入光學(xué)基材10后，于測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11處會(huì)形成出光，但受光學(xué)薄膜2影響，在主亮帶分布區(qū)段A會(huì)有屬非均勻出光的光學(xué)表現(xiàn)，而后透過觀察主亮帶分布區(qū)段A以了解光線受光學(xué)薄膜2的物性如折射率影響后，所形成的亮暗分布現(xiàn)象，再藉此得到取光能力調(diào)整位置。例如擷取主亮帶分布區(qū)段A與入光側(cè)101的最大及最小距離參數(shù)作為取光能力調(diào)整位置信息，由此而于裸視板對(duì)應(yīng)區(qū)域做適當(dāng)?shù)娜」饽芰φ{(diào)配，使裸視板獲得所需的出光效果。相對(duì)過往需因應(yīng)相異的光學(xué)薄膜2而逐次修正裸視板設(shè)計(jì)的方式，透過該測(cè)試治具1即可快速取得在不同的光學(xué)薄膜2覆設(shè)下可能產(chǎn)生的出光現(xiàn)象，并依其測(cè)試結(jié)果來設(shè)計(jì)所需的裸視板，免除重復(fù)設(shè)計(jì)、打樣以及測(cè)試等開發(fā)步驟，有效降低了開發(fā)設(shè)計(jì)成本。其中，第2圖中為利于顯示主亮帶分布區(qū)段A，因此測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11中非屬主亮帶分布區(qū)段A位置，是以相較主亮帶分布區(qū)段A更為密集的剖面線示意之，表示該處的出光強(qiáng)度小于主亮帶分布區(qū)段A的出光強(qiáng)度。

請(qǐng)續(xù)參閱圖3及圖4，其為本發(fā)明實(shí)施例1另一實(shí)施態(tài)樣的示意圖及使用示意圖。以下進(jìn)一步揭示測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11的較佳布設(shè)態(tài)樣，例如基于傾斜帶狀態(tài)樣下，為可更為精準(zhǔn)地取得取光能力調(diào)整位置，亦可使測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11為分段設(shè)置，而于光學(xué)基材10形成面積相等的若干布設(shè)區(qū)102，且該些布設(shè)區(qū)102為階梯狀排列設(shè)置，如第3圖所示。階梯狀的測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11亦相對(duì)入光側(cè)101具有相異的距離，例如當(dāng)主亮帶分布區(qū)域A形成后依據(jù)其所在的布設(shè)區(qū)102位置即可得知主亮帶分布區(qū)域A與入光側(cè)101的間距，進(jìn)而獲得取光能力調(diào)整位置。其中，第4圖中為利于顯示主亮帶分布區(qū)段A，因此測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11中非屬主亮帶分布區(qū)段A位置，是以相較主亮帶分布區(qū)段A更為密集的剖面線示意，表示該處的出光強(qiáng)度小于主亮帶分布區(qū)段A的出光強(qiáng)度，并主亮帶分布區(qū)段A位于測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11布設(shè)區(qū)域內(nèi)，圖式中框選區(qū)域僅為便于示意，非為實(shí)際主亮帶分布區(qū)段A。

請(qǐng)續(xù)參閱第5圖，其為本發(fā)明實(shí)施例1次一實(shí)施態(tài)樣的使用示意圖。測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11除可為傾斜或階梯狀布設(shè)于光學(xué)基材10外，亦可為梯形布設(shè)，且測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11的布設(shè)寬度自一端朝另端漸減。透過此種態(tài)樣的測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11，同樣可在光學(xué)基材10覆設(shè)于光學(xué)薄膜2并由入光側(cè)101接收光線后，于測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11位置形成主亮帶分布區(qū)段A，再利用主亮帶分布區(qū)段A取得取光能力調(diào)整位置。其中，圖5中為利于顯示主亮帶分布區(qū)段A，因此測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11中非屬主亮帶分布區(qū)段A位置以較深的剖面線示意，表示該處的出光強(qiáng)度小于主亮帶分布區(qū)段A的出光強(qiáng)度。

此外，請(qǐng)參閱圖6，其為本發(fā)明實(shí)施例1再一實(shí)施態(tài)樣的使用示意圖。測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11亦可為分段設(shè)置，而于光學(xué)基材10形成面積漸減的若干布設(shè)區(qū)102，并各布設(shè)區(qū)102的中心線相互重合。同樣地，利用該種態(tài)樣的測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11，亦可在光學(xué)基材10覆設(shè)于光學(xué)薄膜2并接收光線后形成主亮帶分布區(qū)段A，以取得取光能力調(diào)整位置?；驕y(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11亦可呈現(xiàn)部分為傾斜布設(shè)而與入光側(cè)101具有漸變距離，部分為水平布設(shè)且布設(shè)寬度自一端朝另端漸減，而使測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11形成特殊布設(shè)態(tài)樣以因應(yīng)光學(xué)薄膜2種類進(jìn)行測(cè)試。其中，圖6中為利于顯示主亮帶分布區(qū)段A，因此測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11中非屬主亮帶分布區(qū)段A位置以較深的剖面線示意，表示該處的出光強(qiáng)度小于主亮帶分布區(qū)段A的出光強(qiáng)度，并主亮帶分布區(qū)段A位于測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11布設(shè)區(qū)域內(nèi)，圖式中框選區(qū)域僅為便于示意，非為實(shí)際主亮帶分布區(qū)段A所包含范圍。

實(shí)施例2

請(qǐng)參閱圖7，其為本發(fā)明實(shí)施例2的步驟流程圖，并請(qǐng)復(fù)搭配參閱圖1和圖2。本發(fā)明亦揭示一種裸視板光學(xué)測(cè)試治具的使用方法，包含以下步驟。首先，提供一測(cè)試治具1，受至少一光學(xué)薄膜2覆蓋，其中測(cè)試治具1包括光學(xué)基材10與測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11，光學(xué)基材10具有用于接收光線的入光側(cè)101，測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11鄰近入光側(cè)101并呈帶狀布設(shè)于光學(xué)基材10，且測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11與入光側(cè)101的距離為漸變(步驟S01)。測(cè)試治具1的態(tài)樣即如第1圖所示，于光學(xué)基材10上布設(shè)前述測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11，且測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11與入光側(cè)101具有漸變的距離。

接續(xù)，點(diǎn)亮光學(xué)基材10，測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11形成主亮帶分布區(qū)段A后，透過觀察主亮帶分布區(qū)段A的光學(xué)表現(xiàn)，即可取得取光能力調(diào)整位置，以開發(fā)裸視板(步驟S02)。如圖2所示，透過光源3點(diǎn)亮光學(xué)基材10后，光線自入光側(cè)101進(jìn)入光學(xué)基材10并于測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11形成主亮帶分布區(qū)段A，即可藉由觀察其光學(xué)表現(xiàn)來決定取光能力調(diào)整位置，進(jìn)而使欲設(shè)計(jì)的裸視板依據(jù)取光能力調(diào)整位置進(jìn)行光學(xué)設(shè)計(jì)，以符合出光需求。詳細(xì)的測(cè)試舉例已于實(shí)施例1述及，于此即不再加以贅述。

同樣地，于光學(xué)基材10上的測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11，其設(shè)置態(tài)樣除如第1及2圖為傾斜帶狀布設(shè)外，亦可如圖3所示為分段設(shè)置而于光學(xué)基材10形成面積相等，且為階梯狀排列的若干布設(shè)區(qū)102，并其使用狀態(tài)可參閱圖4；或如圖5所示，測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11為寬度由一端朝另端漸減的梯形布設(shè)態(tài)樣；或如圖6所示，測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11亦可為分段設(shè)置而于光學(xué)基材10形成面積漸減的若干布設(shè)區(qū)102，且各布設(shè)區(qū)102的中心線相互重合的設(shè)置態(tài)樣；或測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11可為水平布設(shè)，或部分呈水平布設(shè)而另一部分呈傾斜布設(shè)的態(tài)樣等。以上態(tài)樣的測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群11，皆有助于取得測(cè)試治具1覆設(shè)于光學(xué)薄膜2后會(huì)產(chǎn)生的光學(xué)現(xiàn)象，進(jìn)而獲得取光調(diào)整位置以針對(duì)裸視板進(jìn)行對(duì)應(yīng)設(shè)計(jì)，大幅降低開發(fā)各類裸視板所需的成本與試誤下各樣品版次的制作成本。

綜上所述，透過本發(fā)明揭示的裸視板光學(xué)測(cè)試治具及其使用方法，可有效降低裸視板開發(fā)成本與時(shí)間，藉由觀察測(cè)試治具產(chǎn)生的光學(xué)表現(xiàn)，而可取得對(duì)應(yīng)裸視板的取光能力設(shè)計(jì)位置。于光學(xué)基材上布設(shè)的測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群與入光側(cè)具有相異距離，因此當(dāng)光線進(jìn)入覆設(shè)于光學(xué)薄膜的光學(xué)基材，并于測(cè)試網(wǎng)點(diǎn)群形成主亮帶分布區(qū)段后，即可藉由主亮帶分布區(qū)段的光學(xué)表現(xiàn)，推得取光能力調(diào)整位置而可對(duì)裸視板進(jìn)行對(duì)應(yīng)設(shè)計(jì)與開發(fā)，有效免除試誤下而衍生的各版本樣品成本，以及不斷量測(cè)與修正的時(shí)間成本。

雖然以上描述了本發(fā)明的具體實(shí)施方式，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，這些僅是舉例說明，本發(fā)明的保護(hù)范圍是由所附權(quán)利要求書限定的。本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不背離本發(fā)明的原理和實(shí)質(zhì)的前提下，可以對(duì)這些實(shí)施方式做出多種變更或修改，但這些變更和修改均落入本發(fā)明的保護(hù)范圍。