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一種傳質(zhì)交換器用氣體平衡裝置的制造方法

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一種傳質(zhì)交換器用氣體平衡裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種氣體平衡裝置,具體涉及一種傳質(zhì)交換器用氣體平衡裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的氫氧發(fā)生器在電解制氫的過(guò)程中,電解槽的壓力變化大,大小變換頻繁,會(huì)影響氫氣的純度,中國(guó)專利CN201110146793.4公開(kāi)了一種用于水電解制氫的氣體平衡裝置,包括一中空腔體被一薄膜片分隔為二個(gè)氣腔,其中,一個(gè)為具有氫氣出口和氫氣入口的氫氣氣腔,另一個(gè)為具有氧氣出口和氧氣入口的氧氣氣腔,所述的氧氣氣腔內(nèi)壁上還設(shè)有一凸臺(tái)。所述的氧氣出口的通道貫穿所述氧氣氣腔內(nèi)壁上的凸臺(tái)。所述的中空腔體由二個(gè)剖面呈“U”字型的半腔經(jīng)過(guò)所述薄膜片對(duì)稱栓接而成。所述薄膜片在所述中空腔體內(nèi)呈圓形。
[0003]上述技術(shù)還存在一些問(wèn)題,如在使用過(guò)程中,因?yàn)楸∑瑢?duì)應(yīng)腔內(nèi)兩室距離的不同,進(jìn)行氣體平衡時(shí)精確度不高,同時(shí)因?yàn)殡娊夂髿怏w直接通過(guò)氣腔內(nèi),出氣的一個(gè)氣體平衡還需做一個(gè)微調(diào),這樣在制氫的前段時(shí)間,氫氣的純度不容易控制。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型針對(duì)上述問(wèn)題,提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,出氫氣純度高的傳質(zhì)交換器用氣體平衡裝置。
[0005]本實(shí)用新型解決上述問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:一種傳質(zhì)交換器用氣體平衡裝置,包括一具有中空腔體的氣體平衡裝置本體,該中空腔體被一薄膜片分隔為二個(gè)氣腔,其中,一個(gè)為具有氫氣入口和氫氣出口的氫氣氣腔,另一個(gè)為具有氧氣入口和氧氣出口的氧氣氣腔,還包括設(shè)在氣體平衡裝置本體兩側(cè)的一氫氣儲(chǔ)存腔和一氧氣儲(chǔ)存腔,所述氫氣儲(chǔ)存腔具有氫氣入氣口并與氫氣入口相通,所述氧氣儲(chǔ)存腔具有氧氣入氣口并與氧氣入口相通。
[0006]進(jìn)一步地,所述氫氣氣腔內(nèi)壁上還設(shè)有一第一凸臺(tái),所述氫氣入口的通道貫穿所述氫氣氣腔內(nèi)壁上的第一凸臺(tái)。
[0007]進(jìn)一步地,所述氧氣氣腔內(nèi)壁上還設(shè)有一第二凸臺(tái),所述的氧氣入口的通道貫穿所述氧氣氣腔內(nèi)壁上的第二凸臺(tái)。
[0008]更進(jìn)一步地,所述第一凸臺(tái)與第二凸臺(tái)對(duì)稱設(shè)置。
[0009]進(jìn)一步地,所述的中空腔體由二個(gè)剖面呈“T”字型的半腔經(jīng)過(guò)所述薄膜片對(duì)稱栓接而成。
[0010]進(jìn)一步地,所述中空腔體內(nèi)呈圓柱狀,且被所述第一凸臺(tái)和第二凸臺(tái)分為上腔和下腔,所述上腔容積大于下腔容積。
[0011 ] 更進(jìn)一步地,所述氧氣入口和氫氣入口設(shè)置在上腔對(duì)應(yīng)的位置上。
[0012]本實(shí)用新型提供的傳質(zhì)交換器用氣體平衡裝置簡(jiǎn)短了設(shè)備產(chǎn)出氫氣時(shí)間,同時(shí)這平衡裝置裝備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)巧,減少了制造成本,提高了產(chǎn)氫純度,氣體壓力穩(wěn)定。
[0013]除了上面所描述的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)之外,本實(shí)用新型還有其它的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)。下面將參照?qǐng)D,對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。
【附圖說(shuō)明】
[0014]構(gòu)成本說(shuō)明書(shū)的一部分、用于進(jìn)一步理解本實(shí)用新型的附圖示出了本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例,并與說(shuō)明書(shū)一起用來(lái)說(shuō)明本實(shí)用新型的原理。在附圖中:
[0015]圖1為本實(shí)用新型提供的氣體平衡裝置的本體的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0016]圖2為本實(shí)用新型提供的氣體平衡裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]其中,圖中標(biāo)記為:
[0018]100為中空腔體、200為氣體平衡裝置本體、210為氫氣氣腔、211為氫氣入口、212為氫氣出口、213為第一凸臺(tái)、214為通道、215為上腔、216為下腔、220為氧氣氣腔、221為氧氣入口、222為氧氣出口、223為第二凸臺(tái)、224為通道、300為薄膜片、400為氫氣儲(chǔ)存腔、500為氧氣儲(chǔ)存腔。
【具體實(shí)施方式】
[0019]以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明,但是本實(shí)用新型可以由權(quán)利要求限定和覆蓋的多種不同方式實(shí)施。
[0020]參考圖1和圖2,如圖和圖2所不,一種傳質(zhì)交換器用氣體平衡裝置,包括一具有中空腔體100的氣體平衡裝置本體200,該中空腔體100被一薄膜片300分隔為二個(gè)氣腔,其中,一個(gè)為具有氫氣入口 211和氫氣出口 212的氫氣氣腔210,另一個(gè)為具有氧氣入口 221和氧氣出口 222的氧氣氣腔220,還包括設(shè)在氣體平衡裝置本體200兩側(cè)的一氫氣儲(chǔ)存腔400和一氧氣儲(chǔ)存腔500,所述氫氣儲(chǔ)存腔400具有氫氣入氣口 410并與氫氣入口 211相通,所述氧氣儲(chǔ)存腔500具有氧氣入氣口 510并與氧氣入口 221相通。
[0021]如圖2所示,所述氫氣氣腔210內(nèi)壁上還設(shè)有一第一凸臺(tái)213,所述氫氣入口 221的通道214貫穿所述氫氣氣腔210內(nèi)壁上的第一凸臺(tái)213。
[0022]如圖2所示所述氧氣氣腔220內(nèi)壁上還設(shè)有一第二凸臺(tái)223,所述的氧氣入口 221的通道224貫穿所述氧氣氣腔220內(nèi)壁上的第二凸臺(tái)223。
[0023]所述第一凸臺(tái)213與第二凸臺(tái)223對(duì)稱設(shè)置。
[0024]如圖1所示,所述的中空腔體100由二個(gè)剖面呈“T”字型的半腔經(jīng)過(guò)所述薄膜片300對(duì)稱栓接而成。
[0025]如圖2所示,所述中空腔體100內(nèi)呈圓柱狀,且被所述第一凸臺(tái)213和第二凸臺(tái)223分為上腔215和下腔216,所述上腔215容積大于下腔216容積。
[0026]所述氧氣入口 221和氫氣入口 211設(shè)置在上腔215對(duì)應(yīng)的位置上。
[0027]以上僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已,并不用于限制本實(shí)用新型,對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō),本實(shí)用新型可以有各種更改和變化。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種傳質(zhì)交換器用氣體平衡裝置,包括一具有中空腔體(100)的氣體平衡裝置本體(200),該中空腔體(100)被一薄膜片(300)分隔為二個(gè)氣腔,其中,一個(gè)為具有氫氣入口(211)和氫氣出口(212)的氫氣氣腔(210),另一個(gè)為具有氧氣入口(221)和氧氣出口(222)的氧氣氣腔(220),其特征在于,還包括設(shè)在氣體平衡裝置本體(200)兩側(cè)的一氫氣儲(chǔ)存腔(400)和一氧氣儲(chǔ)存腔(500),所述氫氣儲(chǔ)存腔(400)具有氫氣入氣口(410)并與氫氣入口(211)相通,所述氧氣儲(chǔ)存腔(500)具有氧氣入氣口(510)并與氧氣入口(221)相通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的傳質(zhì)交換器用氣體平衡裝置,其特征在于,所述氫氣氣腔(210)內(nèi)壁上還設(shè)有一第一凸臺(tái)(213),所述氫氣出口(221)的通道(214)貫穿所述氫氣氣腔(210)內(nèi)壁上的第一凸臺(tái)(213)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的傳質(zhì)交換器用氣體平衡裝置,其特征在于,所述氧氣氣腔(220)內(nèi)壁上還設(shè)有一第二凸臺(tái)(223),所述的氧氣入口(221)的通道(224)貫穿所述氧氣氣腔(220)內(nèi)壁上的第二凸臺(tái)(223)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的傳質(zhì)交換器用氣體平衡裝置,其特征在于,所述第一凸臺(tái)(213)與第二凸臺(tái)(223)對(duì)稱設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的傳質(zhì)交換器用氣體平衡裝置,其特征在于,所述的中空腔體(100)由二個(gè)剖面呈“T”字型的半腔經(jīng)過(guò)所述薄膜片(300)對(duì)稱栓接而成。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的傳質(zhì)交換器用氣體平衡裝置,其特征在于,所述中空腔體(100)內(nèi)呈圓柱狀,且被所述第一凸臺(tái)(213)和第二凸臺(tái)(223)分為上腔(215)和下腔(216),所述上腔(215)容積大于下腔(216)容積。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的傳質(zhì)交換器用氣體平衡裝置,其特征在于,所述氧氣入口(221)和氫氣入口(211)設(shè)置在上腔(215)對(duì)應(yīng)的位置上。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種傳質(zhì)交換器用氣體平衡裝置,包括一具有中空腔體的氣體平衡裝置本體,該中空腔體被一薄膜片分隔為二個(gè)氣腔,其中,一個(gè)為具有氫氣入口和氫氣出口的氫氣氣腔,另一個(gè)為具有氧氣入口和氧氣出口的氧氣氣腔,還包括設(shè)在氣體平衡裝置本體兩側(cè)的一氫氣儲(chǔ)存腔和一氧氣儲(chǔ)存腔,所述氫氣儲(chǔ)存腔具有氫氣入氣口并與氫氣入口相通,所述氧氣儲(chǔ)存腔具有氧氣入氣口并與氧氣入口相通。
【IPC分類】C25B1-04, C25B9-00
【公開(kāi)號(hào)】CN204474768
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520092430
【發(fā)明人】李銘玨
【申請(qǐng)人】上海銘鈺能源科技有限公司
【公開(kāi)日】2015年7月15日
【申請(qǐng)日】2015年2月10日
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