涂敷裝置及涂敷裝置的控制方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及適于從狹縫狀的吐出口吐出涂敷液而在基材上形成帶狀的涂敷膜的用途、特別是斷續(xù)地形成涂敷膜的用途的涂敷裝置及涂敷裝置的控制方法。
【背景技術】
[0002]作為使粘接劑等涂敷液呈帶狀涂敷的涂敷裝置，例如具備狹縫狀的吐出口(也稱為狹縫噴嘴、縫隙，下同)。該涂敷裝置具有涂敷部，該涂敷部具有狹縫狀的吐出口，該狹縫狀的吐出口具有與所形成的涂敷膜帶的寬度相同尺寸的寬度，使該吐出口與進行涂敷的基材對置地配置，在吐出口與基材之間設置與涂敷膜的厚度對應的規(guī)定的間隔。并且，與從供給部供給涂敷液同時地，使基材相對于吐出口(或者反之使吐出口相對于基材)在涂敷膜的形成方向上移動，從而將涂敷液呈帶狀涂敷。
[0003]然而，在這種涂敷裝置中，從供給部供給的涂敷液，從供給口進入涂敷部內，在涂敷部內在縫隙的寬度方向上擴展而從吐出口吐出。涂敷液的流動從涂敷部內的壁面受到阻力，因此在采用將從供給口流入的涂敷液單純地在縫隙的寬度方向上分配的形狀的涂敷部的情況下，會產生如下問題。從供給口向吐出口流動的路徑的長度不一樣，因此在吐出口的縫隙的寬度方向上產生壓力差，導致涂敷膜的厚度不均勻。例如，在將供給口配置于縫隙的中央上游部時，則縫隙的中央附近的吐出壓增大，吐出量也會增加，因此導致涂敷膜的帶的厚度在中央附近增大。
[0004]為了解決該課題，例如在日本特開平9一 276769號記載的涂敷裝置中構成為，在涂敷部內的供給口與狹縫狀的吐出口(狹縫噴嘴)之間，將具有與縫隙大致相同長度的寬度的存液部與縫隙平行設置，在存液部內還在縫隙與供給口之間設置至少I個的液流阻尼部件。這樣使得吐出口的壓力均勻化。
[0005]現(xiàn)有技術文獻
[0006]專利文獻
[0007]專利文獻I:日本特開平9一276769號

【發(fā)明內容】

[0008]發(fā)明所要解決的課題
[0009]但是，在這種涂敷裝置中假定為連續(xù)的涂敷，在停止涂敷液的吐出的情況下，存在涂敷膜的末端形狀錯亂這樣的問題。即，在從供給部利用栗等輸送涂敷液的狀態(tài)下使栗停止時，會因存液部內殘存的壓力使涂敷液不均勻地吐出，末端的形狀會發(fā)生錯亂。并且，在重啟涂敷液的吐出時，在向存液部內輸送的涂敷液的壓力穩(wěn)定之前的期間吐出壓力也不穩(wěn)定，因此存在涂敷膜的始端形狀也會發(fā)生錯亂這樣的問題。
[0010]本發(fā)明是針對上述情況做出的，目的是提供形成帶狀的涂敷膜的且形成始端及末端的形狀錯亂小的涂敷膜的涂敷裝置及涂敷裝置的控制方法。
[0011]用于解決課題的手段
[0012]本發(fā)明為一種涂敷裝置，包括供給涂敷液的供給部、和涂敷部，所述涂敷部將從所述供給部所供給的所述涂敷液相對于基材以規(guī)定的寬度涂敷，所述涂敷裝置的特征在于，所述涂敷部具有:供給口，供給所述涂敷液;第I緩沖室，將從所述供給口流入的所述涂敷液在所述寬度方向上分配;阻力通道，相對于從所述第I緩沖室流入的所述涂敷液施加比所述第I緩沖室中的流體阻力大的流體阻力;第2緩沖室，將從所述阻力通道流入的所述涂敷液在所述寬度方向上分配;開閉閥，設置在所述第2緩沖室的內部而控制從所述第2緩沖室的上游向下游的連通和阻斷；以及，狹縫噴嘴，將經過所述開閉閥而從所述第2緩沖室流入的所述涂敷液相對于所述基材以所述規(guī)定的寬度吐出。
[0013]發(fā)明的效果
[0014]根據本發(fā)明，能夠提供形成帶狀涂敷膜的涂敷裝置及涂敷裝置的控制方法，即形成始端及末端的形狀錯亂小的涂敷膜的涂敷裝置及涂敷裝置的控制方法。
【附圖說明】
[0015]圖1是表示本發(fā)明第I實施方式的涂敷裝置的概略圖。
[0016]圖2是將圖1的第I實施方式的涂敷部用A—A面切斷的概略斷面圖。
[0017]圖3是表示本發(fā)明的第2實施方式的涂敷裝置的涂敷部的概略斷面圖。
[0018]圖4是將圖3的第2實施方式的涂敷部用B—B面切斷的概略斷面圖。
[0019]圖5是表示本發(fā)明實施方式的涂敷裝置實施的涂敷膜的一例的俯視圖。
【具體實施方式】
[0020]以下，參照附圖對本發(fā)明的實施方式進行說明。
[0021]圖1是表示本發(fā)明第I實施方式的涂敷裝置的概略圖。涂敷裝置I具備:貯存涂敷液的液箱T、將涂敷液從液箱T吸入并吐出的栗P、對栗P吐出的涂敷液進行輸送的送液管2、從送液管2供給涂敷液的涂敷部3。液箱T、栗P、送液管2整體構成了供給部。涂敷部3是大致立方體形狀，圖1示出了與其寬度方向正交的面所形成的斷面。
[0022]圖2用圖1的A—A斷面進行切斷而在箭頭方向上看的涂敷部3的斷面圖。由此并用圖2進行說明。涂敷部3具有:供給口 4;在該供給口 4下游設置的第I緩沖室5;在該第I緩沖室5下游設置的阻力通道6;在該阻力通道6下游設置的第2緩沖室7;在第2緩沖室7內設置的開閉閥8;對這些供給口 4、第I緩沖室5、阻力通道6、第2緩沖室7進行收納的殼體11;在第2緩沖室7下游設置的狹縫噴嘴10;以及，保持狹縫噴嘴的噴嘴保持部件12。
[0023]供給口4在涂敷部3的寬度方向端部上設置，并與第I緩沖室5連接。第I緩沖室5是在涂敷部3的寬度方向(圖2的左右方向)上延伸的大致圓柱狀的液室，構成為第I緩沖室5的寬度方向長度比后述的阻力通道6長，進深(圖1的左右方向長度)也比阻力通道6大。
[0024]在第I緩沖室5的下游(對于涂敷液的流動意味著在上游或下游配置，下同)配置有阻力通道6。阻力通道6在涂敷部3的寬度方向上延伸，并構成為比第I緩沖室5的長度短。阻力通道6的進深(圖1的左右方向長度)比第I緩沖室5的進深小，是能夠夠相對于涂敷液的粘度、流速充分地施加較大的流體阻力的尺寸。
[0025]在阻力通道6下游設有第2緩沖室7。第2緩沖室7在涂敷部3的寬度方向上延伸，并構成為比阻力通道6的長度長。第2緩沖室7的進深(圖1的左右方向長度)比阻力通道6大地形成。
[0026]在第2緩沖室7的內部設有開閉閥8。開閉閥8是在其寬度方向上貫通第2緩沖室7地延伸的圓柱，并設置為能夠使圓柱的中心軸繞中心旋轉。
[0027]在開閉閥8的內部構成第2緩沖室7的一部分，并且設有將第2緩沖室7的上游部分與下游部分連通的連通口 9。連通口 9的寬度及進深采用與第2緩沖室的情況分別大致相同的尺寸。這樣將開閉閥8設于第2緩沖室7的內部，因此無需另設收納開閉閥的空間，能夠緊湊地設計涂敷部3。
[0028]圖1及圖2所示的開閉閥8為開閥狀態(tài)。例如在圖1中，若使該開閉閥8向右旋轉90度則連通口 9也會旋轉，從而使第2緩沖室7的上游部分與下游部分的連通被阻斷而關閉。并且，通過使開閉閥8進一步向右(或向左)旋轉90度，則上游與下游會再次連通而開閥。
[0029]在第2緩沖室7下游配置狹縫噴嘴10。殼體11收納有供給口4、第I緩沖室5、阻力通道6、第2緩沖室7、開閉閥8，在第2緩沖室7下游側的開口部，介由在殼體11上固定的噴嘴保持部件12，可裝卸地保持有狹縫噴嘴10。狹縫噴嘴10斷面呈T字形且為在涂敷部3的長邊方向上延伸的形狀，通過在圖2的右方向上滑動而能夠插入到殼體11與噴嘴保持部件12之間進行裝設。噴嘴保持部件12的端部具有進行封堵的封堵部，通過在該封堵部上抵接狹縫噴嘴1的端部，來進行狹縫噴嘴1的定位。
[0030]在狹縫噴嘴10的下游，將涂敷涂敷液的基材13介由空間配置。基材13被未圖示的相對移動機構相對于涂敷部13向涂敷部3的進深方向(圖1的左右方向)搬送。
[0031]接下來，對本實施方式的涂敷裝置I的動作進行說明。
[0032]首先，使開閉閥8開閥而使栗P啟動。在液箱T內填充的涂敷液被栗P吸入而通過送液管2向涂敷部3供給。涂敷液從涂敷部3的供給口 4向第I緩沖室5的內部流入而填充第I緩沖室5。此時，阻力通道6設定為進深相對于涂敷液的粘度、流量足夠小，因此涂敷液在填充第I緩沖室5之前難以向下游的第2緩沖室7流動。
[0033]當?shù)贗緩沖室5被填充后，第I緩沖室5的內壓變得大致均勻，涂敷液向阻力路徑6流入。在阻力通道6內大致均勻地通過的涂敷液向第2緩沖室7流入，在第2緩沖室7中使壓力進一步均勾化。
[0034]然后，涂敷液從第2緩沖室7從狹縫噴嘴10的整體大致均勻地吐出而在基材13上進行涂敷?；?3例如被向圖1的紙面右方向搬送，形成具有與狹縫噴嘴10相同寬度的涂敷膜。涂敷液從狹縫噴嘴10的整體大致均勻地吐出，因此基材13上的涂敷膜，其始端的形狀錯亂少。
[0035]這里，如果使開閉閥8例如以90度向右旋轉，則連通口9發(fā)生旋轉，阻斷第2緩沖室7的上游部分與下游部分的連通而閉閥，因此停止從狹縫噴嘴10的吐出。此時，開閉閥8配置在第2緩沖室7的內部、即狹縫噴嘴10的附近，因此如果使開閉閥8關閉則涂敷液的吐出會立即停止，因此涂敷膜的末端的形狀錯亂少。
[0036]然后，通過使開閉閥8進一步向右旋轉90度或向左旋轉90度而開閥，能夠重啟吐出。此時，涂敷液填充到狹縫噴嘴10的頂端，因此能夠通過開閥而迅速地傳遞壓力，立即重啟吐出。因此，涂敷膜的始端的形狀錯亂少。
[0037]因此，根據本實施方式，能夠形成始端及末端的形狀錯亂小的帶狀涂敷膜。
[0038]另外，在上述說明中，示出了形成帶狀涂敷膜的方法，但是使用本實施方式的涂敷裝置，也能夠形成液珠(呈線狀涂敷的涂敷液)。只要縮短帶狀涂敷膜的搬送方向長度即可，具體而言是縮短開閉狹縫噴嘴8的開閥與閉閥的期間，不搬送基材或僅以短距離進行搬送。由此，能夠形成與狹縫噴嘴10的寬度相同長度的液珠。采用這種涂敷方法，能夠在非常短的時間內形成規(guī)定長度的液珠，特別適于涂敷高粘度涂敷液的場合。圖5示出適用本實施方式的涂敷裝置實施的涂敷膜的一