專利名稱：一種真空爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種真空爐。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)中的一種真空爐，包括爐架、設(shè)置于所述的爐架上的爐體、用于將所述的爐體抽真空的真空泵，所述的爐體上開設(shè)有通氣孔，通常所述的爐體上滑動地設(shè)置有將所述的通氣孔堵住的堵塊，通過電磁閥通過磁力推動所述的堵塊堵住所述的通氣孔，電磁閥長久使用后，電磁易消失。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種真空爐。為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一種技術(shù)方案是一種真空爐，包括爐架、 設(shè)置于所述的爐架上的爐體、用于將所述的爐體抽真空的真空泵，所述的爐體上開設(shè)有通氣孔，所述的爐體上設(shè)置有控制所述的通氣孔開或者閉的氣缸。在某些實施方式中，所述的氣缸包括缸筒、活塞、活塞桿，所述的活塞用于堵住所述的通氣孔，所述的活塞桿7的一端部與所述的活塞相連接，所述的活塞桿的另一端部與所述的缸筒相連接。在某些進一步實施方式中，所述的氣缸還包括設(shè)置于所述的活塞上的用于密封的密封圈，所述的密封圈位于所述的活塞與所述的通氣孔之間。本發(fā)明的范圍，并不限于上述技術(shù)特征的特定組合而成的技術(shù)方案，同時也應(yīng)涵蓋由上述技術(shù)特征或其等同特征進行任意組合而形成的其它技術(shù)方案。例如上述特征與本申請中公開的(但不限于)具有類似功能的技術(shù)特征進行互相替換而形成的技術(shù)方案等。由于上述技術(shù)方案運用，本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點通過氣缸的形式控制所述的通氣孔的開或者閉，耐用，且使用安全。


附圖1為本發(fā)明的主視圖。其中1、爐架；2、爐體；3、真空泵；4、通氣孔；5、缸筒；6、活塞；7、活塞桿；8、密封圈。
具體實施例方式如附圖1所示，一種真空爐，包括爐架1、設(shè)置于所述的爐架1上的爐體2、用于將所述的爐體2抽真空的真空泵3，所述的爐體2上開設(shè)有通氣孔4，所述的爐體2上設(shè)置有控制所述的通氣孔4開或者閉的氣缸。所述的氣缸包括缸筒5、活塞6、活塞桿7，所述的活塞6用于堵住所述的通氣孔4， 所述的活塞桿7的一端部與所述的活塞6相連接，所述的活塞桿7的另一端部與所述的缸筒5相連接。所述的氣缸還包括設(shè)置于所述的活塞6上的用于密封的密封圈8，所述的密封圈8 位于所述的活塞6與所述的通氣孔4之間。通氣時，通過氣缸推動活塞6運動，堵住所述的通氣孔4，再有密封圈，使得密封效果好，斷氣后，活塞6脫離通孔孔4。如上所述，我們完全按照本發(fā)明的宗旨進行了說明，但本發(fā)明并非局限于上述實施例和實施方法。相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的從業(yè)者可在本發(fā)明的技術(shù)思想許可的范圍內(nèi)進行不同的變化及實施。
權(quán)利要求
1.一種真空爐，包括爐架(1)、設(shè)置于所述的爐架(1)上的爐體(2)、用于將所述的爐體 (2)抽真空的真空泵(3)，所述的爐體(2)上開設(shè)有通氣孔(4)，其特征在于所述的爐體(2) 上設(shè)置有控制所述的通氣孔(4)開或者閉的氣缸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空爐，其特征在于所述的氣缸包括缸筒(5)、活塞 (6)、活塞桿(7)，所述的活塞(6)用于堵住所述的通氣孔(4)，所述的活塞桿(7)的一端部與所述的活塞(6)相連接，所述的活塞桿(7)的另一端部與所述的缸筒(5)相連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空爐，其特征在于所述的氣缸還包括設(shè)置于所述的活塞(6)上的用于密封的密封圈(8)，所述的密封圈(8)位于所述的活塞(6)與所述的通氣孔(4)之間。
全文摘要
一種真空爐，包括爐架、設(shè)置于所述的爐架上的爐體、用于將所述的爐體抽真空的真空泵，所述的爐體上開設(shè)有通氣孔，所述的爐體上設(shè)置有控制所述的通氣孔開或者閉的氣缸。通過氣缸的形式控制所述的通氣孔的開或者閉，耐用，且使用安全。
文檔編號F27D7/06GK102331189SQ201110212898
公開日2012年1月25日 申請日期2011年7月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月28日
發(fā)明者鄭鐵克 申請人:太倉市華瑞真空爐業(yè)有限公司