專利名稱:用于基因測(cè)序系統(tǒng)的樣品預(yù)處理設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開一種用于基因測(cè)序系統(tǒng)的樣品預(yù)處理設(shè)備，其包括置物平臺(tái)、驅(qū)動(dòng)裝置、移液器及溫控裝置，置物平臺(tái)設(shè)置有反應(yīng)位、試劑位、移液器槍頭位及孵育位，反應(yīng)位放置有磁力架模塊，移液器用于與槍頭結(jié)合，溫控裝置用于調(diào)節(jié)試劑位及孵育位的溫度，移液器設(shè)置在驅(qū)動(dòng)裝置上，驅(qū)動(dòng)裝置用于驅(qū)動(dòng)移液器三維移動(dòng)并通過移液器將槍頭放置在磁力架模塊及反應(yīng)位中，及用于驅(qū)動(dòng)槍頭在磁力架模塊及反應(yīng)位中上下運(yùn)動(dòng)。上述樣品預(yù)處理設(shè)備，驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)槍頭在反應(yīng)位及磁力架模塊中上下運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)了移液、樣品的純化功能，溫控模塊調(diào)節(jié)試劑位及孵育位的溫度，有利用于保存試劑及完成孵育功能，樣品預(yù)處理設(shè)備的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，適合小批量的樣品預(yù)處理。
【專利說明】用于基因測(cè)序系統(tǒng)的樣品預(yù)處理設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及基因測(cè)序領(lǐng)域，尤其是涉及一種用于基因測(cè)序系統(tǒng)的樣品預(yù)處理設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002]基因測(cè)序/核酸測(cè)序(包括DNA測(cè)序和RNA測(cè)序)是研宄核酸的重要方法之一。DNA測(cè)序(DNA sequencing,或譯DNA定序)是指分析特定DNA片段的堿基序列，也就是腺嘌呤(A)、胸腺嘧啶(T)、胞嘧啶(C)與鳥嘌呤(G)的排列方式。同理，RNA測(cè)序是指分析特定RNA片段的堿基序列，也就是腺嘌呤(A)、鳥嘌呤(G)、胞嘧啶(C)和尿嘧啶⑶的排列方式。在對(duì)核酸進(jìn)行測(cè)序之前，需要先將細(xì)胞內(nèi)的核酸提取出來，然后去除核酸溶液中的雜質(zhì)，對(duì)核酸進(jìn)行純化、提取、建庫(kù)等操作，即樣品預(yù)處理?，F(xiàn)有技術(shù)中通常使用“磁珠法”提取核酸?！按胖榉ā笔沁@樣提取核酸的:將一種表面可以吸附核酸分子的磁珠放入未經(jīng)純化的核酸溶液中，核酸分子被吸附到磁珠表面，然后將磁珠從上述溶液中取出，接著對(duì)磁珠進(jìn)行清洗，去除雜質(zhì)，最后再使核酸分子從磁珠上脫離下來，得到純凈的核酸分子。
[0003]市場(chǎng)上已經(jīng)有許多專門為基因測(cè)序而設(shè)計(jì)的基因測(cè)序儀/基因測(cè)序系統(tǒng)，同時(shí)還配套設(shè)計(jì)有用于樣品預(yù)處理的專用設(shè)備?；驕y(cè)序系統(tǒng)的樣品預(yù)處理是復(fù)雜、耗時(shí)、不適合手工操作的。對(duì)于高通量的測(cè)序，通常使用復(fù)雜的自動(dòng)化液體處理系統(tǒng)，完成大量樣品的處理工作和傳送工作。該類系統(tǒng)成本高，操作復(fù)雜，樣品預(yù)處理量大，不適合小批量的樣品預(yù)處理。為了滿足低通量基因測(cè)序系統(tǒng)的樣品預(yù)處理要求，開發(fā)小型樣品預(yù)處理設(shè)備對(duì)低通量測(cè)序系統(tǒng)尤為重要。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]本實(shí)用新型旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。為此，本實(shí)用新型需要提供一種用于基因測(cè)序系統(tǒng)的樣品預(yù)處理設(shè)備。
[0005]一種用于基因測(cè)序系統(tǒng)的樣品預(yù)處理設(shè)備，包括置物平臺(tái)、驅(qū)動(dòng)裝置、移液器及溫控裝置，該置物平臺(tái)設(shè)置有反應(yīng)位、試劑位、移液器槍頭位及孵育位，該反應(yīng)位放置有磁力架模塊，該溫控裝置設(shè)置在該置物平臺(tái)上，該移液器用于與該槍頭結(jié)合，該溫控裝置用于調(diào)節(jié)該試劑位及該孵育位的溫度，該移液器設(shè)置在該驅(qū)動(dòng)裝置上，該驅(qū)動(dòng)裝置用于驅(qū)動(dòng)該移液器三維移動(dòng)并通過該移液器將該槍頭放置在該磁力架模塊及該反應(yīng)位中，及用于驅(qū)動(dòng)該槍頭在該磁力架模塊及該反應(yīng)位中上下運(yùn)動(dòng)。
[0006]上述樣品預(yù)處理設(shè)備，在置物平臺(tái)設(shè)置相應(yīng)功能位，移液器可利用槍頭吸取相應(yīng)的磁珠溶液，驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)槍頭在反應(yīng)位及磁力架模塊中上下運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)了移液、樣品的純化功能，溫控模塊調(diào)節(jié)試劑位及孵育位的溫度，有利用于保存試劑及完成孵育功能，該樣品預(yù)處理設(shè)備的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，適合小批量的樣品預(yù)處理。
[0007]在一個(gè)實(shí)施方式中，該置物平臺(tái)包括第一面及與該第一面相背的第二面，該第一面設(shè)置有該反應(yīng)位、該試劑位、該移液器槍頭位及該孵育位，該溫控裝置設(shè)置在該第二面上。
[0008]在一個(gè)實(shí)施方式中，該驅(qū)動(dòng)裝置包括X軸驅(qū)動(dòng)件、Y軸驅(qū)動(dòng)件及Z軸驅(qū)動(dòng)件，該Y軸驅(qū)動(dòng)件設(shè)置在該X軸驅(qū)動(dòng)件上并由該X軸驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)，該Z軸驅(qū)動(dòng)件設(shè)置在該Y軸驅(qū)動(dòng)件上并由該Y軸驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)，該移液器設(shè)置在該Z軸驅(qū)動(dòng)件上并由該Z軸驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)。
[0009]在一個(gè)實(shí)施方式中，該樣品預(yù)處理設(shè)備還包括基臺(tái)，基臺(tái)包括腳墊及位于該腳墊上的承載板，該置物平臺(tái)及該驅(qū)動(dòng)裝置固定在該承載板上。
[0010]在一個(gè)實(shí)施方式中，該樣品預(yù)處理設(shè)備包括側(cè)邊支撐件、側(cè)邊滑軌及側(cè)邊滑塊，該側(cè)邊支撐件及該側(cè)邊滑軌設(shè)置在該承載板相背的兩側(cè)，該X軸驅(qū)動(dòng)件設(shè)置在該側(cè)邊支撐件上，該Y驅(qū)動(dòng)件一端滑動(dòng)地設(shè)置在該X軸驅(qū)動(dòng)件上，該Y驅(qū)動(dòng)件另一端通過該側(cè)邊滑塊滑動(dòng)地設(shè)置在該側(cè)邊滑軌上。
[0011]在一個(gè)實(shí)施方式中，該X軸驅(qū)動(dòng)件包括X軸機(jī)體及滑動(dòng)地設(shè)置在該X軸機(jī)體上的X軸滑塊，該X軸機(jī)體固定在該側(cè)邊支撐件上，該Y軸驅(qū)動(dòng)件包括Y軸機(jī)體及滑動(dòng)地設(shè)置在該Y軸機(jī)體上的Y軸滑塊，該Y軸機(jī)體一端固定在該X軸滑塊上，該Y軸機(jī)體另一端固定在該側(cè)邊滑塊上，該Z軸驅(qū)動(dòng)件包括Z軸機(jī)體及滑動(dòng)地設(shè)置在該Z軸機(jī)體上的Z軸滑塊，該Z軸機(jī)體固定在該Y軸滑塊上，該移液器設(shè)置在該Z軸滑塊上。
[0012]在一個(gè)實(shí)施方式中，該磁力架模塊包括支架及多個(gè)磁性件，該支架開設(shè)有多個(gè)階梯狀通孔，每個(gè)磁性件設(shè)置在對(duì)應(yīng)的階梯狀通孔內(nèi)。
[0013]在一個(gè)實(shí)施方式中，該反應(yīng)位設(shè)置有多個(gè)溶液管，每個(gè)溶液管與該階梯狀通孔對(duì)應(yīng)，該驅(qū)動(dòng)裝置用于驅(qū)動(dòng)該槍頭的尖端伸進(jìn)該溶液管內(nèi)。
[0014]在一個(gè)實(shí)施方式中，該溫控裝置采用半導(dǎo)體制冷片。
[0015]在一個(gè)實(shí)施方式中，該置物平臺(tái)還設(shè)置有回收位。
[0016]本實(shí)用新型的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本實(shí)用新型的實(shí)踐了解到。

【附圖說明】

[0017]本實(shí)用新型的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對(duì)實(shí)施方式的描述中將變得明顯和容易理解，其中:
[0018]圖1是本實(shí)用新型較佳實(shí)施方式的用于基因測(cè)序系統(tǒng)的樣品預(yù)處理設(shè)備的立體示意圖。
[0019]圖2是圖1的樣品預(yù)處理設(shè)備II部分的放大示意圖。
[0020]圖3是本實(shí)用新型實(shí)施方式的用于基因測(cè)序系統(tǒng)的樣品預(yù)處理設(shè)備的另一立體示意圖。
[0021]圖4是圖3的樣品預(yù)處理設(shè)備IV部分的放大示意圖。
[0022]圖5是本實(shí)用新型實(shí)施方式的用于基因測(cè)序系統(tǒng)的樣品預(yù)處理設(shè)備的再一立體示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0023]下面詳細(xì)描述本實(shí)用新型的實(shí)施方式，所述實(shí)施方式的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實(shí)施方式是示例性的，僅用于解釋本實(shí)用新型，而不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。
[0024]在本實(shí)用新型的描述中，需要理解的是，術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性或者隱合指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱合地包括一個(gè)或者更多個(gè)所述特征。在本實(shí)用新型的描述中，“多個(gè)”的含義是兩個(gè)或兩個(gè)以上，除非另有明確具體的限定。
[0025]在本實(shí)用新型的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接或可以相互通信；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通或兩個(gè)元件的相互作用關(guān)系。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本實(shí)用新型中的具體含義。
[0026]下文的公開提供了許多不同的實(shí)施方式或例子用來實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的不同結(jié)構(gòu)。為了簡(jiǎn)化本實(shí)用新型的公開，下文中對(duì)特定例子的部件和設(shè)定進(jìn)行描述。當(dāng)然，它們僅僅為示例，并且目的不在于限制本實(shí)用新型。此外，本實(shí)用新型可以在不同例子中重復(fù)參考數(shù)字和/或參考字母，這種重復(fù)是為了簡(jiǎn)化和清楚的目的，其本身不指示所討論各種實(shí)施方式和/或設(shè)定之間的關(guān)系。此外，本實(shí)用新型提供了的各種特定的工藝和材料的例子，但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以意識(shí)到其他工藝的應(yīng)用和/或其他材料的使用。
[0027]請(qǐng)參圖1?圖5，本實(shí)用新型較佳實(shí)施方式提供的用于基因測(cè)序系統(tǒng)的樣品預(yù)處理設(shè)備10包括基臺(tái)102、置物平臺(tái)104、驅(qū)動(dòng)裝置106、移液器108及溫控裝置110。該溫控裝置HO設(shè)置在該置物平臺(tái)104上。
[0028]基臺(tái)102包括腳墊112及位于該腳墊112上的承載板114，該承載板114呈長(zhǎng)方形狀，該置物平臺(tái)104及該驅(qū)動(dòng)裝置106固定在該承載板114上。本實(shí)施方式中，該腳墊112的數(shù)量為9個(gè)，其中4個(gè)腳墊112位于該承載板114的角落位置，另外4個(gè)腳墊112分別位于承載板114四個(gè)側(cè)邊的中間位置，剩下I個(gè)腳墊112位于該承載板114的中間位置。這樣的腳墊112布局能為承載板114提供更加穩(wěn)定的支撐，最大限度地避免驅(qū)動(dòng)裝置106在動(dòng)作過程中所帶來的震動(dòng)。
[0029]置物平臺(tái)104通過支撐腳116設(shè)置在承載板114上，本實(shí)施方式中，支撐腳116的數(shù)量為9個(gè)，其中4個(gè)支撐腳116位于置物平臺(tái)104的角落位置，另外4個(gè)支撐腳116分別位于置物平臺(tái)104四個(gè)側(cè)邊的中間位置，剩下I個(gè)支撐腳116位于置物平臺(tái)104的中間位置。這樣的支撐腳116布局能為置物平臺(tái)104提供更加穩(wěn)定的支撐，最大限度地避免驅(qū)動(dòng)裝置106在動(dòng)作過程中所帶來的震動(dòng)。
[0030]該置物平臺(tái)104包括第一面118及與該第一面118相背的第二面120，該第一面118設(shè)置有反應(yīng)位122、試劑位124、移液器槍頭位126、孵育位128及回收位130。在第一面118設(shè)置上述功能位，能夠方便驅(qū)動(dòng)裝置106移動(dòng)移液器108在工作過程中對(duì)相應(yīng)的功能位進(jìn)行定位，提高了處理設(shè)備10的工作效率。
[0031]反應(yīng)位122放置有磁力架模塊132。在本實(shí)施方式中，反應(yīng)位122的數(shù)量為3個(gè)，能最大限度地提供反應(yīng)場(chǎng)所，避免頻繁更換反應(yīng)位122上置物平臺(tái)104而導(dǎo)致處理設(shè)備10的工作效率低下。每個(gè)反應(yīng)位122放置有一個(gè)磁力架模塊132，實(shí)現(xiàn)樣品純化功能。
[0032]請(qǐng)結(jié)合圖4，該磁力架模塊132包括支架134及多個(gè)磁性件136，該支架134開設(shè)有多個(gè)階梯狀通孔138，每個(gè)磁性件136設(shè)置在對(duì)應(yīng)的階梯狀通孔138內(nèi)，具體地，每個(gè)磁性件136承載在對(duì)應(yīng)的階梯狀通孔138內(nèi)的階梯面139上。本實(shí)施方式中，該磁性件136采用半環(huán)形永磁鐵，這樣可增加磁性件136與槍頭140的接觸面積，增加磁珠利用率?？梢岳斫猓谄渌鼘?shí)施方式中，該磁性件136還可采用電磁鐵等磁性件，其形狀也可以是環(huán)形或者條形等，只要能夠達(dá)到為磁珠提供磁力的效果即可。該反應(yīng)位122還設(shè)置有多個(gè)溶液管142，每個(gè)溶液管142與該階梯狀通孔138對(duì)應(yīng)。該驅(qū)動(dòng)裝置106用于驅(qū)動(dòng)該槍頭140的尖端伸進(jìn)該溶液管142內(nèi)以吸取樣品溶液。
[0033]試劑位124可用于放置純化后的樣品，如磁珠。孵育位128可用于放置特定的溶液，完成孵育功能，如放置與純化后的磁珠反應(yīng)的溶液。
[0034]移液器槍頭位126放置有移液器108所使用的槍頭140。本實(shí)施方式中，移液器槍頭位126的數(shù)量為2個(gè)，提供了更多數(shù)量的槍頭140，避免頻繁更換槍頭140上置物平臺(tái)104而導(dǎo)致處理設(shè)備10的工作效率低下。
[0035]回收位130用于放置無(wú)用的廢液，因此，在樣品預(yù)處理的過程中，廢液能得到及時(shí)的回收，避免了廢液對(duì)環(huán)境的污染。
[0036]驅(qū)動(dòng)裝置106用于驅(qū)動(dòng)該移液器108三維移動(dòng)并通過該移液器108將該槍頭140放置在該磁力架模塊132及該反應(yīng)位122中及用于驅(qū)動(dòng)該槍頭140在該磁力架模塊132及該反應(yīng)位122中上下運(yùn)動(dòng)。
[0037]驅(qū)動(dòng)裝置106包括X軸驅(qū)動(dòng)件144、Y軸驅(qū)動(dòng)件146及Z軸驅(qū)動(dòng)件148，該Y軸驅(qū)動(dòng)件146設(shè)置在該X軸驅(qū)動(dòng)件144上并由該X軸驅(qū)動(dòng)件144驅(qū)動(dòng)，該Z軸驅(qū)動(dòng)件148設(shè)置在該Y軸驅(qū)動(dòng)件146上并由該Y軸驅(qū)動(dòng)件146驅(qū)動(dòng)，該移液器108設(shè)置在該Z軸驅(qū)動(dòng)件148上并由該Z軸驅(qū)動(dòng)件148驅(qū)動(dòng)。
[0038]該X軸驅(qū)動(dòng)件144包括X軸機(jī)體150及X軸滑塊152，X軸機(jī)體150固定在側(cè)邊支撐件154上，X軸滑塊152滑動(dòng)地設(shè)置在X軸機(jī)體150上。
[0039]Y軸驅(qū)動(dòng)件146包括Y軸機(jī)體156及Y軸滑塊158，Y軸滑塊158滑動(dòng)地設(shè)置在Y軸機(jī)體156上，Y軸機(jī)體156 —端固定在X軸滑塊152上，Y軸機(jī)體156另一端固定在側(cè)邊滑塊160上，該側(cè)邊滑塊160能夠滑動(dòng)地設(shè)置在側(cè)邊滑軌162，該側(cè)邊滑軌162與側(cè)邊支撐件154固定在承載板114相背的兩側(cè)，使Y軸驅(qū)動(dòng)件146橫跨置物平臺(tái)104。預(yù)處理設(shè)備10采用滑軌162支撐，確保驅(qū)動(dòng)裝置106運(yùn)動(dòng)的平穩(wěn)可靠。
[0040]Z軸驅(qū)動(dòng)件148包括Z軸機(jī)體164及Z軸滑塊166，Z軸滑塊166滑動(dòng)地設(shè)置在Z軸機(jī)體164上。Z軸機(jī)體164固定在Y軸滑塊158上，移液器108設(shè)置在Z軸滑塊166上。
[0041]該移液器108用于與該槍頭140結(jié)合并為之提供吸取液體的吸力和釋放液體的壓力。具體地，該驅(qū)動(dòng)裝置106用于驅(qū)動(dòng)該移液器108至移液器槍頭位126完成移液器108的槍頭140裝載。本實(shí)施方式中，該移液器108采用8通道移液器，能夠完成吸排液和退槍頭功能。移液器108吸排液體體積要求為2ul?250ul。
[0042]該溫控裝置110用于調(diào)節(jié)該試劑位124及該孵育位128的溫度。具體地，該溫控裝置110的數(shù)量為2個(gè)，其分別設(shè)置在該第二面120上的與該試劑位124及孵育位128對(duì)應(yīng)的位置，溫控裝置110能夠?qū)崿F(xiàn)加熱及制冷功能，如溫控裝置110采用半導(dǎo)體制冷片完成快速升降溫功能，溫度控制范圍為4°C至90°C。對(duì)應(yīng)于試劑位124的溫控裝置110使試劑位124的溫度控制在4°C，用于保存試劑。對(duì)應(yīng)于孵育位128的溫控裝置110，提供4°C至90°C范圍內(nèi)溫度的精確控制，完成孵育功能。當(dāng)然，溫控裝置110還能根據(jù)實(shí)際所需進(jìn)行溫度的調(diào)節(jié)，以適應(yīng)不同實(shí)驗(yàn)或同一實(shí)驗(yàn)不同階段、流程對(duì)溫度的要求。
[0043]上述樣品預(yù)處理設(shè)備10，在置物平臺(tái)104設(shè)置相應(yīng)功能位，移液器108可利用槍頭140吸取相應(yīng)的磁珠溶液，驅(qū)動(dòng)裝置106驅(qū)動(dòng)槍頭140在反應(yīng)位122及磁力架模塊132中上下運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)了移液、樣品的純化功能，溫控模塊110調(diào)節(jié)試劑位124及孵育位128的溫度，有利用于保存試劑及完成孵育功能。該樣品預(yù)處理設(shè)備10的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，適合小批量的樣品預(yù)處理。進(jìn)一步地，該樣品預(yù)處理設(shè)備10采用8通道自動(dòng)移液器，集成了溫控裝置110、三維驅(qū)動(dòng)裝置106、自動(dòng)移液器108和磁力架純化模塊132，可以完成移液、溫度控制、樣品純化、DNA提取、單鏈分離及定量功能。完成血清到DNB處理的全過程。每次可以進(jìn)行最多8個(gè)樣品的預(yù)處理，其中采用吸頭純化方案也可實(shí)現(xiàn)高通量樣品制備，大大縮短了磁珠純化流程，節(jié)省了時(shí)間和耗材成本，提高測(cè)序前樣品預(yù)處理的自動(dòng)化程度。
[0044]特別地，該樣品預(yù)處理設(shè)備10可以實(shí)現(xiàn)每個(gè)樣品在單個(gè)吸頭中完成去除雜質(zhì)過程，有效避免了通常的磁珠純化步驟反復(fù)清洗磁珠時(shí)容易造成樣品損耗和移液步驟頻繁帶來樣品間交叉污染，可以大大簡(jiǎn)化磁珠純化流程。應(yīng)用在第二代測(cè)序技術(shù)(Illumina公司的Hiseq和life tech公司的Proton兩大平臺(tái))，提高了實(shí)現(xiàn)DNA樣品文庫(kù)制備自動(dòng)化程度，提高測(cè)序樣品預(yù)處理效率?？梢员ＷC樣品制備成功率達(dá)到95%以上。
[0045]進(jìn)一步地，該樣品預(yù)處理設(shè)備10可用作建庫(kù)平臺(tái)，該建庫(kù)平臺(tái)具有8通道移液槍頭、溫控模塊、磁力架模塊純化系統(tǒng)。所以對(duì)于在建庫(kù)過程中需要頻繁使用的酶反應(yīng)和純化都可以在該處理設(shè)備上面實(shí)現(xiàn)。由于匹配的是8通道移液槍頭，所以同時(shí)可以處理8個(gè)樣本，正好適合1n Proton這種低通量的測(cè)試平臺(tái)。Proton的一般建庫(kù)流程為，將打斷后樣品直接放入樣品預(yù)處理設(shè)備中，直到PCR時(shí)，可以將需要進(jìn)行PCR的樣品拿出，PCR完成后，再將樣品放回樣品預(yù)處理設(shè)備中進(jìn)行純化。
[0046]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠更清楚明白地理解本實(shí)用新型，以下對(duì)本實(shí)施例所提供的樣品預(yù)處理設(shè)備10的工作方式進(jìn)行概述，需要說明的是，以下僅為本實(shí)用新型的一種工作方式，其不用于限定本實(shí)用新型，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可根據(jù)具體需要調(diào)整其工作方式:
[0047]假設(shè)溶液管142內(nèi)裝有可用于清洗磁珠表面的試劑溶液，磁珠已投放入該試劑溶液中，形成磁珠溶液，磁珠表面吸附有核酸分子；試劑位124和孵育位128上分別放置有多孔板(例如96孔板)，孔內(nèi)可以預(yù)裝有各種所需的試劑溶液；
[0048]首先，驅(qū)動(dòng)裝置106帶動(dòng)移液器108到移液器槍頭位126上，并將槍頭140安裝至移液器108上；
[0049]接著，驅(qū)動(dòng)裝置106帶動(dòng)移液器108到反應(yīng)位122上方，并將槍頭140插設(shè)于磁力架模塊132的磁性件136內(nèi)，其下端插入溶液管142內(nèi)吸取磁珠溶液；
[0050]接著，驅(qū)動(dòng)裝置106驅(qū)動(dòng)槍頭140沿豎直方向上下活動(dòng)，由于磁性件136的磁力作用，磁珠將在槍頭140內(nèi)部相對(duì)上下移動(dòng)，磁珠相對(duì)于溶液在槍頭140內(nèi)滾動(dòng)，起到清洗磁珠的效果；
[0051]磁珠清洗完畢后，驅(qū)動(dòng)裝置106帶動(dòng)移液器108到試劑位124上方或者孵育位128上方，并將槍頭140內(nèi)的磁珠釋放至多孔板的孔位內(nèi)，進(jìn)行保存、孵育、建庫(kù)等流程；
[0052]上述步驟完畢后，移液器108可更換新的槍頭140，反復(fù)循環(huán)上述步驟，完成多次樣品預(yù)處理工作。
[0053]在本說明書的描述中，參考術(shù)語(yǔ)“一個(gè)實(shí)施方式”、“一些實(shí)施方式”、“示意性實(shí)施方式”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合所述實(shí)施方式或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)包含于本實(shí)用新型的至少一個(gè)實(shí)施方式或示例中。在本說明書中，對(duì)上述術(shù)語(yǔ)的示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施方式或示例。而且，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)可以在任何的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式或示例中以合適的方式結(jié)合。
[0054]盡管已經(jīng)示出和描述了本實(shí)用新型的實(shí)施方式，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解:在不脫離本實(shí)用新型的原理和宗旨的情況下可以對(duì)這些實(shí)施方式進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本實(shí)用新型的范圍由權(quán)利要求及其等同物限定。
【權(quán)利要求】
1.一種用于基因測(cè)序系統(tǒng)的樣品預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，包括置物平臺(tái)、驅(qū)動(dòng)裝置、移液器及溫控裝置，該置物平臺(tái)設(shè)置有反應(yīng)位、試劑位、移液器槍頭位及孵育位，該反應(yīng)位放置有磁力架模塊，該溫控裝置設(shè)置在該置物平臺(tái)上，該移液器用于與該槍頭結(jié)合，該溫控裝置用于調(diào)節(jié)該試劑位及該孵育位的溫度，該移液器設(shè)置在該驅(qū)動(dòng)裝置上，該驅(qū)動(dòng)裝置用于驅(qū)動(dòng)該移液器三維移動(dòng)并通過該移液器將該槍頭放置在該磁力架模塊及該反應(yīng)位中，及用于驅(qū)動(dòng)該槍頭在該磁力架模塊及該反應(yīng)位中上下運(yùn)動(dòng)。2.如權(quán)利要求1所述的樣品預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，該置物平臺(tái)包括第一面及與該第一面相背的第二面，該第一面設(shè)置有該反應(yīng)位、該試劑位、該移液器槍頭位及該孵育位，該溫控裝置設(shè)置在該第二面上。3.如權(quán)利要求1所述的樣品預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，該驅(qū)動(dòng)裝置包括X軸驅(qū)動(dòng)件、Y軸驅(qū)動(dòng)件及Z軸驅(qū)動(dòng)件，該Y軸驅(qū)動(dòng)件設(shè)置在該X軸驅(qū)動(dòng)件上并由該X軸驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)，該Z軸驅(qū)動(dòng)件設(shè)置在該Y軸驅(qū)動(dòng)件上并由該Y軸驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)，該移液器設(shè)置在該Z軸驅(qū)動(dòng)件上并由該Z軸驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)。4.如權(quán)利要求3所述的樣品預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，該樣品預(yù)處理設(shè)備還包括基臺(tái)，基臺(tái)包括腳墊及位于該腳墊上的承載板，該置物平臺(tái)及該驅(qū)動(dòng)裝置固定在該承載板上。5.如權(quán)利要求4所述的樣品預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，該樣品預(yù)處理設(shè)備包括側(cè)邊支撐件、側(cè)邊滑軌及側(cè)邊滑塊，該側(cè)邊支撐件及該側(cè)邊滑軌設(shè)置在該承載板相背的兩側(cè)，該X軸驅(qū)動(dòng)件設(shè)置在該側(cè)邊支撐件上，該Y驅(qū)動(dòng)件一端滑動(dòng)地設(shè)置在該X軸驅(qū)動(dòng)件上，該Y驅(qū)動(dòng)件另一端通過該側(cè)邊滑塊滑動(dòng)地設(shè)置在該側(cè)邊滑軌上。6.如權(quán)利要求5所述的樣品預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，該X軸驅(qū)動(dòng)件包括X軸機(jī)體及滑動(dòng)地設(shè)置在該X軸機(jī)體上的X軸滑塊，該X軸機(jī)體固定在該側(cè)邊支撐件上，該Y軸驅(qū)動(dòng)件包括Y軸機(jī)體及滑動(dòng)地設(shè)置在該Y軸機(jī)體上的Y軸滑塊，該Y軸機(jī)體一端固定在該X軸滑塊上，該Y軸機(jī)體另一端固定在該側(cè)邊滑塊上，該Z軸驅(qū)動(dòng)件包括Z軸機(jī)體及滑動(dòng)地設(shè)置在該Z軸機(jī)體上的Z軸滑塊，該Z軸機(jī)體固定在該Y軸滑塊上，該移液器設(shè)置在該Z軸滑塊上。7.如權(quán)利要求1所述的樣品預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，該磁力架模塊包括支架及多個(gè)磁性件，該支架開設(shè)有多個(gè)階梯狀通孔，每個(gè)磁性件設(shè)置在對(duì)應(yīng)的階梯狀通孔內(nèi)。8.如權(quán)利要求7所述的樣品預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，該反應(yīng)位設(shè)置有多個(gè)溶液管，每個(gè)溶液管與該階梯狀通孔對(duì)應(yīng)，該驅(qū)動(dòng)裝置用于驅(qū)動(dòng)該槍頭的尖端伸進(jìn)該溶液管內(nèi)。9.如權(quán)利要求1所述的樣品預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，該溫控裝置采用半導(dǎo)體制冷片。10.如權(quán)利要求1所述的樣品預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，該置物平臺(tái)還設(shè)置有回收位。
【文檔編號(hào)】C12M1-34GK204298409SQ201420750277
【發(fā)明者】李景, 王景, 張松振, 鄒良英, 李琳, 黃妙珍 [申請(qǐng)人]深圳華大基因研究院