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改進(jìn)的環(huán)己烷氧化方法

文檔序號(hào):3556041閱讀:345來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:改進(jìn)的環(huán)己烷氧化方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及環(huán)己烷的液相氧化方法,具體說(shuō)涉及在這種氧化過(guò)程中降低最后的尾氣中氧含量的方法。
背景技術(shù)
商業(yè)上環(huán)己醇和環(huán)己酮可以通過(guò)環(huán)己烷生產(chǎn)。該方法的第一步是通過(guò)含氧氣體,例如空氣或富氧空氣氧化環(huán)己烷得到環(huán)己醇、環(huán)己酮和環(huán)己基過(guò)氧化氫(cyclohexyl hydroperoxide,CHHP)。環(huán)己醇(A)和環(huán)己酮(K)的混合物通常稱作“KA”或“KA油”。該反應(yīng)通常在約130℃到約200℃的溫度下進(jìn)行。工業(yè)上使用不同類型的反應(yīng)器,包括單個(gè)高壓釜、多個(gè)串聯(lián)的高壓釜、具有多隔室的臥式單個(gè)反應(yīng)器以及多級(jí)塔式反應(yīng)器。通常將空氣作為氧源。任何未反應(yīng)的氧氣(與存在于空氣中的氮?dú)庖黄?以氣態(tài)流出物的形式離開(kāi)該一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器。所述的氣態(tài)流出物還含有氣化的環(huán)己烷和其它化合物。未反應(yīng)的氧氣通常稱作“氧氣漏流”。將氣態(tài)流出物中的氣化的環(huán)己烷和其它產(chǎn)物濃縮并回收,尾氣離開(kāi)系統(tǒng),通常至消除系統(tǒng)中。從來(lái)自該一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器的液體流出物中回收KA產(chǎn)物,并再循環(huán)未反應(yīng)的環(huán)己烷。
已經(jīng)觀察到,來(lái)自反應(yīng)器的氧氣漏流越少,形成不希望得到的副產(chǎn)物就越多,并因此希望得到的產(chǎn)物的產(chǎn)率就越低。在環(huán)己烷的氧化過(guò)程中,環(huán)己酮、環(huán)己醇和環(huán)己基過(guò)氧化氫的產(chǎn)率可以通過(guò)在高的氧氣漏流下(即在無(wú)環(huán)己烷的氧氣、氮?dú)夂推渌鼩怏w和蒸氣的混合物中未反應(yīng)的氧氣的濃度)操作而得到優(yōu)化。不幸的是,當(dāng)氧氣漏流濃度超過(guò)8vol%時(shí),可在廢氣流中形成不安全的易燃混合物。因此,作為安全范圍,氧氣漏流通常保持在低于4vol%。更高的氧氣漏流也意味著輸送到反應(yīng)器中的空氣沒(méi)有被充分利用。換句話說(shuō),該方法需要更多的空氣,從而導(dǎo)致壓縮成本的增加。另外,增加的尾氣體積也會(huì)增加尾氣處理成本。US專利3,957,876(Rapoport & White)教導(dǎo)了一種通過(guò)使用所謂的清潔反應(yīng)區(qū)降低環(huán)己烷氧化過(guò)程中氧氣漏流的方法。Rapoport & White的專利公開(kāi)了一種在塔式反應(yīng)器中氧化環(huán)己烷的方法,該塔式反應(yīng)器有許多多孔板塔盤(pán),使含氧氣體與液體的環(huán)己烷接觸。該塔具有兩個(gè)區(qū)。液體環(huán)己烷進(jìn)入稱為“清潔”區(qū)的頂部區(qū)域的頂部,向下流動(dòng)通過(guò)清潔區(qū)中的塔盤(pán)以逆流方式與來(lái)自底部區(qū)域的氣態(tài)流出物接觸。來(lái)自清潔區(qū)的包括液體環(huán)己烷、CHHP、K以及A的液體流出物進(jìn)入底部區(qū)域的頂部并向下流經(jīng)底部區(qū)域的塔盤(pán)以逆流方式與含氧氣體接觸。含氧氣體進(jìn)入底部區(qū)域的底部。底部區(qū)域完成大部分的氧化反應(yīng)。從底部區(qū)域的底部回收含有環(huán)己烷、CHHP、K和A的液體流出物。清潔區(qū)可以通過(guò)使氧氣與環(huán)己烷反應(yīng)來(lái)額外消耗氧氣,并且這樣生成的尾氣含有足夠低濃度的氧氣從而避免爆炸的危險(xiǎn)。
在Rapoport & White的方法中的一個(gè)缺點(diǎn)在于整個(gè)環(huán)己烷流與來(lái)自底部區(qū)域的氣態(tài)流出物接觸。由于待處理的氣態(tài)流出物中的氧氣濃度特別低,需要高反應(yīng)溫度和/或催化劑來(lái)消耗足夠的氧氣以降低尾氣中的氧氣濃度達(dá)到可接受的水平。因此,整個(gè)環(huán)己烷流必須加熱到該高溫。由于在底部區(qū)域使用同樣的熱環(huán)己烷用于反應(yīng),底部區(qū)域的反應(yīng)溫度也較高。本領(lǐng)域已熟知,在環(huán)己烷氧化的過(guò)程中,由于高溫度有利于產(chǎn)生不需要的副產(chǎn)物,因此,高反應(yīng)溫度不利于產(chǎn)生所需產(chǎn)物。
如Rapoport & White所教導(dǎo)的,因此希望獲得在塔式反應(yīng)器中環(huán)己烷的氧化方法,該方法尾氣中氧氣濃度低并且在底部區(qū)域中反應(yīng)溫度比在Rapoport &White的專利中所描述的反應(yīng)溫度低。還希望獲得實(shí)現(xiàn)尾氣中氧氣含量低的方法,所述的方法可應(yīng)用于環(huán)己烷氧化的其它類型的反應(yīng)器,例如單個(gè)高壓釜、多個(gè)串聯(lián)的高壓釜和具有多隔室的臥式單個(gè)反應(yīng)器。
發(fā)明概述本發(fā)明提供這樣的方法。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案中,將一種塔式反應(yīng)器以只有一部分液體環(huán)己烷輸送到清潔反應(yīng)區(qū)與來(lái)自初級(jí)反應(yīng)區(qū)(底部區(qū)域)的氣態(tài)流出物接觸的方式操作。環(huán)己烷流的剩余部分直接輸送到初級(jí)反應(yīng)區(qū)的頂部。因此該環(huán)己烷流的剩余部分的溫度可以是任何需要的溫度而不依賴于清潔反應(yīng)區(qū)的溫度。因此本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)比Rapoport & White所述方法的相應(yīng)產(chǎn)率高的所需產(chǎn)物產(chǎn)率。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案中,其方法包括清潔反應(yīng)區(qū),其中總的環(huán)己烷流的一部分與來(lái)自初級(jí)反應(yīng)區(qū)的氣態(tài)流出物接觸。在待處理的氣態(tài)流出物中的一部分氧氣在清潔反應(yīng)器中被消耗,因此可使得尾氣中氧氣的濃度低。環(huán)己烷流的剩余部分直接輸送到初級(jí)反應(yīng)區(qū)中。除了減少尾氣中的氧氣濃度和增加所需產(chǎn)物的產(chǎn)率外,本發(fā)明還會(huì)提供操作穩(wěn)定性。
因此,本發(fā)明為環(huán)己烷氧化方法,包括-將液體環(huán)己烷在第一流速下和含氧氣體引入初級(jí)反應(yīng)區(qū)中,任選在環(huán)己烷氧化催化劑存在下,從而使所述的環(huán)己烷和所述的含氧氣體接觸,生成含有環(huán)己基過(guò)氧化氫(CHHP)、環(huán)己酮(K)和環(huán)己醇(A)的初級(jí)液體反應(yīng)產(chǎn)物,-從所述的初級(jí)反應(yīng)區(qū)回收所述的液體反應(yīng)產(chǎn)物,-從所述的初級(jí)反應(yīng)區(qū)回收含有未反應(yīng)的氣態(tài)環(huán)己烷和0.5到6.0vol%的氧氣的初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體,-將初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體和在比所述第一流速低的第二流速下的液體環(huán)己烷引入到清潔反應(yīng)區(qū)中,從而使初級(jí)反應(yīng)氣體與液體環(huán)己烷接觸生成含CHHP、K和A的清潔反應(yīng)產(chǎn)物,以及-從所述的清潔反應(yīng)區(qū)回收含有濃度比在初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體中氧氣濃度更低的氧氣的清潔反應(yīng)區(qū)氣體。
附圖的簡(jiǎn)要說(shuō)明附圖由3幅圖構(gòu)成。

圖1表示如Rapoport & White教導(dǎo)的塔式氧化器的使用清潔反應(yīng)區(qū)的方法的簡(jiǎn)圖。圖2表示本發(fā)明方法的簡(jiǎn)圖,其中初級(jí)反應(yīng)區(qū)和清潔反應(yīng)區(qū)可以獨(dú)立選自單個(gè)高壓釜、多個(gè)串聯(lián)的高壓釜、具有多個(gè)隔室的臥式單個(gè)反應(yīng)器以及多級(jí)塔式反應(yīng)器。圖3表示本發(fā)明方法的簡(jiǎn)圖,其中所述的初級(jí)反應(yīng)區(qū)和清潔反應(yīng)區(qū)為塔式氧化器的兩個(gè)區(qū)域。
發(fā)明詳述現(xiàn)在參考圖1,顯示了設(shè)備100,說(shuō)明Rapoport和White專利的教導(dǎo)。在設(shè)備100中,用標(biāo)為C的括號(hào)表示的塔的頂部區(qū)域?yàn)榍鍧嵎磻?yīng)區(qū),用標(biāo)為R的括號(hào)表示的塔的底部區(qū)域?yàn)槌跫?jí)反應(yīng)區(qū)。熱的液體環(huán)己烷流(112)進(jìn)入清潔反應(yīng)區(qū)(C)的頂部并流經(jīng)塔盤(pán)(115)并向下通過(guò)降液管(117)。如此它以逆流的方式與來(lái)自初級(jí)反應(yīng)區(qū)(R)的氣態(tài)流出物(134)接觸,如在一般盤(pán)塔中一樣。來(lái)自清潔區(qū)的含有液體環(huán)己烷、CHHP、K和A的液體流出物(124)進(jìn)入到初級(jí)反應(yīng)區(qū)(R)的頂部并流經(jīng)塔盤(pán),向下通過(guò)初級(jí)反應(yīng)區(qū)中塔盤(pán)的降液管,以逆流的方式與含氧氣體接觸。含氧氣體(118)進(jìn)入初級(jí)反應(yīng)區(qū)的底部并向上流經(jīng)塔的塔盤(pán)(115)中的孔(137)。含氧氣體也可以被分開(kāi)并在初級(jí)反應(yīng)區(qū)中的多個(gè)位置引入。從初級(jí)反應(yīng)區(qū)的底部回收含有環(huán)己烷、CHHP、K和A的液體流出物(122)。流經(jīng)清潔反應(yīng)區(qū)和初級(jí)反應(yīng)區(qū)的液體(例如液流112,124和122)的質(zhì)量流速基本相同(忽略蒸氣的損失)。
現(xiàn)在參考圖2,描述本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案200。含液體環(huán)己烷流(212)被分成兩股物流第一流速的物流(214),第二流速的物流(216)。物流216和214可以先預(yù)熱并通過(guò)泵216’和214’輸送或通過(guò)自動(dòng)控制閥來(lái)控制。在物流(212)中液體環(huán)己烷可以包含新鮮的環(huán)己烷和/或從該方法任何后繼部分再循環(huán)的液體環(huán)己烷。在初級(jí)反應(yīng)區(qū)(220)中物流(214)與含氧氣體流(218)接觸。環(huán)己烷氧化催化劑物流,例如鈷或鉻的水溶性鹽可以直接引入(未示出)到初級(jí)反應(yīng)區(qū)(220)、清潔區(qū)(230)或與物流(214)和/或(216)中的液體環(huán)己烷預(yù)混合。含有環(huán)己烷、CHHP、K和A的初級(jí)液體反應(yīng)產(chǎn)物(222)和含有未反應(yīng)的氧氣的初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體(224)離開(kāi)初級(jí)反應(yīng)區(qū)。
初級(jí)反應(yīng)區(qū)(220)可以是單一的高壓釜,任選安裝有提供攪拌的裝置(未示出)。在高壓釜中使液體環(huán)己烷(214)和含氧氣體(218)接觸所需的反應(yīng)時(shí)間。初級(jí)液體反應(yīng)產(chǎn)物(222)和初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體(224)離開(kāi)高壓釜。
初級(jí)反應(yīng)區(qū)可以包括兩個(gè)或多個(gè)串聯(lián)的高壓釜,每個(gè)高壓釜任選安裝有攪拌的裝置,及在高壓釜之間有或沒(méi)有冷卻裝置(未示出)。液體環(huán)己烷(214)進(jìn)入串聯(lián)的第一個(gè)高壓釜,并且初級(jí)液體反應(yīng)產(chǎn)物(222)將離開(kāi)最后一個(gè)高壓釜??梢酝ㄟ^(guò)使用泵、壓差或重力流動(dòng)將液體從一個(gè)高壓釜輸送到下一個(gè)高壓釜。含氧氣體(218)可以被分開(kāi)并引入各個(gè)高壓釜中??梢院喜?lái)自各個(gè)高壓釜中的氣態(tài)流出物形成初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體(224)。
初級(jí)反應(yīng)區(qū)(220)可以是多級(jí)塔,在其中液體流經(jīng)塔盤(pán)并向下通過(guò)塔盤(pán)的降液管,并且氣體向上流過(guò)塔盤(pán)的孔。塔盤(pán)之間的空間可被液體充滿,或部分被液體填充??梢允褂貌煌愋偷乃P(pán)包括但不限于篩板型、泡罩型和浮閥塔板。液體環(huán)己烷(214)和含氧氣體(218)都可以被分開(kāi)并在塔中的多個(gè)部位引入。初級(jí)液體反應(yīng)產(chǎn)物(222)將離開(kāi)塔的底部。初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體(224)將離開(kāi)塔的頂部。
初級(jí)反應(yīng)區(qū)(220)可以是塔式反應(yīng)器,其中液體和氣體以共流方式向上流經(jīng)有孔的塔盤(pán)。液體環(huán)己烷(214)和含氧氣體(218)均可以被分開(kāi)并在塔中的多個(gè)部位引入。初級(jí)液體反應(yīng)產(chǎn)物(222)將在塔的頂部離開(kāi)。初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體(224)也將離開(kāi)塔的頂部。
初級(jí)反應(yīng)區(qū)(220)也可以是具有兩個(gè)或多個(gè)內(nèi)部隔室的臥式容器(未示出)。液體環(huán)己烷流(214)進(jìn)入容器的一端,并且初級(jí)液體反應(yīng)產(chǎn)物(222)將離開(kāi)另一端,同時(shí)液體以溢流和/或底流的方式從一個(gè)隔室流到下一個(gè)隔室。每個(gè)隔室可任選裝有攪拌裝置。含氧氣體(218)可以被分開(kāi)并引入到各個(gè)隔室中??梢院喜?lái)自各個(gè)隔室的氣體流出物形成初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體(224)。
在初級(jí)反應(yīng)區(qū)(220)中在升高的溫度和壓力下發(fā)生環(huán)己烷氧化。溫度通常在130-200℃的范圍。壓力通常在800到2500kPa的范圍內(nèi)。反應(yīng)的熱源可以部分是預(yù)熱的環(huán)己烷流(214)的焓和部分是反應(yīng)熱。液體在初級(jí)反應(yīng)區(qū)(220)中的接觸時(shí)間或停留時(shí)間為每級(jí)2-90分鐘范圍內(nèi)。
通過(guò)附加的反應(yīng)器和分離單元(未示出)處理含有氧化產(chǎn)物的初級(jí)液體反應(yīng)產(chǎn)物(222),其中,將未反應(yīng)的環(huán)己烷回收并作為液體環(huán)己烷流(212)一部分再循環(huán)。任選在霧沫分離器單元中(未示出)處理來(lái)自初級(jí)反應(yīng)區(qū)(220)的初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體(224),其中,使任何以液滴或霧狀形式存在的液體環(huán)己烷凝聚并從氣相中分離。
初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體(224),任選通過(guò)上述方式處理,在清潔反應(yīng)區(qū)(230)中與第二流速的液體環(huán)己烷(216)接觸。第二流速(216)低于第一流速(214)。含有清潔反應(yīng)區(qū)中的氧化產(chǎn)物的液體清潔反應(yīng)產(chǎn)物(234)和包含未反應(yīng)的氧氣的氣態(tài)流出物即清潔反應(yīng)區(qū)氣體(232)離開(kāi)清潔反應(yīng)區(qū)(230)。在清潔反應(yīng)區(qū)氣體(232)中氧氣的濃度比在初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體(224)中氧氣的濃度低。
清潔反應(yīng)區(qū)(230)可以是單一的高壓釜,任選安裝有提供攪拌的裝置(未示出)。第二流速的液體環(huán)己烷(216)和任選被處理的初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體(224)可以在高壓釜中相互接觸達(dá)希望的反應(yīng)時(shí)間。清潔反應(yīng)產(chǎn)物(234)和清潔反應(yīng)區(qū)氣體(232)離開(kāi)高壓釜(230)。
清潔反應(yīng)區(qū)(230)可以包括兩個(gè)或多個(gè)串聯(lián)的高壓釜(未示出),每個(gè)高壓釜任選裝有攪拌裝置(未示出)并且任何兩個(gè)高壓釜之間可以有或沒(méi)有冷卻裝置(未示出)。第二流速的液體環(huán)己烷(216)進(jìn)入串聯(lián)中的第一高壓釜,并且清潔反應(yīng)產(chǎn)物(234)離開(kāi)最后一個(gè)高壓釜。任選被處理的初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體(224)可被分開(kāi)并引入每個(gè)高壓釜。來(lái)自每個(gè)高壓釜的氣態(tài)流出物可以合并形成清潔反應(yīng)區(qū)氣體(232)。
清潔反應(yīng)區(qū)(230)可以是多級(jí)塔,其中液體通過(guò)塔盤(pán)的降液管向下流經(jīng)塔盤(pán),氣體向上流過(guò)塔盤(pán)中的孔。第二流速的液體環(huán)己烷(216)和任選被處理的初級(jí)反應(yīng)氣體(224)均可被分開(kāi)并在塔中的多個(gè)部位引入。液體清潔反應(yīng)產(chǎn)物(234)將離開(kāi)塔底。清潔反應(yīng)區(qū)氣體(232)將離開(kāi)塔的頂部。
清潔反應(yīng)區(qū)(230)也可以是具有兩個(gè)或多個(gè)內(nèi)部隔室的臥式容器(未示出)。第二流速的液體環(huán)己烷(216)將進(jìn)入容器的一端,并且清潔反應(yīng)產(chǎn)物(234)將離開(kāi)容器的另一端。每個(gè)隔室可任選裝有攪拌裝置(未示出)。初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體(224)可以被分開(kāi)并引入到各個(gè)隔室中??梢院喜?lái)自各個(gè)隔室的氣態(tài)流出物形成清潔反應(yīng)區(qū)氣體(232)。
并聯(lián)的任一上述類型反應(yīng)器的多個(gè)容器可以用作清潔反應(yīng)區(qū)。
清潔反應(yīng)區(qū)(230)中的溫度不依賴于初級(jí)反應(yīng)區(qū)(220)的溫度。該溫度通常在130-200℃的范圍內(nèi)。壓力通常在800-2500kPa。輸送到清潔反應(yīng)區(qū)中的環(huán)己烷可以預(yù)熱或未加熱,但是優(yōu)選未加熱。在清潔反應(yīng)器中的熱源可以是液體環(huán)己烷流(216)的焓、尾氣的焓和反應(yīng)熱。在清潔反應(yīng)區(qū)中所需的液體停留時(shí)間為每級(jí)2-90分鐘。
清潔反應(yīng)區(qū)氣體(232)通常經(jīng)過(guò)尾氣處理單元(未示出)處理。來(lái)自清潔反應(yīng)區(qū)的清潔反應(yīng)產(chǎn)物(234)可以與第一流速的液體環(huán)己烷(214)結(jié)合而引入到初級(jí)反應(yīng)區(qū)(220)或直接引入到初級(jí)反應(yīng)區(qū)(220)。
并聯(lián)的清潔反應(yīng)區(qū)的多個(gè)單元可以用于處理初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體(未示出)。
現(xiàn)在參考圖3,表示了另一種實(shí)施本發(fā)明的設(shè)備300。設(shè)備300包含一個(gè)塔,用括號(hào)顯示標(biāo)為C’的塔頂部區(qū)域?yàn)榍鍧嵎磻?yīng)區(qū),并且用括號(hào)顯示標(biāo)為R’的底部區(qū)域?yàn)槌跫?jí)反應(yīng)區(qū)。密封的塔盤(pán)(338)將清潔反應(yīng)區(qū)與初級(jí)反應(yīng)區(qū)分隔開(kāi)。該密封的塔盤(pán)允許來(lái)自該塔盤(pán)底部的初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體(334)向上流經(jīng)塔盤(pán)中的孔(337),但是來(lái)自該塔盤(pán)上面的液體不能向下流過(guò)該塔盤(pán)。液體環(huán)己烷流(312)被分為兩部分第一流速的物流314和第二流速的物流316。物流316,任選被預(yù)熱,進(jìn)入到清潔反應(yīng)區(qū)(C’)的頂部,并流經(jīng)塔盤(pán)并向下通過(guò)塔盤(pán)的降液管(317),致使其以逆流方式與來(lái)自初級(jí)反應(yīng)區(qū)(R’)的向上流動(dòng)的初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體(334)接觸。在清潔反應(yīng)區(qū)中,氣體向上流經(jīng)塔盤(pán)中的孔(337)。包含液體環(huán)己烷、CHHP、K和A的來(lái)自清潔反應(yīng)區(qū)的液體流出物,即清潔反應(yīng)產(chǎn)物(324),從清潔反應(yīng)區(qū)的底部回收,然后在初級(jí)反應(yīng)區(qū)(R’)的頂部引入。該流動(dòng)方式可以通過(guò)外部管線(324’)或通過(guò)內(nèi)部雙降液管(未示出)實(shí)現(xiàn)。經(jīng)過(guò)預(yù)熱的環(huán)己烷流(314)在初級(jí)反應(yīng)區(qū)的頂部引入。初級(jí)反應(yīng)區(qū)中的頂部塔盤(pán)(333)裝有延長(zhǎng)的堰(333’),使得在溢出堰333’之前,在塔盤(pán)333上累積一定體積的環(huán)己烷。合并的液體流(336=314+324)流經(jīng)塔盤(pán)并向下通過(guò)初級(jí)反應(yīng)區(qū)中塔盤(pán)的降液管(317),以逆流方式與通過(guò)塔盤(pán)中的孔(337)向上流動(dòng)的含氧氣體接觸。含氧氣體(318)進(jìn)入初級(jí)反應(yīng)區(qū)的底部。含氧氣體也可以在初級(jí)反應(yīng)區(qū)的多個(gè)部位引入(未示出)。含有環(huán)己烷、CHHP、K和A的初級(jí)液體反應(yīng)產(chǎn)物(322)從初級(jí)反應(yīng)區(qū)的底部回收。在初級(jí)反應(yīng)區(qū)中液體的質(zhì)量流速明顯高于在清潔反應(yīng)區(qū)中的質(zhì)量流速。
權(quán)利要求
1.環(huán)己烷氧化的方法,包括(a)將第一流速的液體環(huán)己烷和含氧氣體引入初級(jí)反應(yīng)區(qū),從而使所述的環(huán)己烷和所述的含氧氣體接觸,任選在環(huán)己烷氧化催化劑的存在下進(jìn)行,生成含有環(huán)己基過(guò)氧化氫(CHHP)、環(huán)己酮(K)和環(huán)己醇(A)的初級(jí)液體反應(yīng)產(chǎn)物,(b)從所述初級(jí)反應(yīng)區(qū)回收所述的液體反應(yīng)產(chǎn)物,以及(c)從所述初級(jí)反應(yīng)區(qū)回收含有未反應(yīng)的氣態(tài)環(huán)己烷和0.5到6.0體積%氧氣的初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體,(d)將初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體和低于所述第一流速的第二流速的液體環(huán)己烷引入到清潔反應(yīng)區(qū),從而使初級(jí)反應(yīng)氣體與液體環(huán)己烷接觸生成含CHHP、K和A的清潔反應(yīng)產(chǎn)物,以及(e)從所述清潔反應(yīng)區(qū)回收含有濃度低于初級(jí)反應(yīng)區(qū)氣體中氧氣濃度的氧氣的清潔反應(yīng)區(qū)氣體。
2.權(quán)利要求1的方法,其中所述清潔反應(yīng)區(qū)氣體含有濃度低于2.0體積%的氧氣。
3.權(quán)利要求1的方法,其中所述清潔反應(yīng)區(qū)氣體在一第二清潔反應(yīng)區(qū)中與液體環(huán)己烷接觸生成含有CHHP、K和A的第二清潔反應(yīng)區(qū)產(chǎn)物,并且從所述第二清潔反應(yīng)區(qū)回收第二清潔反應(yīng)區(qū)氣體,其含有濃度低于所述清潔反應(yīng)區(qū)氣體中的氧氣濃度的氧氣。
全文摘要
環(huán)己烷的氧化方法,其中氧氣與預(yù)選輸送速率的環(huán)己烷在第一反應(yīng)區(qū)中接觸并且未消耗的氧氣在第二反應(yīng)區(qū)中與環(huán)己烷接觸,其中環(huán)己烷的輸送速率低于所述預(yù)選的輸送速率。
文檔編號(hào)C07C409/14GK1874994SQ200480032394
公開(kāi)日2006年12月6日 申請(qǐng)日期2004年11月3日 優(yōu)先權(quán)日2003年11月5日
發(fā)明者L·福多爾, D·P·蘭德賴, B·E·穆夫里, J·M·朗 申請(qǐng)人:因維斯塔技術(shù)有限公司
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