1.5秒~15秒。
[0化1] 酸清洗工序中，例如如圖1所示，可采用一邊對(duì)利用輸送漉1等的機(jī)構(gòu)在水平方向 上連續(xù)地在清洗室2內(nèi)搬運(yùn)的玻璃基板3的上下兩面噴射自清洗噴嘴4噴出的酸性清洗液 5, 一邊用配置在兩面?zhèn)鹊男D(zhuǎn)刷6進(jìn)行擦洗（擦拭）的方法。
[0化引該里，作為清洗用的旋轉(zhuǎn)刷6,可使用多個(gè)PVA(聚己締醇）海綿（發(fā)泡體）制等的 外徑70~100mm的圓柱形狀的刷子。此外，將該些刷子W旋轉(zhuǎn)軸垂直于玻璃基板3的被清 洗面的方式、且前端部與玻璃基板3的被清洗面接觸或隔著小于2mm的間隔的方式進(jìn)行配 置。旋轉(zhuǎn)刷6的旋轉(zhuǎn)速度較好是100~50化pm。
[0053]作為酸性清洗液5,較好使用將上述的酸性清洗劑原液用水稀釋至所需的濃度后 得到的清洗液，稀釋后的清洗液的流量（噴射量）較好是15~40升/分鐘。此外，擦洗時(shí) 間較好是1. 5秒W上。擦洗時(shí)間更好是15秒W下。
[0化4] <堿性的水系清洗液〉
[0055]本發(fā)明中，對(duì)于上述酸清洗工序中利用酸性清洗液進(jìn)行清洗后的玻璃基板，接著 用堿性清洗液（即、含堿的堿性的水系清洗液）進(jìn)行清洗（W下將該清洗工序稱為堿清洗 工序）。堿性清洗液的抑較好是8W上，更好是10W上，特好是12W上。此外，堿性清洗 液的抑較好是14W下。此外，該堿性清洗液中除含有堿外，還可含有馨合劑及表面活性劑。 特好是同時(shí)使用馨合劑和表面活性劑。
[0化6] 作為堿性清洗液中所含的堿，可例舉堿金屬氨氧化物及堿金屬碳酸鹽等的堿金屬 化合物、胺類及氨氧化錠等。作為堿，較好是氨氧化鐘及氨氧化鋼等堿金屬氨氧化物。作為 馨合劑，可例舉亞己基二胺四己酸類馨合劑、葡糖酸類馨合劑、次氮級(jí)=己酸類馨合劑、亞 氨基二班巧酸類馨合劑等。特好是亞己基二胺四己酸類馨合劑。作為表面活性劑，較好是 非離子型表面活性劑。作為非離子型表面活性劑，可例舉上述酸性清洗劑的作為值）成分 的胺-環(huán)氧燒加成物、聚氧己締基十二烷基離等聚氧化締基離類的非離子型表面活性劑、 聚氧己締山梨醇酢脂肪酸醋等聚氧化締基離醋類的非離子型表面活性劑、甘油脂肪酸醋等 醋類的非離子型表面活性劑。
[0057]本發(fā)明中使用的堿性清洗液是將上述堿等溶解于水中而得的水系清洗液。作為 水，可使用脫離子水、超純水、電荷離子水、含氨水（日文；水素水）及臭氧水等。另外，水具 有控制清洗液的流動(dòng)性的功能，所W其含量可根據(jù)清洗速度等的目標(biāo)清洗特性進(jìn)行適當(dāng)設(shè) 定。通常，將W較高濃度包含上述堿等的水溶液（W下稱為堿性清洗劑原液）在使用前用 水進(jìn)行稀釋W(xué)制成堿性清洗液，再將其用于清洗。堿性清洗劑原液中，水的含有比例可設(shè)為 55~98質(zhì)量％。此外，該堿性清洗劑原液中，除了上述堿、馨合劑、和表面活性劑的各成分 W外，可W將分散劑、水溶性有機(jī)溶劑、抗氧化劑、防誘劑、抑調(diào)整劑、緩沖劑、消泡劑、防腐 劑、助水溶劑等的添加劑滲合在水中。
[0化引作為堿性清洗劑原液中的上述各成分的含有比例，堿、馨合劑、和非離子型表面活 性劑較好是均為1~10質(zhì)量％，剩余部分為水。
[0化9]堿清洗工序中，較好是將W上述范圍含有各成分的堿性清洗劑原液用水稀釋W(xué)使 原液的含有比例（濃度）達(dá)到1~5質(zhì)量％，從而制成堿性清洗液，并使用該堿性清洗液。 通過該樣用水稀釋后進(jìn)行使用，可W在不過度破壞玻璃基板表面的前提下，僅除去酸清洗 工序中在玻璃基板的表面生成的富OH親水層，得到能形成密合性高的樹脂BM膜的玻璃基 板表面。
[0060] <堿清洗工序〉
[006U堿清洗工序中，對(duì)于酸清洗工序中利用酸性清洗液進(jìn)行清洗后的玻璃基板，利用 將上述堿性清洗劑原液用水稀釋而得的堿性清洗液進(jìn)行清洗。較好是W單片方式進(jìn)行清 洗。只要是使堿性清洗液與玻璃基板的表面直接接觸而進(jìn)行清洗的方法即可，對(duì)清洗方法 沒有特別限定。與上述的采用酸性清洗液的清洗同樣，可采用擦洗清洗、噴淋清洗（噴射清 洗）、浸潰（dipping)清洗等。此外，堿性清洗液的溫度也與上述酸性清洗液同樣，沒有特別 限定，可在室溫（15°C)~95°C下使用。超過95°C的情況下，水可能會(huì)沸騰，在清洗操作上 不便，因而不優(yōu)選。堿清洗時(shí)間較好是1. 5秒~1小時(shí)，更好是1. 5秒~1分鐘，特別好是 1. 5秒~15秒。
[0062] 堿清洗工序中，也與上述的酸清洗工序同樣，可使用圖1示出的清洗裝置進(jìn)行清 洗。如圖1所示，可采用對(duì)酸清洗結(jié)束后的玻璃基板進(jìn)一步利用輸送漉1等的機(jī)構(gòu)在水平 方向上連續(xù)地在清洗室2內(nèi)進(jìn)行搬送，在酸清洗工序的下游側(cè)對(duì)玻璃基板3的上下兩面一 邊噴射自清洗噴嘴4噴出的堿性清洗液7, 一邊用配置在兩面?zhèn)鹊男D(zhuǎn)刷6擦洗玻璃基板的 兩面的方法。此外，作為清洗液7,較好使用將上述的堿性清洗劑原液用水稀釋至所需的濃 度后得到的堿性清洗液，堿性清洗液的流量（噴射量）較好是15~40升/分鐘。此外，擦 洗時(shí)間較好是1. 5秒W上。擦洗時(shí)間更好是15秒W下。
[0063] 本發(fā)明的清洗方法中，對(duì)于用含有氧化錦粒子的研磨劑進(jìn)行研磨后的玻璃基板， 首先在酸清洗工序中利用含有機(jī)酸的酸性清洗液進(jìn)行清洗，高效地除去其表面殘留和附著 的氧化錦粒子等的磨粒后，在堿清洗工序中用含堿的堿性清洗液進(jìn)行清洗，從而除去上述 酸清洗中產(chǎn)生的玻璃基板的表面的富0H親水層。其結(jié)果是在樹脂BM膜的形成工序中，可抑 制顯影液自玻璃基板表面和BM用樹脂組合物膜的界面浸入，提高樹脂BM膜的密合性。因 而，能夠得到樹脂BM膜的密合性良好且膜剝離得到防止的玻璃基板。
[0064] 實(shí)施例
[0065] W下，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行具體說明，但本發(fā)明并不局限于該些實(shí)施例。W下的 例中，無特別說明的情況下，"％ "表示質(zhì)量％，"份"表示質(zhì)量份。
[0066] 實(shí)施例1，2、比較例1、比較例2
[0067] 使用圖1所示的清洗裝置，按照W下所示，對(duì)表面經(jīng)研磨的玻璃基板實(shí)施清洗。
[0068] 作為玻璃基板，使用由侶娃酸鹽玻璃構(gòu)成的LCD用玻璃基板（旭硝子株式會(huì)社制、 商品名；AN100)，對(duì)該玻璃基板的表面，使用研磨墊，并使用包含粒徑0. 8~1. 0ym的氧化 錦粒子的研磨劑漿料（昭和電工株式會(huì)社（昭和電工（株））制、商品名；SH0R0X A10)進(jìn) 行研磨。
[0069]實(shí)施例1和2中，將組成記作100份時(shí)，將含有有機(jī)麟酸9. 0份、多元駿酸鹽1. 0份、芳香族橫酸10. 0份和胺-環(huán)氧燒1. 0份、其余為水的酸性清洗劑原液（派克公司（八 一力一3-術(shù)レ一シ3シ社）制、商品名；PK-LCG491A)用水稀釋W(xué)使得原液（包含水）的 濃度達(dá)到0. 5 %，一邊將得到的酸性清洗液（P肥.3~2. 8)在1分鐘內(nèi)W2化的流量（W下 表示為清洗液流量）向研磨后的玻璃基板的表面噴射，一邊用旋轉(zhuǎn)的PVA制的刷子進(jìn)行擦 洗，在進(jìn)行酸清洗后，進(jìn)行堿清洗。堿清洗通過下述方法實(shí)施：將堿性清洗劑原液（派克公 司制、商品名；PK-LCG211)用水稀釋W(xué)使得原液（包含水）的濃度達(dá)到1.5%，一邊將得到 的堿性清洗液（pHll~12)在1分鐘內(nèi)W25L的流量噴射到酸清洗后的玻璃基板的表面， 一邊實(shí)施擦洗。另外，酸清洗和堿清洗中的各清洗液的溫度在實(shí)施例1中為25°C，實(shí)施例2 中為35°C。此外，酸清洗工序和堿清洗工序中的擦洗時(shí)間的平均值分別為2. 94秒。在實(shí)施 例1、2的清洗后的玻璃基板上，未確認(rèn)到磨粒的殘存。
[0070] 比較例1中，對(duì)于研磨后的玻璃基板的表面僅實(shí)施了堿清洗。堿清洗通過下述方 法實(shí)施：將堿性清洗劑原液（派克公司制、商品名；PK-LCG211)用水稀釋W(xué)使得原液的濃度 達(dá)到1. 5%，一邊將得到的25°C的堿性清洗液在1分鐘內(nèi)W25L的流量噴射到玻璃基板的 表面，一邊用旋轉(zhuǎn)的PVA制的刷子進(jìn)行擦洗、清洗。擦洗時(shí)間的平均值是2. 94秒。在比較 例1的清洗后的玻璃基板上確認(rèn)到了磨粒的殘存。
[0071] 比較例2中，對(duì)研磨后的玻璃基板的表面僅實(shí)施了酸清洗。酸清洗通過W下方 法實(shí)施：將上述的作為酸性清洗劑原液的PK-LCG491A的原液稀釋至0. 5%，一邊將得到的 25°C的酸性清洗液在1分鐘內(nèi)W2化的流量噴射，一邊用旋轉(zhuǎn)的PVA制的刷子進(jìn)行擦洗、清 洗。擦洗時(shí)間的平均值是3. 92秒。在比較例2的清洗后的玻璃基板上未確認(rèn)到磨粒的殘 存。
[0072] 對(duì)于