技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及適合作為各種顯示器用基板玻璃的、實(shí)質(zhì)上不含有堿金屬氧化物、容易成形為板狀、且抑制了紫外線透射率的面內(nèi)分布的無(wú)堿玻璃基板。
背景技術(shù)：
：以往，對(duì)于各種顯示器用基板玻璃、特別是在表面形成金屬或氧化物薄膜等的玻璃而言，含有堿金屬氧化物時(shí)，堿金屬離子擴(kuò)散到薄膜中使得膜特性劣化，因此要求其為實(shí)質(zhì)上不含有堿金屬離子的無(wú)堿玻璃。在制造以液晶顯示裝置(LCD)為代表的平板顯示器(FPD)時(shí)，使用固化性樹(shù)脂將構(gòu)成該FPD的兩片基板玻璃(LCD的情況下，設(shè)置有TFT元件的基板玻璃與設(shè)置有濾色片的基板玻璃)貼合。此時(shí)，F(xiàn)PD中存在TFT元件等耐熱性成為問(wèn)題的構(gòu)成要素，因此使用光固化性樹(shù)脂作為固化性樹(shù)脂，通過(guò)紫外線照射使樹(shù)脂固化。因此，要求顯示器用基板玻璃具有紫外線透射性，在專利文獻(xiàn)1和2中，提出了300nm的紫外線透射率在厚度為0.5mm情況下為50％～85％的無(wú)堿玻璃基板。對(duì)于顯示器用基板玻璃而言，除了紫外線透射率為期望的范圍，還優(yōu)選紫外線透射率在顯示器用基板玻璃的整個(gè)面上是均勻的、即紫外線透射率的面內(nèi)分布小。例如，存在如下所述的聚合物取向穩(wěn)定化(PolymerStabilizedAlignment；以下稱為“PSA”)技術(shù)(參見(jiàn)專利文獻(xiàn)3)，即：向填充在LCD的液晶層中的液晶材料中添加光聚合性單體，在使液晶分子向規(guī)定方向傾斜的狀態(tài)下進(jìn)行光照射從而在取向膜附近形成聚合物，由此使液晶材料的分子取向穩(wěn)定化。為了應(yīng)對(duì)該技術(shù)，對(duì)于顯示器用基板玻璃而言，要求紫外線透射率的面內(nèi)分布小。顯示器用基板玻璃的紫外線透射率的面內(nèi)分布大時(shí)，需要根據(jù)顯示器用基板玻璃的部位來(lái)改變紫外線的照射條件，從而液晶顯示面板的成品率降低。另外，在LCD、有機(jī)EL顯示裝置(OLED)、特別是手提電話、手機(jī)等便攜式顯示裝置的領(lǐng)域中，顯示裝置的輕量化、薄型化成為重要課題。為了應(yīng)對(duì)該課題，期望進(jìn)一步減小在顯示裝置中使用的顯示器用基板玻璃的板厚。作為減小板厚的方法，通常進(jìn)行如下方法：在基板玻璃的表面形成顯示裝置用構(gòu)件之前或形成之后，使用氫氟酸等對(duì)基板玻璃進(jìn)行蝕刻處理，并根據(jù)需要進(jìn)一步進(jìn)行物理研磨而變薄。但是，在基板玻璃的表面形成顯示裝置用構(gòu)件之前進(jìn)行蝕刻處理等而使基板玻璃變薄時(shí)，基板玻璃的強(qiáng)度降低，撓曲量也增大。因此，出現(xiàn)了利用現(xiàn)有的生產(chǎn)線不能進(jìn)行處理這樣的問(wèn)題。另外，在基板玻璃的表面形成顯示裝置用構(gòu)件之后進(jìn)行蝕刻處理等而使基板玻璃變薄時(shí)，在基板玻璃的表面形成顯示裝置用構(gòu)件的過(guò)程中，出現(xiàn)了在基板的玻璃表面上形成的微細(xì)的裂紋變得明顯這樣的問(wèn)題、即出現(xiàn)了產(chǎn)生邊緣凹坑(エッジピット)這樣的問(wèn)題。因此，以解決這樣的問(wèn)題為目的，提出了下述方法等：將板厚薄的基板玻璃(薄板基板玻璃)與其他支撐基板玻璃貼合而制成層疊體，在這樣的狀態(tài)下實(shí)施用于制造顯示裝置的規(guī)定處理，然后使薄板基板玻璃與支撐基板玻璃分離(參見(jiàn)專利文獻(xiàn)4)。作為使薄板基板玻璃與支撐基板玻璃分離的方法，如專利文獻(xiàn)5中記載的方法那樣，也能夠應(yīng)用對(duì)基板表面掃描照射激光束的方法。為了應(yīng)對(duì)該技術(shù)，對(duì)于顯示器用基板玻璃而言，要求光線透射率的面內(nèi)分布小。顯示器用基板玻璃的光線透射率的面內(nèi)分布大時(shí)，需要根據(jù)顯示器用基板玻璃的部位來(lái)改變激光束的照射條件，從而顯示裝置的成品率降低?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2006-36625號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2：日本特開(kāi)2006-36626號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3：日本特開(kāi)2009-53544號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)4：日本特開(kāi)2009-184172號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)5：日本特開(kāi)2012-104093號(hào)公報(bào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：發(fā)明所要解決的問(wèn)題近年來(lái)，對(duì)于像智能手機(jī)那樣的便攜式終端等高精細(xì)小型顯示器而言，作為高品質(zhì)的p-SiTFT的制造方法，采用利用激光退火的方法，為了進(jìn)一步減小收縮率，要求應(yīng)變點(diǎn)高的玻璃。另外，隨著玻璃基板的大板化、薄板化，為了抑制運(yùn)送時(shí)的玻璃基板的撓曲，要求楊氏模量高、比模量(楊氏模量/密度)高的玻璃。本發(fā)明的目的在于提供一種可解決上述缺點(diǎn)、紫外線透射率高、紫外線透射率的面內(nèi)分布小、應(yīng)變點(diǎn)高、楊氏模量高、且在基板制造時(shí)容易成形為板狀的無(wú)堿玻璃基板。用于解決問(wèn)題的手段為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種無(wú)堿玻璃基板，其應(yīng)變點(diǎn)為680℃以上，楊氏模量為78GPa以上，波長(zhǎng)300nm的紫外線透射率以0.5mm的厚度換算為40％～85％，在G6尺寸的基板中300nm的紫外線透射率的面內(nèi)分布以0.5mm的厚度換算為1％以下，通過(guò)恒速冷卻法求出的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度附近的平均冷卻速度為400℃/分鐘以下，該平均冷卻速度的面內(nèi)分布為40℃/分鐘以下，并且以基于氧化物的質(zhì)量百分率表示，所述無(wú)堿玻璃基板含有：本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板優(yōu)選：鹵素元素的總量以基于氧化物的質(zhì)量百分率表示為0.001％～1％。本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板優(yōu)選：Fe含量(以Fe2O3換算的質(zhì)量百分率表示)的面內(nèi)分布為0.001％～0.003％。另外，為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種無(wú)堿玻璃基板的制造方法，其為制造具有SiO2-Al2O3-RO(RO為MgO、CaO、BaO以及SrO中的一種以上)系的組成的無(wú)堿玻璃的方法，其特征在于包括：調(diào)配玻璃原料以得到如下的無(wú)堿玻璃的工序，所述無(wú)堿玻璃的應(yīng)變點(diǎn)為680℃以上、楊氏模量為78GPa以上、波長(zhǎng)300nm的紫外線透射率以0.5mm的厚度換算為40％～85％、并且，以基于氧化物的質(zhì)量百分率表示含有：控制成形時(shí)和緩慢冷卻時(shí)的溫度條件使得通過(guò)恒速冷卻法求出的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度附近的平均冷卻速度為400℃/分鐘以下、該平均冷卻速度的面內(nèi)分布為40℃/分鐘以下、在G6尺寸的基板中波長(zhǎng)300nm的紫外線透射率的面內(nèi)分布以0.5mm的厚度換算為1％以下的工序。本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板的制造方法優(yōu)選：鹵素元素的總量以基于氧化物的質(zhì)量百分率表示為0.001％～1％。本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板的制造方法優(yōu)選：Fe含量的面內(nèi)分布以Fe2O3換算的質(zhì)量百分率表示為0.001％～0.003％。發(fā)明效果本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板在基板制造時(shí)容易成形為板狀。另外，本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板的紫外線透射率高、且紫外線透射率的面內(nèi)分布小，因此用作FPD的基板玻璃時(shí)成品率提高。具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板進(jìn)行說(shuō)明。本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板(以下也稱為“本發(fā)明的玻璃基板”)含有SiO2、Al2O3、SnO2以及Fe2O3作為必要成分，含有B2O3、MgO、CaO、SrO、BaO以及ZrO2作為任選成分。接下來(lái)，對(duì)各成分的組成范圍進(jìn)行說(shuō)明。SiO2小于50％(質(zhì)量％，以下只要沒(méi)有特別說(shuō)明則同樣為質(zhì)量％)時(shí)，應(yīng)變點(diǎn)不會(huì)充分提高，且熱膨脹系數(shù)增大，密度升高。優(yōu)選為52％以上、更優(yōu)選為54％以上、進(jìn)一步優(yōu)選為56％以上。大于73％時(shí)，玻璃制造時(shí)的熔化性降低，玻璃粘度為102dPa·s時(shí)的溫度T2及玻璃粘度為104dPa·s時(shí)的溫度T4升高，失透溫度升高。優(yōu)選為70％以下、更優(yōu)選為68.5％以下、進(jìn)一步優(yōu)選為67％以下。Al2O3抑制玻璃的分相性、降低熱膨脹系數(shù)、提高應(yīng)變點(diǎn)，但小于10.5％時(shí)不會(huì)表現(xiàn)出這樣的效果，另外，由于使其它的提高膨脹系數(shù)的成分增加，因此結(jié)果是玻璃的熱膨脹增大。優(yōu)選為12.5％以上、更優(yōu)選為14.5％以上、進(jìn)一步優(yōu)選為16.5％以上。大于24％時(shí)，有可能使制造時(shí)的玻璃的熔化性變差、或者使失透溫度升高。優(yōu)選為23％以下、更優(yōu)選為22.5％以下、進(jìn)一步優(yōu)選為22％以下。B2O3不是必須的，但改善制造時(shí)的玻璃的熔化反應(yīng)性、使失透溫度降低、改善耐BHF性，因此可以含有。但是，過(guò)多時(shí)，應(yīng)變點(diǎn)降低、楊氏模量減小，因此設(shè)定為5％以下。優(yōu)選為4％以下。為了得到上述作用，優(yōu)選為0.5％以上、更優(yōu)選為0.8％以上、進(jìn)一步優(yōu)選為1％以上、特別優(yōu)選為1.2％以上。MgO在堿土類中具有不使膨脹系數(shù)提高、且使密度維持在較低的狀態(tài)下提高楊氏模量這樣的特性，在玻璃制造時(shí)還可使熔化性提高，因此可以含有。但是，過(guò)多時(shí)，失透溫度升高，因此設(shè)定為10％以下。優(yōu)選為8％以下、更優(yōu)選為7.5％以下、進(jìn)一步優(yōu)選為7％以下。為了得到上述作用，優(yōu)選為1％以上、更優(yōu)選為2％以上、進(jìn)一步優(yōu)選為3％以上。CaO居于MgO之后，在堿土類中具有不使膨脹系數(shù)提高、且使密度維持得較低的狀態(tài)下提高楊氏模量這樣的特性，還可以使玻璃制造時(shí)的熔化性提高，因此可以含有。但是，過(guò)多時(shí)，有可能失透溫度升高、或者混入大量作為CaO的原料即石灰石(CaCO3)中的雜質(zhì)的磷，因此設(shè)定為14.5％以下。優(yōu)選為10％以下、更優(yōu)選為8.5％以下、進(jìn)一步優(yōu)選為7％以下。為了得到上述作用，優(yōu)選為1％以上、更優(yōu)選為2％以上、進(jìn)一步優(yōu)選為3％以上。SrO不使玻璃的失透溫度升高、且使玻璃制造時(shí)的熔化性提高，因此可以含有。但是，過(guò)多時(shí)，有可能膨脹系數(shù)增大，因此設(shè)定為24％以下。優(yōu)選為12％以下、更優(yōu)選為10.5％以下、進(jìn)一步優(yōu)選為9％以下。為了得到上述作用，優(yōu)選為1.5％以上、更優(yōu)選為2％以上、進(jìn)一步優(yōu)選為2.5％以上。BaO不是必須的，但在玻璃制造時(shí)提高熔化性，因此可以含有。但是，過(guò)多時(shí)，會(huì)使玻璃的膨脹系數(shù)和密度過(guò)度增加，因此設(shè)定為20％以下。優(yōu)選為13.5％以下、更優(yōu)選為10％以下、進(jìn)一步優(yōu)選為8％以下、特別優(yōu)選為6％以下。為了得到上述作用，優(yōu)選為0.1％以上、更優(yōu)選為0.5％以上、進(jìn)一步優(yōu)選為1％以上。為了使玻璃制造時(shí)的熔融溫度降低、或者為了促進(jìn)燒制時(shí)的晶體析出，ZrO2設(shè)定為5％以下。大于5％時(shí)，玻璃變得不穩(wěn)定、或者玻璃的相對(duì)介電常數(shù)ε增大。優(yōu)選為1.5％以下、更優(yōu)選為1％以下、進(jìn)一步優(yōu)選為0.5％以下、特別優(yōu)選實(shí)質(zhì)上不含有。MgO、CaO、SrO、BaO以總量計(jì)少于8％時(shí)，玻璃粘度為104dPa·s時(shí)的溫度T4升高，有可能會(huì)使將玻璃成形為板狀時(shí)所使用的設(shè)備、浮法成形的情況下會(huì)使浮拋窯的殼體結(jié)構(gòu)物、加熱器的壽命變得極短。優(yōu)選為10％以上、更優(yōu)選為11.5％以上、進(jìn)一步優(yōu)選為13％以上。多于29.5％時(shí)，有可能會(huì)產(chǎn)生不能減小熱膨脹系數(shù)這樣的問(wèn)題。優(yōu)選為22％以下、更優(yōu)選為20％以下、進(jìn)一步優(yōu)選為18％以下。為了提高玻璃制造時(shí)的澄清性，優(yōu)選含有SnO2。SnO2在將玻璃原料熔化而得到的玻璃熔液中產(chǎn)生O2氣。在玻璃熔液中，在1450℃以上的溫度下從SnO2還原成SnO，產(chǎn)生O2氣，發(fā)揮使氣泡大幅生長(zhǎng)的作用，為了使氣泡更有效地變大，優(yōu)選在1500℃以上將玻璃原料熔化。玻璃中的Sn含量以SnO2換算為0.01％以上。SnO2小于0.01％時(shí)，不能得到玻璃熔化時(shí)的澄清作用。優(yōu)選為0.05％以上、更優(yōu)選為0.1％以上。SnO2大于1％時(shí)，有可能會(huì)產(chǎn)生玻璃的著色、失透，因此玻璃中的Sn含量以SnO2換算為1％以下、優(yōu)選為0.5％以下、進(jìn)一步優(yōu)選為0.3％以下。需要說(shuō)明的是，Sn含量不是玻璃原料中的投入量，而是在玻璃熔液中殘留的量。關(guān)于這一點(diǎn)，對(duì)于后述的Fe含量、F含量以及Cl含量也是同樣的。玻璃中含有Sn4+的情況下，在將玻璃冷卻的過(guò)程中，玻璃中的Sn被氧化而Fe被還原，由此玻璃的紫外線透射率升高。Fe2O3通過(guò)Fe2+離子所帶來(lái)的紅外線吸收效果而具有在玻璃制造時(shí)提高熔化槽中的熔融玻璃的溫度、降低熔化槽的底板溫度的作用。因此，玻璃中的Fe含量以Fe2O3換算為0.005％以上、優(yōu)選為0.01％以上、更優(yōu)選為0.02％以上、特別優(yōu)選為0.04％以上。但是，過(guò)多時(shí)，存在玻璃的著色、紫外線透射率降低的問(wèn)題，因此設(shè)定為0.1％以下。優(yōu)選為0.07％以下、更優(yōu)選為0.055％以下、特別優(yōu)選為0.045％以下。在本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板中，鹵素元素不是必須的，但可以為了使玻璃制造時(shí)的澄清性提高而含有。作為出于上述目的使用的鹵素元素，從澄清性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選F及Cl。F的含量小于0.001質(zhì)量％時(shí)，有可能降低玻璃原料的熔化時(shí)的澄清作用。優(yōu)選為0.005質(zhì)量％以上、更優(yōu)選為0.01質(zhì)量％以上、進(jìn)一步優(yōu)選為0.02質(zhì)量％以上、特別優(yōu)選為0.03質(zhì)量％以上。F含量大于0.15質(zhì)量％時(shí)，所制造的玻璃的應(yīng)變點(diǎn)降低。優(yōu)選為0.12質(zhì)量％以下、進(jìn)一步優(yōu)選為0.1質(zhì)量％以下。Cl含量小于0.001質(zhì)量％時(shí)，玻璃原料的熔化時(shí)的澄清作用降低。優(yōu)選為0.005質(zhì)量％以上、進(jìn)一步優(yōu)選為0.01質(zhì)量％以上。Cl含量大于0.35質(zhì)量％時(shí)，玻璃中的水分濃度降低，澄清性變差。優(yōu)選為0.25質(zhì)量％以下、進(jìn)一步優(yōu)選為0.2質(zhì)量％以下。需要說(shuō)明的是，鹵素元素的含量以總量計(jì)優(yōu)選為0.001質(zhì)量％以上。含量小于0.001質(zhì)量％時(shí)，玻璃原料的熔化時(shí)的澄清作用降低。優(yōu)選為0.01質(zhì)量％以上、進(jìn)一步優(yōu)選為0.03質(zhì)量％以上。另外，鹵素元素的含量以總量計(jì)優(yōu)選為1質(zhì)量％以下。含量大于1質(zhì)量％時(shí)，有可能應(yīng)變點(diǎn)過(guò)度降低。優(yōu)選為0.7質(zhì)量％以下、進(jìn)一步優(yōu)選為0.5質(zhì)量％以下。需要說(shuō)明的是，為了在面板制造時(shí)不產(chǎn)生設(shè)置于玻璃表面的金屬或氧化物薄膜的特性劣化，本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板不含有超過(guò)雜質(zhì)水平的(即實(shí)質(zhì)上不含有)堿金屬氧化物。另外，為了使玻璃的回收容易，優(yōu)選實(shí)質(zhì)上不含有PbO、As2O3、Sb2O3。進(jìn)一步出于同樣的理由，P2O5含量?jī)?yōu)選為實(shí)質(zhì)上不含有。作為雜質(zhì)的混入量?jī)?yōu)選為23摩爾ppm以下、更優(yōu)選為23摩爾ppm以下、進(jìn)一步優(yōu)選為18摩爾ppm以下、特別優(yōu)選為11摩爾ppm以下。為了改善玻璃制造時(shí)的熔化性、澄清性、成形性，本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板除上述成分以外還可以添加以總量計(jì)為5％以下的ZnO及SO3。本發(fā)明的無(wú)堿玻璃的應(yīng)變點(diǎn)優(yōu)選為680℃以上、更優(yōu)選為690℃以上、進(jìn)一步更優(yōu)選為700℃以上、進(jìn)一步優(yōu)選為710℃以上。本發(fā)明的無(wú)堿玻璃的楊氏模量?jī)?yōu)選為78GPa以上、更優(yōu)選為79GPa以上、80GPa以上、進(jìn)一步為81GPa以上、進(jìn)一步優(yōu)選為82GPa以上。本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板的波長(zhǎng)300nm的紫外線透射率以0.5mm的厚度換算為40％～85％。制造FPD時(shí)，在構(gòu)成該FPD的兩片基板玻璃的貼合中使用的紫外線主要是波長(zhǎng)300nm附近的波長(zhǎng)的紫外線。兩片基板玻璃在波長(zhǎng)300nm的紫外線透射率低時(shí)，利用紫外線固化樹(shù)脂將兩片基板玻璃貼合需要長(zhǎng)時(shí)間。即，即使對(duì)紫外線固化樹(shù)脂照射紫外線，由于容易被基板玻璃吸收，因此使樹(shù)脂固化需要花費(fèi)時(shí)間。本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板的波長(zhǎng)300nm的紫外線透射率以0.5mm的厚度換算為40％以上，因此作為構(gòu)成FPD的基板玻璃使用的情況下，紫外線固化樹(shù)脂的固化不需要長(zhǎng)時(shí)間。玻璃基板的紫外線透射率還因基板的厚度而不同。在本發(fā)明中，為了排除基板的厚度所帶來(lái)的影響，標(biāo)準(zhǔn)化為厚度0.5mm換算的紫外線透射率。300nm的紫外線透射率優(yōu)選為45％以上、更優(yōu)選為50％以上。但是，紫外線透射率過(guò)高時(shí)，照射紫外線時(shí)，有可能氧化物半導(dǎo)體中的Vth特性偏移等、TFT元件的特性變化、FPD的構(gòu)成要素的特性受損。本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板的波長(zhǎng)300nm的紫外線透射率以0.5mm的厚度換算為85％以下，因此不用擔(dān)心耐熱性成為問(wèn)題的FPD的構(gòu)成要素在紫外線照射時(shí)發(fā)生破損。優(yōu)選為80％以下、更優(yōu)選為75％以下。本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板除了波長(zhǎng)300nm的紫外線透射率為上述范圍以下之外，該紫外線透射率的面內(nèi)分布也少。具體而言，波長(zhǎng)300nm的紫外線透射率的面內(nèi)分布在G6尺寸的基板(典型地為1850mm×1500mm)中以0.5mm的厚度換算為1％以下、優(yōu)選為0.5％以下。因此，作為構(gòu)成FPD的基板玻璃使用的情況下，無(wú)需根據(jù)基板玻璃的部位來(lái)改變紫外線的照射條件。本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板的波長(zhǎng)300nm的紫外線透射率的面內(nèi)分布在G7尺寸的基板(典型地為1870mm×2200mm)中以0.5mm的厚度換算為1％以下、進(jìn)一步更優(yōu)選為0.5％以下、在G8尺寸的基板(典型地為2460mm×2160mm)中以0.5mm的厚度換算為1％以下、進(jìn)一步優(yōu)選為0.5％以下。需要說(shuō)明的是，在本說(shuō)明書(shū)中，并不限定于透射率，面內(nèi)分布是指面內(nèi)的其值的最大值與最小值之差。對(duì)于本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板而言，為了使紫外線透射率及其面內(nèi)分布滿足上述數(shù)值范圍，通過(guò)恒速冷卻法求出的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度附近的平均冷卻速度及其面內(nèi)分布滿足以下所示的條件。本申請(qǐng)發(fā)明人對(duì)無(wú)堿玻璃基板的紫外線透射率的面內(nèi)分布進(jìn)行了深入研究，結(jié)果得出如下見(jiàn)解。(1)無(wú)堿玻璃基板含有Fe時(shí)，其紫外線透射率根據(jù)無(wú)堿玻璃基板中所含的全部鐵中的二價(jià)鐵的比例(所謂的Redox)而變化。因此，無(wú)堿玻璃基板中存在Redox的面內(nèi)分布的情況下，會(huì)產(chǎn)生紫外線透射率的面內(nèi)分布。需要說(shuō)明的是，也有可能因無(wú)堿玻璃基板中的Fe含量存在面內(nèi)分布而產(chǎn)生紫外線透射率的面內(nèi)分布。因此，優(yōu)選Fe含量的面內(nèi)分布也小。但是，使Fe的濃度的面內(nèi)分布變得極小在制造上是困難的。在本發(fā)明中，F(xiàn)e含量(以Fe2O3換算)的面內(nèi)分布優(yōu)選為0.001％～0.003％。為了使Fe含量(以Fe2O3換算)的面內(nèi)分布達(dá)到小于0.001％，需要使冷卻速度較后述的條件進(jìn)一步降低、或者使加熱器密度相當(dāng)高，制造上是困難的。另一方面，大于0.003％時(shí)，有可能產(chǎn)生紫外線透射率的面內(nèi)分布。(2)無(wú)堿玻璃基板的Redox根據(jù)玻璃制造時(shí)的熔化溫度、冷卻速度而變化，無(wú)堿玻璃基板的Redox的面內(nèi)分布主要受玻璃制造時(shí)的冷卻速度影響。(3)玻璃的冷卻速度根據(jù)其制造工序而不一樣，冷卻速度根據(jù)溫度范圍而不同。但是，以恒定冷卻速度從高溫進(jìn)行冷卻(恒速冷卻)而得到的玻璃的假想溫度與冷卻速度成線性關(guān)系，因此可以將假想溫度替代定義為恒速冷卻時(shí)的冷卻速度。在本說(shuō)明書(shū)中，將其設(shè)定為通過(guò)恒速冷卻法求出的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度附近的平均冷卻速度。需要說(shuō)明的是，更具體而言，通過(guò)恒速冷卻法求出的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度附近的平均冷卻速度通過(guò)如下所述的步驟求出。將玻璃在比玻璃化轉(zhuǎn)變溫度高約100℃的溫度下保持10分鐘后，以0.1℃/分鐘、1℃/分鐘、10℃/分鐘、100℃/分鐘、1000℃/分鐘實(shí)施上述以恒定冷卻速度進(jìn)行冷卻的實(shí)驗(yàn)，測(cè)定所有的玻璃的折射率，由此可以以標(biāo)準(zhǔn)曲線的方式得到折射率與冷卻速度的關(guān)系。然后，測(cè)定實(shí)際樣品的折射率，根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)曲線求出冷卻速度。以下，在本說(shuō)明書(shū)中，記載為“平均冷卻速度”時(shí)是指通過(guò)恒速冷卻法求出的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度附近的平均冷卻速度。(4)若使平均冷卻速度為規(guī)定的數(shù)值以下，并且，減小其面內(nèi)分布，則能夠減小無(wú)堿玻璃基板的Redox的面內(nèi)分布，能夠減小紫外線透射率的面內(nèi)分布。本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板的平均冷卻速度為400℃/分鐘以下，該平均冷卻速度的面內(nèi)分布為40℃/分鐘以下。無(wú)堿玻璃基板的平均冷卻速度為400℃/分鐘以下時(shí)，無(wú)堿玻璃基板的紫外線透射率為上述范圍，紫外線透射率的面內(nèi)分布減小。無(wú)堿玻璃基板的平均冷卻速度的面內(nèi)分布為40℃/分鐘以下(±20℃/分鐘以下)時(shí)，無(wú)堿玻璃基板的紫外線透射率的面內(nèi)分布足夠小，在G6尺寸的基板中以0.5mm的厚度換算為1％以下。對(duì)于本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板而言，優(yōu)選其平均冷卻速度為300℃/分鐘以下、該平均冷卻速度的面內(nèi)分布為40℃/分鐘以下(±20℃/分鐘以下)；進(jìn)一步優(yōu)選其平均冷卻速度為220℃/分鐘以下、該平均冷卻速度的面內(nèi)分布為30℃/分鐘以下(±15℃/分鐘以下)；特別優(yōu)選其平均冷卻速度為150℃/分鐘以下、該平均冷卻速度的面內(nèi)分布為30℃/分鐘以下(±15℃/分鐘以下)。本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板可以通過(guò)例如如下所述的方法制造。調(diào)配通常使用的各成分的原料以形成應(yīng)變點(diǎn)為680℃以上、楊氏模量為78GPa以上、波長(zhǎng)300nm的紫外線透射率以0.5mm的厚度換算為40％～85％的目標(biāo)成分，將其連續(xù)地投入到熔化爐中，加熱至1500～1800℃進(jìn)行熔化。將該熔融玻璃通過(guò)各種成形法(浮法、下拉法、熔融法等)成形為規(guī)定的板厚，緩慢冷卻后進(jìn)行切割，由此可以得到無(wú)堿玻璃基板。在本發(fā)明中，需要控制成形時(shí)和緩慢冷卻時(shí)的溫度條件使得平均冷卻速度為400℃/分鐘以下、該平均冷卻速度的面內(nèi)分布為40℃/分鐘以下、在G6尺寸的基板中波長(zhǎng)300nm的紫外線透射率的面內(nèi)分布以0.5mm的厚度換算為1％以下。在此，為了減小平均冷卻速度的面內(nèi)分布，優(yōu)選在成形時(shí)及緩慢冷卻時(shí)從側(cè)面?zhèn)乳_(kāi)始加熱玻璃帶。實(shí)施例下述中，例1、3、5、7、9、11、13、15、17、19、21、23、25、27、29、31、33、35、37、39、41、43、45、47為實(shí)施例，例2、4、6、8、10、12、14、16、18、20、22、24、26、28、30、32、34、36、38、40、42、44、46、48為比較例。調(diào)配各成分的原料以形成目標(biāo)組成并進(jìn)行熔化。接著，在實(shí)施例中，強(qiáng)化成形爐及緩慢冷卻爐的側(cè)壁部分的保溫，著眼于玻璃的溫度分布而調(diào)節(jié)緩慢冷卻爐的加熱器的溫度分布從而使得玻璃的溫度分布比以往更好(變得更均勻)。在比較例中，成形爐及緩慢冷卻爐的側(cè)壁部分的保溫如通常一樣，與實(shí)施例相比保溫較弱，沒(méi)有著眼于玻璃的微小的溫度分布而如以往一樣調(diào)節(jié)緩慢冷卻爐的加熱器的溫度分布。表1中，示出了玻璃1～8的玻璃組成(單位：質(zhì)量％)和50～350℃下的熱膨脹系數(shù)(單位：×10-7/℃)、應(yīng)變點(diǎn)(單位：℃)、玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(單位：℃)、比重、楊氏模量(GPa)(通過(guò)超聲波法測(cè)定)、作為高溫粘性值的作為熔化性的基準(zhǔn)的溫度T2(玻璃粘度η為102泊時(shí)的溫度、單位：℃)和作為浮法成形性以及熔融成形性的基準(zhǔn)的溫度T4(玻璃粘度η為104泊時(shí)的溫度、單位：℃)、失透溫度(單位：℃)、光彈性常數(shù)(單位：nm/MPa/cm)(通過(guò)圓板壓縮法在測(cè)定波長(zhǎng)為546nm進(jìn)行測(cè)定)。表2中，示出在例1～48中使用的玻璃、平均冷卻速度(單位：℃/分鐘)、平均冷卻速度的面內(nèi)分布(單位：℃/分鐘)、波長(zhǎng)300nm的平均面內(nèi)透射率平均(單位：％)、波長(zhǎng)300nm的透射率的面內(nèi)分布(單位：％)。需要說(shuō)明的是，各例中使用的玻璃的尺寸為G6尺寸(1850mm×1500mm×0.5mm)。需要說(shuō)明的是，可以從G6尺寸的板切割出多個(gè)50mm×50mm的樣品，通過(guò)測(cè)定各樣品的透射率及折射率求出平均面內(nèi)透射率及透射率的面內(nèi)分布。玻璃的透射率利用日立紫外可見(jiàn)近紅外分光光度計(jì)4U-4100進(jìn)行測(cè)定。折射率測(cè)定中使用了島津裝置制造制的精密折射率儀KPR-2000。[表1]質(zhì)量％玻璃1玻璃2玻璃3玻璃4玻璃5玻璃6玻璃7玻璃8SiO260.960.961.361.360.559.361.663.6Al2O319.719.720.420.518.820.019.720B2O32.52.5114.81.83.70MgO5.25.25.75.74.34.13.87CaO4.44.44.54.54.11.65.59.4SrO776.96.97.58.75.70BaO000004.500SnO20.200.180.150.100.100.050.030.50F0.070.070000.070.070Cl0.2000.060.060.20.20Fe2O30.040.0150.040.0150.0080.0270.050.017平均熱膨脹系數(shù)[×10-7/℃]3939393939403940應(yīng)變點(diǎn)[℃]710710723723693712715733玻璃化轉(zhuǎn)變溫度[℃]775775790790750793762792比重2.572.572.592.592.552.612.532.55楊氏模量[GPa]8484878782828291T2[℃]16501650165016501640170216601622T4[℃]12901290129512951287133313001281失透溫度[℃]12801280129012901235131212651255光彈性常數(shù)[nm/MPa/cm]2828272728272826[表2]由表明顯可知，由于實(shí)施例的玻璃均是平均冷卻速度的面內(nèi)分布為40℃/分鐘以下、在G6尺寸的基板中波長(zhǎng)300nm的紫外線透射率的面內(nèi)分布為1％以下，因此認(rèn)為在作為FPD基板玻璃使用時(shí)，成品率提高。參考特定的實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明詳細(xì)地進(jìn)行了說(shuō)明，但在不脫離本發(fā)明的范圍和精神的情況下可以進(jìn)行各種修改和變更，這對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員而言是顯而易見(jiàn)的。本申請(qǐng)基于2013年4月23日提出的日本專利申請(qǐng)2013-090141，將其內(nèi)容作為參照援引于此。產(chǎn)業(yè)上的可實(shí)用性本發(fā)明的無(wú)堿玻璃基板容易成形為板狀，并且抑制了紫外線透射率的面內(nèi)分布，因此適合作為各種顯示器用基板玻璃。當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3