專利名稱：一種多晶硅系統(tǒng)用氫壓機系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種多晶硅系統(tǒng)用氫壓機系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
多晶硅系統(tǒng)用氫壓機系統(tǒng)包括進氣系統(tǒng)、氫壓機、排氣系統(tǒng)。氫壓機的活塞桿在運動的情況下為了避免潤滑油和壓縮介質(zhì)的接觸，一般是按照油池、氣封倉、泄漏倉、壓縮氣缸這四個獨立的腔體設(shè)計，活塞桿在這四個腔體中運動。油池為活塞桿提供潤滑油、氣封倉是進壓縮原料所用氣體用的，為了避免油池的油進入壓縮氣缸、泄漏倉將氮封倉的氮氣和壓縮汽缸泄漏出來的物料排放出去、壓縮氣缸的作用是壓縮物料。常用進氣系統(tǒng)只有氮氣進氣管，壓縮原料所用氣體為氮氣，在多晶硅系統(tǒng)中系統(tǒng)含氮量不能太高，系統(tǒng)中氮氣含量直接影響多晶硅的質(zhì)量，因此在多晶硅系統(tǒng)中使用的氫壓機對氮含量要求更嚴格，如果將進氮封倉的氮氣關(guān)小，降低氮封倉的壓力，從壓縮氣缸泄露出來的三氯氫硅會進入氮封倉，也就有可能進入油池，使?jié)櫥妥冑|(zhì)，對機器本身產(chǎn)生危害；如果將進氮封倉的氮氣開大，提高氮封倉的壓力，那么氮氣就有可能跟隨活塞桿進入壓縮氣缸，污染整個多晶硅系統(tǒng)。

實用新型內(nèi)容本實用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種多晶硅系統(tǒng)用氫壓機系統(tǒng)。為解決上述技術(shù)問題，本實用新型所采取的技術(shù)方案是一種多晶硅系統(tǒng)用氫壓機系統(tǒng)，包括進氣系統(tǒng)、氫壓機、排氣系統(tǒng)，所述氫壓機包括油池、氣封倉、泄漏倉、壓縮氣缸四個腔體及活塞，油池的右側(cè)連接氣封倉、氣封倉的右側(cè)連接泄漏倉、泄漏倉的右側(cè)連接壓縮氣缸，活塞桿在所述四個腔體中運動。進氣系統(tǒng)包括第一管道(12)、第二管道(13)；第一管道(12)上有第一閥門(6)和第二閥門(8);第二管道(13)上有第三閥門(9);第一管道(12)靠近第一閥門(6)的一端連接氮氣儲罐，靠近第二閥門(8)的一端連接氣封倉；第二管道(13)在第二閥門(8)與氣封倉之間通過三通與第一管道(12)連接，另一端連接氫氣儲罐；排氣系統(tǒng)包括第三管道(15)、 第四管道(16);第三管道(15)上有第四閥門(10);第四管道(16)上有第五閥門(11);第四管道(16)的一端連接泄漏倉，另一端連接尾氣淋洗系統(tǒng)；第三管道(15)在第五閥門(11)與泄漏倉之間通過三通與第四管道(16)連接，另一端連接檢測中心。本實用新型進一步的改進在于進氣系統(tǒng)還包括第五管道(14)，第五管道(14)上有第六閥門(7)，第五管道(14)在第一閥門(6)與第二閥門(8)之間通過三通與第一管道 (12)連接，另一端連接室外排空系統(tǒng)。系統(tǒng)工作壓力為0. 2MPa，設(shè)計壓力為0. 6 MPa，密封使用聚四氟乙烯墊片。系統(tǒng)使用前，先打開第一閥門(6)、第二閥門(8)、第五閥門(11)，關(guān)閉第六閥門(7)、第三閥門(9)、第四閥門(10)，進行氮氣置換，用氮氣置換系統(tǒng)內(nèi)的空氣，置換20-30min后，打開第四閥門(10)，取樣檢測，當樣品含氧量大于IOppm時，繼續(xù)用氮氣置換，直至樣品含氧量小于IOppm為檢測合格；檢測合格后，關(guān)閉第一閥門(6)、第二閥門 (8)、第四閥門(10)，打開第六閥門(7)、第三閥門(9)、第五閥門(11)，進行氫氣置換，置換 40-60min后，打開第四閥門(10)，取樣檢測，當樣品含氮量大于IOOOppm時，繼續(xù)用氫氣置換，直至樣品含氮量小于lOOOppm，可以正常開氫壓機。系統(tǒng)檢修時，關(guān)閉第六閥門(7)、第三閥門(9)、第四閥門(10)，打開第一閥門(6)、 第二閥門(8)、第五閥門(11)，進行氮氣置換，1-1. 5h以后，打開第四閥門(10)，取樣檢測， 當樣品含氫量大于500ppm時，繼續(xù)置換，直至含氫量小于500ppm，可以開倉檢修。第六閥門(7)的作用是，當?shù)谝婚y門(6)出現(xiàn)故障有氮氣泄露時，可以通過第六閥門(7)排出。采用上述技術(shù)方案所產(chǎn)生的有益效果在于在進氣系統(tǒng)中增加進氫氣的管道，使用氫氣代替原來的氮氣壓縮原料，避免原料進入油池，也減小了多晶硅系統(tǒng)中進入雜質(zhì)的可能。
以下結(jié)合附圖和具體實施方式
對本實用新型作進一步詳細的說明。


圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；1為油池，2為氣封倉、3為泄漏倉、4為壓縮氣缸，5為活塞桿，6為第一閥門、7為第六閥門、8為第二閥門、9為第三閥門、10為第四閥門、11為第五閥門，12為第一管道、13為
第二管道、14為第五管道、15第三管道、16為第四管道。
具體實施方式
實施例1 一種多晶硅系統(tǒng)用氫壓機系統(tǒng)，包括進氣系統(tǒng)、氫壓機、排氣系統(tǒng)，所述氫壓機包括油池、氣封倉、泄漏倉、壓縮氣缸四個腔體及活塞，油池的右側(cè)連接氣封倉、氣封倉的右側(cè)連接泄漏倉、泄漏倉的右側(cè)連接壓縮氣缸，活塞桿在所述四個腔體中運動。進氣系統(tǒng)包括第一管道(12)、第二管道(13)。第一管道(12)上有第一閥門(6)和第二閥門(8)。第二管道(13)上有第三閥門(9)。第一管道(12)靠近第一閥門(6)的一端連接氮氣儲罐，靠近第二閥門(8)的一端連接氣封倉。第二管道(13)在第二閥門(8)與氣封倉之間通過三通與第一管道(12)連接，另一端連接氫氣儲罐。進氣系統(tǒng)還包括第五管道(14)，第五管道(14)上有第六閥門(7)，第五管道(14)在第一閥門(6)與第二閥門(8)之間通過三通與第一管道(12)連接，另一端連接室外排空系統(tǒng)。排氣系統(tǒng)包括第三管道(15)、第四管道(16)。第三管道(15)上有第四閥門(10)。 第四管道(16)上有第五閥門(11)。第四管道(16)的一端連接泄漏倉，另一端連接尾氣淋洗系統(tǒng)。第三管道(15)在第五閥門(11)與泄漏倉之間通過三通與第四管道(16)連接，另一端連接檢測中心。
權(quán)利要求1.一種多晶硅系統(tǒng)用氫壓機系統(tǒng)，包括進氣系統(tǒng)、氫壓機、排氣系統(tǒng)，所述氫壓機包括油池(1)、氣封倉(2)、泄漏倉(3)、壓縮氣缸(4)四個腔體及活塞，油池(1)的右側(cè)連接氣封倉(2)、氣封倉(2)的右側(cè)連接泄漏倉(3)、泄漏倉(3)的右側(cè)連接壓縮氣缸(4)，活塞桿在所述四個腔體中運動，其特征在于所述進氣系統(tǒng)包括第一管道(12)、第二管道(13)；所述第一管道(12)上有第一閥門 (6)和第二閥門(8);所述第二管道(13)上有第三閥門(9);所述第一管道(12)靠近第一閥門(6)的一端連接氮氣儲罐，靠近第二閥門(8)的一端連接氣封倉(2)；所述第二管道(13) 在第二閥門(8)與氣封倉之間通過三通與第一管道(12)連接，另一端連接氫氣儲罐；所述排氣系統(tǒng)包括第三管道(15)、第四管道(16)；所述第三管道(15)上有第四閥門(10);所述第四管道(16)上有第五閥門(11);所述第四管道(16)的一端連接泄漏倉(3)，另一端連接尾氣淋洗系統(tǒng)；所述第三管道(15)在第五閥門(11)與泄漏倉(3)之間通過三通與第四管道 (16)連接，另一端連接檢測中心。
2.如權(quán)利要求1所述一種多晶硅系統(tǒng)用氫壓機系統(tǒng)，其特征在于，所述進氣系統(tǒng)還包括第五管道(14)，第五管道(14)上有第六閥門(7)，所述第五管道(14)在第一閥門(6)與第二閥門(8)之間通過三通與第一管道(12)連接，另一端連接室外排空系統(tǒng)。
專利摘要本實用新型公開了一種多晶硅系統(tǒng)用氫壓機系統(tǒng)，包括進氣系統(tǒng)、氫壓機、排氣系統(tǒng)。氫壓機從左向右依次為油池、氣封倉、泄漏倉、壓縮氣缸，活塞桿在四個腔體中運動。進氣系統(tǒng)包括第一管道(12)、第二管道(13)、第五管道(14)；排氣系統(tǒng)包括第三管道(15)、第四管道(16)；第一管道(12)一端連接氮氣儲罐，一端連接氣封倉，第二管道(13)一端與第一管道(12)連接，一端連接氫氣儲罐，第四管道(16)的一端連接泄漏倉，一端連接尾氣淋洗系統(tǒng)，第三管道(15)一端與第四管道(16)連接，一端連接檢測中心。本實用新型避免了三氯氫硅進入油池，也減小了多晶硅系統(tǒng)中進入雜質(zhì)的可能。
文檔編號C01B33/03GK202201712SQ20112027072
公開日2012年4月25日 申請日期2011年7月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月28日
發(fā)明者孟昱良, 楊刊, 陳駿 申請人:河北東明中硅科技有限公司